低溫合成技術(shù)ppt課件(參考版)
2025-05-09 00:55本頁(yè)面
【正文】 作業(yè)： 低溫的獲得途徑有那些？ 低溫?zé)犭娕嫉淖⒁馐马?xiàng)？ 舉一個(gè) 低溫在材料合成中應(yīng)用的實(shí)例？ 。經(jīng)努力，現(xiàn)在冷卻速度已達(dá) 106~107 ℃ /S。液態(tài)金屬粘度小，流動(dòng)性很大， 形成非晶態(tài)的冷卻速度必須為 104~108 ℃ /S。 其基本原理與玻璃的轉(zhuǎn)變過(guò)程類似，僅是冷卻速度不同而已。如 Sn、 In、 Te等需摻入 10%~20%的第二組分才能穩(wěn)定非晶結(jié)構(gòu)。還有些元素即使在這樣的低溫下也不形成非晶態(tài)或是形成了也極不穩(wěn)定。對(duì)某些材料 (如 Ni一 Si)可在室溫底板上獲得非晶態(tài)。 ? 氣相淬火法 系指 真空蒸鍍法和濺射法，元素呈原子狀態(tài) (氣相 )迅速地凝固在底板上。 用同樣的方法，如果在真空系統(tǒng)通入 N NHCH O2等氣體即可合成金屬的氧化物、氮化物、碳化物等超微粒子。用電阻、高頻、電弧等離子體、激光、濺射、電子束等加熱金屬，使之熔融氣化，金屬原子或原子團(tuán)在低溫的不活潑性氣體中驟冷成煙狀，煙粒子附著在器壁上，漸漸落到基板上，即可得金屬超微粒子。 SiH4用一 196 ℃ (戊烷作冷媒 )的捕集器收取。但精確度低，因?yàn)榈蜏剌椛淠芰康停野l(fā)射的常常是波長(zhǎng)較長(zhǎng)的紅外線。常用的有鉑電阻溫度計(jì)、鍺電阻溫度計(jì)、碳電阻溫度計(jì)、銠鐵電阻溫度計(jì)等。 ? 低溫?zé)犭娕?（ 200～ 2022℃ ） ： 與高溫?zé)犭娕疾煌帲? 1）絲徑更細(xì)，滿足低溫下漏熱少； 2）焊接點(diǎn)要能承受低溫，不脫離。 液體氣化制冷控制溫度 ： 蒸汽 液體 制冷裝置恒溫 加壓液化 低壓汽化 抽走 加入 降溫吸附 加熱解吸 制冷過(guò)程 回收過(guò)程 最簡(jiǎn)單的一種液體浴低溫恒溫器如圖所示，它可以用于保持 70 ℃ 以下的溫度。 冷浴的溫度會(huì)隨環(huán)境
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