真空蒸發(fā)ppt課件-wenkub.com
2025-05-01 07:24 本頁面
【正文】 ?非熱平衡下生長，可進行超過固溶度極限的高濃度摻雜 。與半導(dǎo)體的其它工藝（離子注入、干法刻蝕、薄膜沉積等）有很好的相容性。 缺點： 昂貴；膜厚不易控制 (單個脈沖就可沉積數(shù)百納米 )；容易有粒子飛濺；蒸發(fā)量少；不適合工業(yè)生產(chǎn)； 風(fēng)車式的擋板 蒸發(fā)法在工業(yè)生產(chǎn)上的應(yīng)用 (Web Coating) 包裝紙，電容紙，裝飾紙 m， 10m/s， 5mm/s 21 1 e xp( /a pqT T hL v c dh ???? ? ? ???)(dtdTdc 1p TThq a ????討論： 分子束外延 (MBE) 超高真空 108Pa，分子束流直接噴射到襯底。 Glancing angle deposition (GLAD) Schematic of the glancing angle deposition system used to create tetragonal square spiral structures. Nature, 384, 616 (1996), J. Vac. Sci. Technol. B 16, 1115 (1998), J. Vac. Sci. Technol. A 18, 1838(2022) J. Vac. Sci. Technol. A, 18, 2509(2022) Oblique and edge views of a tetragonal square spiral structure Scott R. Kennedy, et al Nano Letters Between the 4th and 5th bands, very robust to disorder. 15%, 24% 真空蒸發(fā)裝置 真空蒸發(fā)加熱裝置 真空蒸發(fā)加熱裝置 真空蒸發(fā)加熱裝置 真空蒸發(fā)加熱裝置 蒸發(fā)坩鍋種類 A small effusion source using a PBN oven 電阻蒸發(fā)源材料： W， Mo， Ta， BN， C 等 . 熔點高 , 平衡蒸汽壓低 ,化學(xué)性能穩(wěn)定。 關(guān)系曲線 點蒸發(fā)源的膜厚分布： 2/32011???????????????
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