【正文】 Not_present[28] := FALSE。 Not_present[24] := FALSE。 Not_present[20] := FALSE。 Not_present[16] := FALSE。 Not_present[12] := FALSE。 Not_present[8] := FALSE。 Not_present[4] := FALSE。 DP_activation_busy[48] := FALSE。 DP_activation_busy[44] := FALSE。 DP_activation_busy[40] := FALSE。 DP_activation_busy[36] := FALSE。 DP_activation_busy[32] := FALSE。 DP_activation_busy[28] := FALSE。 DP_activation_busy[24] := FALSE。 DP_activation_busy[20] := FALSE。 DP_activation_busy[16] := FALSE。 DP_activation_busy[12] := FALSE。 DP_activation_busy[8] := FALSE。 DP_activation_busy[4] := FALSE。 Fault[48] := FALSE。 Fault[44] := FALSE。 Fault[40] := FALSE。 Fault[36] := FALSE。 Fault[32] := FALSE。 Fault[28] := FALSE。 Fault[24] := FALSE。 Fault[20] := FALSE。 Fault[16] := FALSE。 Fault[12] := FALSE。 Fault[8] := FALSE。 Fault[4] := FALSE。 Busy := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 := FALSE。 致 謝 感謝 學(xué)校 對我?guī)啄甑呐囵B(yǎng)！ 感謝 學(xué)校 我在學(xué)術(shù)上的諄諄教誨。機(jī)器性能再好，如果配方是錯(cuò)誤的一樣生產(chǎn)不出合格的產(chǎn)品。 并著重介紹了激光刻錄 工藝，以及激光刻 錄 元器件的原理和選型、各個(gè)廠家激光器優(yōu)劣的比較。濺鍍的作用主要是讓母盤產(chǎn)生一個(gè)反射層，同時(shí)這層濺鍍膜對母盤也起到一定的保護(hù)作用。在這里他利用的原理大概是，通過機(jī)械泵的預(yù)真空和分子泵的抽空濺鍍腔室，使濺鍍腔室達(dá)到一定的真空度，然后再通入惰性氣體氬氣，利用 AE直流電源來電離出電子，同時(shí)產(chǎn)生一個(gè)很強(qiáng)的磁場，電子順著強(qiáng)磁場做高速運(yùn)動，去撞擊裝在陰極上的靶材，使靶材釋放帶電的離子很均勻的附著在母盤的盤面上。 顯影機(jī)附有一偵測顯影終點(diǎn)的光感應(yīng)之光電二極管，形成的坑點(diǎn)是符合規(guī)格可以讀取的訊號，并可匹配于射出機(jī)模座，容易使射出片與母版分離而完全復(fù)制 。 在旋轉(zhuǎn)的同時(shí)要有足夠的真空度 來吸附住母盤，以保證在它高速旋轉(zhuǎn)的時(shí)候不會被甩出去。 四、旋涂工藝的自動控制，作為信息的記錄層要靠旋涂特殊物質(zhì)來記錄信息，這里根據(jù) 工藝的要求，要旋涂兩次，第一次要旋涂 CAL液體，然后再把母盤放到加熱爐里進(jìn)行加熱，這里母盤的材質(zhì)是玻璃，隨著溫度的升高，母盤會變形，所有母盤的下面要放一個(gè)托盤，等加熱到一定的時(shí)間放到冷卻爐去冷卻，冷卻到一定時(shí)間，然后再旋涂 PR液體。在毛刷旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，母盤也要跟著旋轉(zhuǎn)，它的益處在于能夠使清洗的更潔凈，同時(shí)還可以利用旋轉(zhuǎn)的離心力把洗滌劑甩出去。管理員就可以擁有所有的權(quán)限 。 二、密碼權(quán)限的限制，因?yàn)?機(jī)器要嚴(yán)格按照工藝的要求去執(zhí)行，為了防止有人更改里面的參數(shù)，當(dāng)然里面的技術(shù)、工藝參數(shù)也屬于公司的保密項(xiàng)，所以為了防止非法的進(jìn)入，就要設(shè)置一個(gè)登錄畫面。在 PLC中已經(jīng)可以體現(xiàn)了這種做法，在觸摸屏上緩存臺的每一層，按工序暫存到緩存臺上的，在它的右邊都會標(biāo)注出已經(jīng)完成的工序。如何讓緩存臺記住已經(jīng)完成的工序，下一步該走什么工序。另外，濺鍍機(jī)的冷卻水也是非常重要的外部條件，它將影響濺鍍源，沒冷卻水，冷卻水流量計(jì)錯(cuò)誤以及電磁閥故障部將導(dǎo)致無法濺鍍，因?yàn)闉R鍍機(jī)有自身保護(hù)的設(shè)置。為使盤片濺鍍層的厚度均勻，靶材周圍的磁場分布會提高等離子體的一致性。 母盤 的濺鍍過程：先將濺鍍腔抽 真空 達(dá)到設(shè)定值，將盤片放入腔內(nèi)， 真空 腔內(nèi)盤片會被抽真 真空 至高 真空 high vacuum－ 10E4mbar 范圍。同時(shí)用 強(qiáng)力磁鐵將電子呈螺旋狀運(yùn)動，加速靶材周圍的氬氣離子化，使得氬氣離子對陰極靶材的撞擊機(jī)率增加，形成雪崩式的狀態(tài)，以此提高濺鍍速率。 三、顯影，調(diào)節(jié)顯影時(shí)間或顯影電壓以控制顯影的程度是形成理想預(yù)刻槽形狀的重要工藝之一。 調(diào)節(jié)正弦刻錄信號的幅度（ 01V），以控制母盤預(yù)刻槽的擺動幅度，使得復(fù)制后得到的寫入光盤的預(yù)寫槽具有必要的擺動幅度。該刻錄激光在光刻膠層產(chǎn)生一條被曝了光的軌跡方向上具有一個(gè)幅度為 2543nm的正弦擺動，其基本頻率為 ，頻率偏移為正負(fù) 1kHz，即周期長度約為 5464微米。一般情況下，預(yù)刻槽的深度為 180250nm。 調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)速度，以對光刻膠層不同厚度的要求進(jìn)行控制。簡化了電鑄、壓模與玻璃分離、壓模表面化學(xué)處理和清洗、壓模背面拋光、切邊等工序。在顯影之后的工序里，直接刻錄母盤 與玻璃母盤完全不同。 如果母盤使用了預(yù)制的專用鎳基盤，常規(guī)玻璃母盤在刻錄之前的玻璃清洗、旋涂光刻材料、烘烤、冷卻工序就都不需要了。一個(gè)好的方案應(yīng)該建立在對母盤生產(chǎn)設(shè)備及其工藝、外圍設(shè)備的充分了解和熟悉，并結(jié)合不同地域環(huán)境情況的差別，按照不同工廠的具體狀況和要求，靈活結(jié)合實(shí)際的系統(tǒng)設(shè)計(jì)。如果希望系統(tǒng)更加潔凈可靠，在冷干機(jī)之后加裝吸附式干燥機(jī)。缺點(diǎn)是：總體投資大，能耗高，設(shè)備占用空間大，維護(hù)成本較高。缺點(diǎn)是：一旦發(fā)生故障，停機(jī)維 修損失較大，因此，一定要有備用的設(shè)備，以減少停產(chǎn)損失。若管路短，查找簡單判斷容易，解決問題快。壓縮空氣站的位置應(yīng)距離用氣點(diǎn)較近，管路口徑應(yīng)選擇合理，便于維修。既影響到了生產(chǎn)又增加了維修成本，同時(shí)又對母盤的質(zhì)量產(chǎn)生影響。該系統(tǒng)主要水源取自當(dāng)?shù)刈詠硭?，?yīng)根據(jù)當(dāng)?shù)厮|(zhì)情況選擇合理的水處理方案。 冷水機(jī)應(yīng)能按使用設(shè)備要求的水溫范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。冷卻水系統(tǒng)主要考慮以下幾點(diǎn)： 系統(tǒng)中儲水罐、管路的防腐，利于保持水的凈化。缺點(diǎn)是一旦停機(jī)維修所造成的損失比較大，所帶的多臺設(shè)備都不能正常工作。如果是日本設(shè)備， 采購時(shí)要確定送電規(guī)格及相應(yīng)的解決辦法。一般外圍設(shè)備廠房應(yīng)設(shè)置在無日曬和通風(fēng)好的區(qū)域，或者在廠房設(shè)計(jì)上采用人工強(qiáng)制通風(fēng)降溫等方法。 用于母盤生產(chǎn)的廠房應(yīng)考慮遠(yuǎn)離振動源，以確保母盤質(zhì)量。例如，車間與車間之間相距太遠(yuǎn)，增加了中間的轉(zhuǎn)運(yùn)工序和人員，使得生產(chǎn)成本增高，有時(shí)還會影響到產(chǎn)品的質(zhì)量，因?yàn)樯a(chǎn)環(huán)節(jié)越多，出問題的機(jī)會就越大。要考慮采光、通風(fēng)、采暖、制冷，盡可能利用自然方式，減少人工方式的能耗。 超凈車間的潔凈條件 應(yīng)考慮生產(chǎn)的實(shí)際需要，母盤制作要求是最嚴(yán)格的，復(fù)制、檢測次之，印刷再次之，所以生產(chǎn)人員和產(chǎn)品不能逆向流動，以免破壞環(huán)境潔凈度。 原材料、成品的進(jìn)出要方便，要考慮到大型運(yùn)輸車輛的進(jìn)出裝卸。 根據(jù)生產(chǎn)主設(shè)備的要求，計(jì)算配套外圍設(shè)備的種類、數(shù)量和技術(shù) 要求，同樣選擇幾家供應(yīng)商要求提供設(shè)備價(jià)格和技術(shù)數(shù)據(jù)等，擇優(yōu)選購。 母盤設(shè)備的建廠布局 一、確定工廠設(shè)計(jì)生產(chǎn)能力， 規(guī)劃產(chǎn)品類型（ CDR 母盤、 DVDR 母盤、藍(lán)光母盤）、年產(chǎn)量。這一原則應(yīng)貫穿整個(gè)工藝設(shè)計(jì)過程中，以保證今后的發(fā)展不因廠房設(shè)計(jì)不 合理而阻滯。 首先要確定工廠的生產(chǎn)能力，年產(chǎn)量、產(chǎn)品規(guī)格、類型（ CD 母盤、 DVD 母盤、藍(lán)光母盤等） 。 母盤生產(chǎn)是連續(xù) 24 小時(shí)不停機(jī)生產(chǎn)的，整個(gè)生產(chǎn)體系的任何一個(gè)環(huán)節(jié)都在不斷的運(yùn)行，任一環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題都會造成局部甚至全部停產(chǎn)，帶來重大的經(jīng)濟(jì)損失。許多母盤生產(chǎn)企業(yè)在濺射初期往往只重視主要母盤生產(chǎn)設(shè)備的選型，有的因?yàn)橘Y金緊張?jiān)谶x用周邊設(shè)備方面馬馬虎虎，還有要請一位既懂母盤生產(chǎn)工藝、又熟悉外圍設(shè)備及系統(tǒng)設(shè)計(jì)，并有實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的技術(shù)人員專門從事整體規(guī)劃有一定的困難。如母盤生產(chǎn)中的質(zhì)量問題，盤片上有黑斑，這可能是化學(xué)藥品問題，或是灰塵，或是水質(zhì)問題。由于氬氣氣管管路設(shè)置問題，導(dǎo)致無法濺鍍等等。天氣熱時(shí)由于冷卻水的制冷設(shè)備散 熱不夠?qū)е滤疁亟挡幌聛矶．a(chǎn)。 3 母盤 生產(chǎn)線 的 布局及設(shè)備配置 母盤企業(yè)的生產(chǎn)工藝布局及設(shè)備配置是關(guān)系企業(yè)能否順利投產(chǎn)、保持長期正常生產(chǎn)、達(dá)到較高的生產(chǎn)效率。因此，母盤的開發(fā)工作就是要考慮母盤如何配合有機(jī)染料的性能及其旋涂工藝，使能復(fù)制出符合國際和國內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)的具有高倍速寫入功能的光盤。因此，有機(jī)染料的不同配方 及不同參數(shù)的旋涂工藝，要求不同的溝槽形狀，即需要開發(fā)不同的母盤來適應(yīng)不同的溝槽形狀，即需要開發(fā)不同的母盤來適應(yīng)不同的光盤制作線和制作工藝。因此，要求在母盤上制作一條具有相同道間距的螺旋軌跡的（凸起）臺，盤片預(yù)刻槽的深度和母盤臺的深度基本相同，而母盤臺要比基片預(yù)刻槽 較寬一些。 母盤制作是光盤技術(shù)中的關(guān)鍵技術(shù)。 R 型光盤是一次寫入型可錄光盤，一旦由刻錄機(jī)寫入數(shù)據(jù)后，已錄信息就不能被擦除。為了獲得衍射極限光斑，物鏡會采用多個(gè)不同曲面的透鏡以微米級定位精度裝校來達(dá)到消相差的目的。這種軸上相點(diǎn)被一些彌散光斑所代替所形成的相差稱為球差。 Onh 理論上說，聚焦光斑的直徑（光強(qiáng)分 布的半高度的全寬度）與光的波長成正比。 在刻錄光盤的擺動預(yù)刻槽時(shí)，聲光偏轉(zhuǎn)器改變超聲頻率，從而達(dá)到改變激光束偏轉(zhuǎn)角的目的。調(diào)制信號控制壓電晶體產(chǎn)生超聲波，從而達(dá)到對一級衍射光的信號調(diào)制。 根據(jù)光干涉的加強(qiáng)條件，入射光和衍射光的方向滿足 布拉格方程。 三、聲光調(diào)制器， 聲光器件是由聲光介質(zhì)和換能器兩部分組成。 線偏振光通過半波片其出射的合成光亦是線偏振光，不過振動方向相對入射光的振動方向轉(zhuǎn)了 2￠ （￠為入射光的振動面和晶片主截面夾角）。異形棱鏡的組合也能用來校正半導(dǎo)體激光光束的不對稱，使它從橢圓光束整形成 圓 光束。當(dāng)細(xì)光束入射光學(xué)系統(tǒng)時(shí)，出射光束被擴(kuò)展為較寬的激光束。薄透鏡是指透鏡厚度同透鏡焦距相比可以忽略的 透鏡。共軸面系統(tǒng)是復(fù)雜 光學(xué)系統(tǒng)的基本元件。半導(dǎo)體激光器的使用壽命較長。因此半導(dǎo)體激光器的壽命等于直接使用的壽命。在光路調(diào)試時(shí)，應(yīng)注意不要使反射光進(jìn)入激光器諧調(diào)腔內(nèi)，以免產(chǎn)生不必要的激光噪音。固體激光器和半導(dǎo)體激光器 的偏振態(tài)不如氣體激光器。激光束模式可以用透鏡放大光束，檢查投射到屏上的光斑光強(qiáng)分布的均勻性來作簡單 的 判斷。半導(dǎo)體激光器不需要預(yù)熱，可以直接打開工作。半導(dǎo)體激光器的使用功率為 5mw。母盤刻錄激光的波長要求偏移?。ň€寬窄），而且穩(wěn)定。在母盤刻錄系統(tǒng)中刻錄光源有采用氬離子激光器（ ODME母盤刻錄系統(tǒng)）、氪離子激光器（松下母 盤刻錄系統(tǒng)）、 SHG（二次諧波發(fā)生器）固體激光器（先鋒母盤刻錄系統(tǒng)）和大功率半導(dǎo)體激光器等等 。激光的主要特點(diǎn)是發(fā)散 角小，能沿一條直線傳播，相干性好，相干長度可達(dá)幾十米甚至幾百米。就是要找到具有實(shí)現(xiàn)能級離子數(shù)反轉(zhuǎn)的工作物質(zhì)。專用信息 2，它的內(nèi)容為， 97：96： 00，這個(gè)專用信息為導(dǎo)入?yún)^(qū)的開始時(shí)間。因此，母盤溝槽形狀的設(shè)計(jì)，即確定溝槽的深度、寬度、槽壁傾斜角及擺動幅度是母盤設(shè)計(jì)的重要內(nèi)容之一 。新版的橙皮書在導(dǎo)入?yún)^(qū)之前增加了一個(gè) ATIP的擴(kuò)展區(qū)。同時(shí)確認(rèn)他們的半徑位 置符合規(guī)定（ 22mm59mm） ,并將這些信息傳遞給母盤刻錄系統(tǒng)。設(shè)計(jì)原則是在一定存儲時(shí)間的條件下，選取較大的先速度和道間距，以使寫入數(shù)據(jù) 獲取 較好 的 （抖晃 Jitter 和串?dāng)_ XT 等） 性能。 有關(guān)母盤的數(shù)據(jù)設(shè)計(jì)就是要綜合平衡存儲時(shí)間、道間距、線速度、復(fù)制收縮率和物理半徑之間的關(guān)系，計(jì)算和確定 。 除了 ATIP 時(shí)間碼，一些專用信息和附加信息也是光盤正確運(yùn)行必不可少的重要數(shù)據(jù)。 2 母盤的設(shè)計(jì)及其工程環(huán)境 預(yù)刻槽 ATIP 信息及其信息區(qū)數(shù)據(jù)和物理參數(shù) 按照“橙皮書”的規(guī)格， ATIP 時(shí)間碼以“分：秒：幀”的數(shù)據(jù)格式進(jìn)行計(jì)算， 1分 =60 秒， 1 秒 =75 幀。 母盤自動化研究的目的和意義 目前有一種不需要玻璃基片的母盤制造技術(shù)已經(jīng)商用化。 母盤 生產(chǎn)流程 目前廣泛使用的母盤自動化制造技術(shù)雖然不完全相同，但是都是以玻璃基盤為傳遞載體。在感光材料選用方面，染料聚合物技術(shù)是刻錄時(shí)寫后直讀，利用閉環(huán)反饋技術(shù)實(shí)時(shí)回放讀取信息，根據(jù)反饋信號可優(yōu)化調(diào)整激光刻錄能量，并可以檢查刻錄錯(cuò)誤和缺陷，以利于及時(shí)中斷刻錄，避免了材料和時(shí)間上的浪費(fèi)。t thousands wea