【正文】 Not_present[29] := FALSE。 Not_present[27] := FALSE。 Not_present[25] := FALSE。 Not_present[23] := FALSE。 Not_present[21] := FALSE。 Not_present[19] := FALSE。 Not_present[17] := FALSE。 Not_present[15] := FALSE。 Not_present[13] := FALSE。 Not_present[11] := FALSE。 Not_present[9] := FALSE。 Not_present[7] := FALSE。 Not_present[5] := FALSE。 Not_present[3] := FALSE。 Not_present[1] := FALSE。 DP_activation_busy[47] := FALSE。 DP_activation_busy[45] := FALSE。 DP_activation_busy[43] := FALSE。 DP_activation_busy[41] := FALSE。 DP_activation_busy[39] := FALSE。 DP_activation_busy[37] := FALSE。 DP_activation_busy[35] := FALSE。 DP_activation_busy[33] := FALSE。 DP_activation_busy[31] := FALSE。 DP_activation_busy[29] := FALSE。 DP_activation_busy[27] := FALSE。 DP_activation_busy[25] := FALSE。 DP_activation_busy[23] := FALSE。 DP_activation_busy[21] := FALSE。 DP_activation_busy[19] := FALSE。 DP_activation_busy[17] := FALSE。 DP_activation_busy[15] := FALSE。 DP_activation_busy[13] := FALSE。 DP_activation_busy[11] := FALSE。 DP_activation_busy[9] := FALSE。 DP_activation_busy[7] := FALSE。 DP_activation_busy[5] := FALSE。 DP_activation_busy[3] := FALSE。 DP_activation_busy[1] := FALSE。 Fault[47] := FALSE。 Fault[45] := FALSE。 Fault[43] := FALSE。 Fault[41] := FALSE。 Fault[39] := FALSE。 Fault[37] := FALSE。 Fault[35] := FALSE。 Fault[33] := FALSE。 Fault[31] := FALSE。 Fault[29] := FALSE。 Fault[27] := FALSE。 Fault[25] := FALSE。 Fault[23] := FALSE。 Fault[21] := FALSE。 Fault[19] := FALSE。 Fault[17] := FALSE。 Fault[15] := FALSE。 Fault[13] := FALSE。 Fault[11] := FALSE。 Fault[9] := FALSE。 Fault[7] := FALSE。 Fault[5] := FALSE。 Fault[3] := FALSE。 Fault[1] := FALSE。 Error := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。我不僅學(xué)到了知識(shí)，而且學(xué)到了做人的準(zhǔn)則 和嚴(yán)謹(jǐn)?shù)闹螌W(xué)作風(fēng) ? 。還有一些實(shí)驗(yàn)的數(shù)據(jù)和圖示也不能拷貝出來(lái) 與大家一起探討和做更深一步的研究。當(dāng)然好的工藝配方也要好的母盤(pán)設(shè)備和周邊設(shè)備的支持，不然產(chǎn)品質(zhì)量出現(xiàn)問(wèn)題就很難查找原因。 在整個(gè)自動(dòng)化運(yùn)行過(guò)程里面，它的工藝配方是最重要的。母盤(pán)自動(dòng)化生產(chǎn) 線是一個(gè)很大的工程，即使有 一面考慮不周都有可能造成停產(chǎn)。 圖 42 濺鍍機(jī)打開(kāi) 圖 43 濺鍍機(jī)關(guān)閉 5 全文總結(jié) 結(jié)論 本文首先對(duì)對(duì)母盤(pán)的基本參數(shù)進(jìn)行了簡(jiǎn)要的說(shuō)明，按照順序依次介紹了母盤(pán)自動(dòng)化生產(chǎn)線的建廠環(huán)境、電力配置、周邊設(shè)備的選型和部署。 這里關(guān)于濺鍍的方面的知識(shí)在上面已有提及，在此不在討論。這里的分子泵必須等到機(jī)械泵抽到一定真空度才能啟動(dòng)，因?yàn)橛捎诜肿颖萌~片的高速旋轉(zhuǎn)，空氣的阻力會(huì)將它打 碎，分子泵停止時(shí)也是一樣的，不能斷電馬上關(guān)掉，必須讓它緩慢的停下來(lái)，然后再關(guān)掉機(jī)械泵。為了使濺射物更均勻的附著，加載母盤(pán)的機(jī)械手以設(shè)定的速度在不 停的勻速旋轉(zhuǎn)。 六、濺鍍機(jī)的自動(dòng)控制， 這是 母盤(pán) 生產(chǎn)線 上最重要 一個(gè)工藝 之一 ，也是一個(gè)牽扯知識(shí)面比較廣的領(lǐng)域。顯影液的旋涂方法跟上面的清洗、旋涂的原理是一 樣的，這里就不再探討。雷射光刻錄在涂有光阻劑的玻璃基版上，在顯影機(jī)藉顯影液將受曝光的點(diǎn)洗去，而顯像出有訊號(hào)的凹凸坑洞 。 五、顯影工藝的自動(dòng)控制，顯影工藝其實(shí)要到 LBR刻錄完之后才進(jìn)行，這里排在前面是因?yàn)?，它的結(jié)構(gòu)與清洗和旋涂很相近，所以才把它跟這兩個(gè)放到一塊探討。驅(qū)動(dòng)器走的是速度 時(shí)間模式。它跟清洗的結(jié)構(gòu)基本上是一樣的，為了保證旋涂的均勻性，母盤(pán)會(huì)按照一定的速度旋轉(zhuǎn)，旋涂手會(huì)沿著母盤(pán)的中心和邊沿來(lái)回?cái)[動(dòng)。它旋轉(zhuǎn)的同時(shí)要有足夠的真空度來(lái)吸附住母盤(pán)，在它高速旋轉(zhuǎn)的時(shí)候不被甩出去。旋轉(zhuǎn)走的是速度 時(shí)間模式，通過(guò) PARK的伺服驅(qū)動(dòng)器 電機(jī)去控制，可以把它做成 8段速，可以留有足夠的盈余。毛刷的旋轉(zhuǎn)和來(lái)回?cái)[動(dòng)有利于清潔的均勻性。 三、清洗工藝的自動(dòng)控制，為了清除玻璃基盤(pán)上的附著物，避免這些附著物影響生產(chǎn)工藝，必須加一道清洗工藝?？稍试S工程師修改參數(shù)，但是不能允許他復(fù)位報(bào)警、警報(bào)記錄等等 …… 。 在生產(chǎn)的過(guò)程中，因?yàn)榉止さ牟煌?，還可以將用戶權(quán)限分為幾種，比如說(shuō)我們可以將他分為三個(gè)權(quán)限：操作員、工程師、管理員。 在這個(gè)系統(tǒng)中，每道工序都有它自己的參數(shù)，這些參數(shù)根據(jù)環(huán)境、母盤(pán)的狀態(tài)需要更改，所以這就需要在做的時(shí)候留出足夠多的參數(shù)。這樣可以讓操作員進(jìn)行判斷。這樣就可以解決這個(gè)問(wèn)題。如果這個(gè)問(wèn)題不能夠很好的解決，將造成系統(tǒng)執(zhí)行的混亂，也會(huì)出現(xiàn)重復(fù)執(zhí)行的現(xiàn)象。 這時(shí)生產(chǎn)系統(tǒng)生產(chǎn)堵塞的問(wèn)題解決了，又會(huì)產(chǎn)生一個(gè)新的問(wèn)題。 母盤(pán)生產(chǎn)線的自動(dòng)化控制 這是一個(gè)自動(dòng)化的生產(chǎn)系統(tǒng)，它的生產(chǎn)也必須是大批量的生產(chǎn)，所以，在這個(gè)設(shè)備上，必須可以同時(shí)滿足多個(gè)母盤(pán)的同時(shí)生產(chǎn)，從基盤(pán)清洗到濺鍍機(jī)鍍膜，這中間的 任何一個(gè)工序如果正在運(yùn)行中，那么上一個(gè)工序已經(jīng)完成的盤(pán)就無(wú)法在這個(gè)上進(jìn)行，如果它一直在這個(gè)位置等待的話，就會(huì)影 響它上面工序的進(jìn)行，如此一來(lái)，因?yàn)橐粋€(gè)工序的等待，將會(huì)引起生產(chǎn)的堵塞。特別注意的是在更換金屬靶材后，由 于靶材不良、安裝不當(dāng)或者保養(yǎng)不到位，常常會(huì)出現(xiàn)不能產(chǎn)生電場(chǎng)而無(wú)法濺鍍的情況。 如果濺鍍倉(cāng)的真空度可以達(dá)到規(guī)范值，但是無(wú)法濺鍍或者濺鍍效果達(dá)不到要求，應(yīng)該考慮電場(chǎng)、磁場(chǎng)或環(huán)境條件（如：氬氣、冷卻水）的原因。而氬離子撞擊靶材的另一部份動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱，因此靶材必須用冷卻水冷卻。注入氬氣到濺鍍腔，這時(shí)濺鍍腔的 真空 度降至 ~10E－ 3mbar 范圍，此時(shí)對(duì)靶材（陰極）和盤(pán)片（陽(yáng)極）之間施以幾百伏特的直流電壓，使氬氣在電場(chǎng)中被離子化，產(chǎn)生氬離子及自由電子、在電場(chǎng)的作用下，帶正電荷的氬離子向陰極（靶材）加速，而自由電子向陽(yáng)極加速，被加速的氬離子和自由電子撞向其他氬原子，因動(dòng)能轉(zhuǎn)移使更多的氬原子被離子化，最后產(chǎn)生雪崩現(xiàn)象，等離子體持續(xù)自行放電。首先要在 真空 環(huán)境條件下，高 真真空 可以減少氧化物的產(chǎn)生；使用惰性工藝氣體，通常為氬氣，作為離子介質(zhì)撞擊靶材；形成電場(chǎng) —— 靶材為陰極，盤(pán)片為陽(yáng)極；在濺鍍 真空 倉(cāng)內(nèi)，用強(qiáng)力磁鐵產(chǎn)生磁場(chǎng)；由于濺鍍時(shí)產(chǎn)生高熱，須用冷卻水對(duì)陰極進(jìn)行及時(shí)冷卻。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好。 五、濺鍍鍍膜， 主要利用輝光放電（ glow discharge）將氬氣（ Ar）離子撞擊靶材 （ target）表面；靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。充分顯影可得較大的槽壁傾斜角，但要求該光刻膠經(jīng)得起充分的顯影。采用統(tǒng)計(jì)的方法對(duì)所得到的圖形進(jìn)行計(jì)算并獲得預(yù)刻槽的深度、寬 度和槽壁傾斜角的可靠數(shù)據(jù) 。為了檢測(cè)預(yù)刻槽對(duì)可寫(xiě)入光盤(pán)性能的影響可以制作多段不同槽寬的母盤(pán)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。 在一般情況下，使用 458nm波長(zhǎng)的激光進(jìn)行刻錄可是槽壁傾斜角在 55度左右，使用 351nm波長(zhǎng)的激光進(jìn)行刻錄可使 槽壁傾斜角 為 60度 65度，同時(shí)激光刻錄功率的強(qiáng)弱和顯影是否充分也在一定程度上影響槽壁傾斜角。預(yù)刻槽的寬度、槽壁傾斜角及擺動(dòng)幅度的控制包括一下幾個(gè)方面： 調(diào)節(jié)激光刻錄功率和顯影程度以控制預(yù)刻槽的寬度，使用原子力顯微鏡檢查槽的寬度?？啼浛刂葡到y(tǒng)在 ATIP的起始半徑位置向母盤(pán)信號(hào)發(fā)生系統(tǒng)發(fā)出啟動(dòng)信號(hào)，該信號(hào)發(fā)生系統(tǒng)按照 ATIP時(shí)間的遞增、專用信息 1/2/3和附加信息 1/2/3產(chǎn)生以模擬調(diào)頻和數(shù)字雙相位調(diào)制的方式編碼于具有徑向擺動(dòng)的正弦信號(hào)，以控制刻錄系統(tǒng) 中的 AOM調(diào)制器，從而產(chǎn)生擺動(dòng)的刻錄激光。 二、刻錄 ，將母盤(pán)設(shè)計(jì)得到的各項(xiàng)數(shù)據(jù)作為必要的指令參數(shù)，分別傳遞給信號(hào)發(fā)生系統(tǒng)和刻錄控制系統(tǒng)。膠層的厚度及其均勻性，并用原子力顯微鏡 合適母盤(pán)上預(yù)刻槽的深度。 對(duì)光刻膠的堅(jiān)膜過(guò)程進(jìn)行時(shí)間、溫度和均勻性的控裝載白玻璃基 盤(pán) 基盤(pán)清洗 CAL 液體旋涂 Hard 加熱 冷卻 PR液體旋涂 PR加熱 去 LBR 刻錄 顯影 濺鍍機(jī)鍍膜 完成卸盤(pán) 制，以提高刻錄和顯影的效果。 采用分步旋涂，確保光刻膠層厚度的分布均勻性（約 20A）。 母盤(pán)制造的主要工藝流程（指的是玻璃為基盤(pán)的母盤(pán)自動(dòng)化生產(chǎn)）如圖 41 所示， 圖 41 母盤(pán)生產(chǎn)的工藝流程 一、玻璃基盤(pán)上光刻膠的制備， 選擇適當(dāng)性能的光刻膠，一般可取制作通用DVD盤(pán)片的光刻膠。最后涂保護(hù)膠和沖中心孔。玻璃母盤(pán)在顯影之后要 進(jìn)一步用波長(zhǎng) 380nm紫外線照射，目的是使電鑄后分離的壓模上殘余的光刻膠易于清洗，也防止濺鍍時(shí)光刻膠的交叉鏈接；然后濺鍍一層鎳。接著，將鎳盤(pán)片放在波長(zhǎng) 380nm的紫外線光下照射，使盤(pán)基片上的曝光部分與非曝光部分的分解速度差別明顯，使非曝光的部分基本保持不變，讓曝光部分在顯影液中充分溶解?？啼浲瓿芍螅瑢?duì)于玻璃母盤(pán)需要立即顯影（ ODC 母盤(pán)制造工藝不需要顯影工序），而直接刻錄母盤(pán)在顯影之前需要增加兩個(gè)工序。首先將清洗后并經(jīng)過(guò)挑選的可用玻璃基盤(pán)放入設(shè)備，再次用純水清洗、甩干，旋涂規(guī)定厚度的光刻膠，烘干、冷卻后進(jìn)入激光刻錄，接著顯影、 UV 照射、濺鍍；然后 檢查基盤(pán)上是否有缺陷，如果正常經(jīng)清洗可進(jìn)入電鑄工序，電鑄后若無(wú)缺陷，清洗 、 UV 照射去除殘余光刻膠，旋涂保護(hù)膠、烘干；最后拋光、切邊沖孔、檢 測(cè)。這里僅根據(jù)多年從事 設(shè)計(jì)、工藝、設(shè)備維修保養(yǎng)經(jīng)驗(yàn)，介紹母盤(pán)生產(chǎn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中 應(yīng)注意的各個(gè)環(huán)節(jié)，希望能對(duì)新廠的建設(shè)有一點(diǎn)的幫助。 整體系統(tǒng)的建立不可能有一個(gè)固定的模式。需要注意的是，空壓機(jī)散熱器處要做好排風(fēng)管路，使散熱氣的熱量迅速排出，保持室內(nèi)適合的工作溫度，以保證空壓機(jī)不會(huì)因?yàn)檫^(guò)熱使得潤(rùn)滑油污染整個(gè)空氣系統(tǒng)。一般母盤(pán)設(shè)備的用氣 ，在儲(chǔ)氣罐后設(shè)置冷干機(jī)、過(guò)濾器組，同時(shí)在每個(gè)用氣設(shè)備入口也 必須裝有過(guò)濾器和壓力表。 另外一點(diǎn)非常重要，是必須保證壓縮空氣的潔凈。該方案的優(yōu)點(diǎn)是：停機(jī)維修方便，生產(chǎn)損失少，安裝靈活，便于工廠的積累式滾動(dòng)發(fā)展。 對(duì)于一些工廠分期擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模，也可采用局部集中供氣，例如，一個(gè)壓縮空氣系統(tǒng)供給十六條母盤(pán)線。 壓縮空氣系統(tǒng)一般采用集中供氣，優(yōu)點(diǎn)是：總投資少，設(shè)備占用空間小，便于維護(hù)保養(yǎng)，