【總結(jié)】2022/5/30《等離子體天體物理》課程講義(6)1等離子體天體物理學(xué)導(dǎo)論中國(guó)科學(xué)院國(guó)家天文臺(tái)顏毅華2022/5/30《等離子體天體物理》課程講義(6)2第三部分動(dòng)力論等離子體物理D.B.Melrose在等離子體的動(dòng)力論里,粒子由分布函數(shù)描述,其演化由運(yùn)動(dòng)方程所確定。
2025-05-02 18:37
【總結(jié)】目錄一等離子體的概述二低溫等離子聚合三小結(jié)和展望等離子體聚合一等離子體的概述1等離子體的概念固體氣體等離子體()蒸發(fā)()電離粒子的動(dòng)能
【總結(jié)】、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)的第四態(tài),當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí),氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過(guò)程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到分解污染物的目的。
2024-11-07 09:53
【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝第2章 半導(dǎo)體制造工藝概況第2章 半導(dǎo)體制造工藝概況 引言 器件的隔離 雙極型集成電路制造工藝 CMOS器件制造工藝 引言集成電路的制造要經(jīng)過(guò)大約450道工序,消耗6~8周的時(shí)間,看似復(fù)雜,而實(shí)際上是將幾大工藝技術(shù)順序、重復(fù)運(yùn)用的過(guò)程,最終在硅片上實(shí)現(xiàn)所設(shè)計(jì)的圖形和電學(xué)結(jié)構(gòu)。在講述各個(gè)工藝之前,介紹一下集成電路芯片的加工工藝過(guò)程
2025-03-01 04:30
【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)第七章?離子注入原理(上)有關(guān)擴(kuò)散方面的主要內(nèi)容?費(fèi)克第二定律的運(yùn)用和特殊解?特征擴(kuò)散長(zhǎng)度的物理含義?非本征擴(kuò)散?常用雜質(zhì)的擴(kuò)散特性及與點(diǎn)缺陷的相互作用?常用擴(kuò)散摻雜方法?常用擴(kuò)散摻雜層的質(zhì)量測(cè)量Distribution?according?
2025-03-01 12:18
【總結(jié)】擴(kuò)散半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)本章重點(diǎn)?摻雜的目的;?摻雜的方法;?恒定源擴(kuò)散;?有限源擴(kuò)散;?摻雜:摻雜技術(shù)是在高溫條件下,將雜質(zhì)原子以一定的可控量摻入到半導(dǎo)體中,以改變半導(dǎo)體硅片的導(dǎo)電類(lèi)型或表面雜質(zhì)濃度。?形成PN結(jié)、電阻?磷(P)、砷(As)——N型硅?硼(B)
2025-02-28 11:58
【總結(jié)】“低溫等離子體”廢氣治理專利技術(shù)介紹復(fù)旦-派力迪污染控制工程研究中心上海派力迪環(huán)保工程有限公司山東派力迪環(huán)保工程有限公司目錄一.等離子體原理及簡(jiǎn)介二.技術(shù)開(kāi)發(fā)歷程三.科研成果簡(jiǎn)介四.社會(huì)關(guān)注五.試驗(yàn)平臺(tái)及中試設(shè)備六.工程應(yīng)用及樣板工程七.技術(shù)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)
2025-05-07 22:17
【總結(jié)】等離子體表面處理技術(shù)講座-深圳奧坤鑫科技有限公司網(wǎng)址制作人:鐘婭1、什么是等離子體及怎樣建立等離子體;等離子體(中文)=PLASMA(英文)=電漿(臺(tái)灣)?等離子體的發(fā)現(xiàn):1879、英國(guó)物理學(xué)家、WilliamCrookes物質(zhì)第四狀態(tài)1929、美國(guó)化學(xué)物理學(xué)家、La
2025-04-30 04:34
【總結(jié)】以下是西安交通大學(xué)最新的光機(jī)電一體化方面的科研成果信息,如企業(yè)對(duì)某個(gè)科研成果有合作意向,可注冊(cè)寧波市產(chǎn)學(xué)研創(chuàng)新服務(wù)平臺(tái)()企業(yè)會(huì)員查看專家聯(lián)系方式,也可聯(lián)系生產(chǎn)力促進(jìn)中心詢問(wèn)專家的聯(lián)系方式進(jìn)行洽談。聯(lián)系人:俞文明聯(lián)系電話:0574-27877186快速成形集成制造系統(tǒng)負(fù)責(zé)人:盧秉恒所在院所:西安交通大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院先進(jìn)制
2025-07-30 05:56
【總結(jié)】等離子體物理學(xué)(二)李毅?等離子體中,電場(chǎng)、磁場(chǎng)、速度、密度、壓力、溫度等任何一個(gè)物理量一般會(huì)隨空間和時(shí)間變化。?擾動(dòng)量原則上它可以分解為各個(gè)平面波的疊加,即:?其中為波的幅度,是物理量的Fourior分解:?對(duì)于其中任意一支平面波來(lái)說(shuō),k為波矢,w為頻率。?這里我們
2025-08-01 13:37
【總結(jié)】表面等離子共振技術(shù)05醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)馬吟醒朱倩薛夏沫黃辰簡(jiǎn)介?表面等離子共振技術(shù)(SurfacePlasmonResonancetechnology,SPR)是20世紀(jì)90年代發(fā)展起來(lái)的,應(yīng)用SPR原理檢測(cè)生物傳感芯片(biosensorchip)上配位體與分析物作用的一種新技術(shù)。發(fā)展簡(jiǎn)史?1902年,Wo
2025-05-14 08:05
【總結(jié)】等離子體刻蝕2工藝流程介紹硅片檢測(cè)制作絨面酸洗管式PECVD等離子刻蝕去PSG擴(kuò)散絲網(wǎng)印刷燒結(jié)檢測(cè)分選包裝3目錄?等離子體的原理及應(yīng)用?等離子刻蝕原理?等離子刻蝕過(guò)程及工藝控制?檢驗(yàn)方法及原理4什么是等離子體??隨著溫度的升高,一般
2025-05-03 02:48
【總結(jié)】半導(dǎo)體制程簡(jiǎn)介——芯片是如何制作出來(lái)的基本過(guò)程?晶園制作–WaferCreation?芯片制作–ChipCreation?后封裝–ChipPackaging第1部分晶園制作多晶生成?PolySiliconCreation1–目前半導(dǎo)體制程所使用的主要原料就是晶園(Wafe
2025-08-05 03:55
【總結(jié)】第4章等離子體顯示器?概述?氣體放電的物理基礎(chǔ)?交流等離子體顯示板?彩色AC-PDP?彩色AC-PDP的制造材料和工藝?彩色AC-PDP制造技術(shù)的發(fā)展?fàn)顩r?彩色AC-PDP電路系統(tǒng)?顯示動(dòng)態(tài)圖像時(shí)的干擾及解決措施?直流等離子體顯示板?PDP的應(yīng)用指所有利用氣
2024-12-31 22:45
【總結(jié)】放電等離子體在環(huán)境中的應(yīng)用,匯報(bào)人:曹洋指導(dǎo)老師:王鐵成,目錄,CONTENTS,01,放點(diǎn)等離子體簡(jiǎn)介,02,實(shí)驗(yàn)內(nèi)容,03,研究方向和內(nèi)容,01,放電等離子體簡(jiǎn)介,01放電等離子體簡(jiǎn)介,,定義:等...
2024-10-28 18:31