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干膜技術(shù)資料-資料下載頁

2025-01-18 16:05本頁面
  

【正文】 粗,使印制蝕刻的線條變細(xì)。 1/28/2023 76 如何正確確定曝光時(shí)間呢 ? ? 由于應(yīng)用于膜的各廠家所用的曝光機(jī)不同,即光源,燈的功率及燈距不同,因此干膜生產(chǎn) 廠家很難推薦一個(gè)固定的曝光時(shí)間。國外生產(chǎn)干膜的公司都有自己專用的或推薦使用的某種 光密度尺,干膜出廠時(shí)都標(biāo)出推薦的成像級數(shù)、我國干膜生產(chǎn)廠家沒有自己專用的光密度尺, 通常推薦使用瑞斯頓幟 iston)17級或斯圖費(fèi) (stouffer)21級光密度尺。 瑞斯頓 17級光密度尺第一級的光密度為 ,以后每級以光密度差 AD為,到 第 17級光密度為 。 斯圖費(fèi) 2l級光密度尺第一級的光密度為 ,以后每級以光密度差△ D為 0. 15遞增, 到第 2l級光密度為 。 在用光密度尺進(jìn)行曝光時(shí),光密度小的 (即較透明的 )等級,干膜接受的紫外光能量多,聚 合的較完全,而光密度大的 (即透明程度差的 )等級,干膜接受的紫外光能量少,不發(fā)生聚合或 聚合的不完全,在顯影時(shí)被顯掉或只留下一部分。這樣選用不同的時(shí)間進(jìn)行曝光便可得到不同 的成像級數(shù)?,F(xiàn)將瑞斯頓 17級光密度尺的使用方法簡介如下:a.進(jìn)行曝光時(shí)藥膜向下; b.在覆銅箔板 上貼膜后放 15分鐘再曝光;c.曝光后放置 30分鐘顯影。 1/28/2023 77 任選一曝光時(shí)間作為參考曝光時(shí)間,用 Tn表示,顯影后留下的最大級數(shù)叫參考級數(shù),將 推薦的使用級數(shù)與參考級數(shù)相比較,并按下面系數(shù)表進(jìn)行計(jì)算。 級數(shù)差 系數(shù) K 級數(shù)差 系數(shù) K 1 6 2 7 3 8 2 .512 4 9 2 .818 5 10 1/28/2023 78 ? 當(dāng)使用級數(shù)與參考級數(shù)相比較需增加時(shí),使用級數(shù)的曝光時(shí)間 T= KTR。當(dāng)使用級數(shù)與 參考級數(shù)相比較需降低時(shí),使用級數(shù)的曝光時(shí)間 T= TR/K。這樣只進(jìn)行一次試驗(yàn)便可確定最佳 曝光時(shí)間。 在無光密度尺的情況下也可憑經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行觀察,用逐漸增加曝光時(shí)間的方法,根據(jù)顯影后干 膜的光亮程度、圖像是否清晰、圖像線寬是否與原底片相符等來確定適當(dāng)?shù)钠毓鈺r(shí)間。 嚴(yán)格的講,以時(shí)間來計(jì)量曝光是不科學(xué)的,因?yàn)楣庠吹膹?qiáng)度往往隨著外界電壓的波動(dòng)及燈 的老化而改變。光能量定義的公式 E= IT,式中 E表示總曝光量,單位為毫焦耳/平方厘米;I表示 光的強(qiáng)度,單位為毫瓦/平方厘米; T為曝光時(shí)間,單位為秒。從上式可以看出,總曝光量 E隨光強(qiáng) I 和曝光時(shí)間 T而變化。當(dāng)曝光時(shí)間 T恒定時(shí),光強(qiáng) I改變,總曝光量也隨之改變,所以盡管嚴(yán) 格控制了曝光時(shí)間,但實(shí)際上干膜在每次曝光時(shí)所接受的總曝光量并不一定相同,因而聚合 程度也就不同。 .為使每次曝光能量相同,使用光能量積分儀來計(jì)量曝光。其原理是當(dāng)光強(qiáng) I發(fā)生變化時(shí), 能自動(dòng)調(diào)整曝光時(shí)間 T,以保持總曝光量 E不變。 1/28/2023 79 3)照相底版的質(zhì)量 ? 照相底版的質(zhì)量主要表現(xiàn)在光密度和尺寸穩(wěn)定性兩方面。 關(guān)于光密度,要求最大光密度 Dmax大于 4,最小光密度 Dmin小于 0. 2。最大光密度是指底版 左紫外光中,其表面擋光膜的擋光下限,也就是說,底版不透明區(qū)的擋光密度 Dmax超過 4時(shí),才 能達(dá)到良好的擋光目的。最小光密度是指底版在紫外光中,其擋光膜以外透明片基所呈現(xiàn)的擋 光上限,也就是說,當(dāng)?shù)装嫱该鲄^(qū)之光密度 Dmin小于 ,才能達(dá)到良好的透光目的。 照相底版的尺寸穩(wěn)定性 (指隨溫度、濕度和儲(chǔ)存時(shí)間的變化 )將直接影響印制板的尺寸精 度和圖像重合度,照相底版尺寸嚴(yán)重脹大或縮小都會(huì)使照相底版圖像與印制板的鉆孔發(fā)生偏 離。原國產(chǎn) SO 硬性軟片受溫度和濕度的影響,尺寸變化較大,其溫度系數(shù)和濕度系數(shù)大約在 (50— 60) 10- 6/ ℃ 及 (50— 60) 10- 6/%,對于一張長度約 400mm的S0底版,冬季和夏季 的尺寸變化可達(dá) — 1mm,在印制板上成像時(shí)可能偏半個(gè)孔到一個(gè)孔的距離。因此照相底 版的生產(chǎn)、使用和儲(chǔ)存最好均在恒溫恒濕的環(huán)境中。 采用厚聚酯片基的銀鹽片 (例如 )和重氮片,可提高照相底版的尺寸穩(wěn)定性。 除上述三個(gè)主要因素外,曝光機(jī)的真空系統(tǒng)及真空框架材料的選擇等也會(huì)影響曝光成像的質(zhì)量。 1/28/2023 80 ◎ 曝光定位 ? 1)目視定位 目視定位通常適用于使用重氮底版,重氮底版呈棕色或桔紅色的半透明狀態(tài);但不透紫外 光,透過重氮圖像使底版的焊盤與印制板的孔重合對準(zhǔn),用膠帶固定即可進(jìn)行曝光。 2)脫銷定位系統(tǒng)定位 脫銷定位系統(tǒng)包括照相軟片沖孔器和雙圓孔脫銷定位器。 定位方法是:首先將正面、反面兩張底版藥膜相對在顯微鏡下對準(zhǔn);將對準(zhǔn)的兩張底版用 軟片沖孔器于底版有效圖像外任沖兩個(gè)定位孔,把沖好定位孔的底版任取一張去編鉆孔程序, 便能得到同時(shí)鉆出元件孔及定位孔的數(shù)據(jù)帶,一次性鉆出元件孔及定位孔,印制板金屬化孔及 預(yù)鍍銅后,便可用雙圓孔脫銷定位器定位曝光。 3)固定銷釘定位 此固定銷釘分兩套系統(tǒng),一套固定照相底版,另一套固定印制板,通過調(diào)整兩銷釘?shù)奈恢茫瑢?shí)現(xiàn)照相底版與印制板的重合對準(zhǔn)。曝光后,聚合反應(yīng)還要持續(xù)一段時(shí)間,為保證工藝的穩(wěn)定性,曝光后不要立即揭去聚酯膜,以使聚合反應(yīng)持續(xù)進(jìn)行。待顯影前再揭去聚酯膜。 1/28/2023 81 顯 影 ? ◎ 顯影 水溶性干膜的顯影液為 l一 2%的無水碳酸鈉溶液,液溫 30— 40℃ 。 ? 顯影機(jī)理是感光膜中未曝光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下 來,顯影時(shí)活性基團(tuán)羧基一 COOH與無水碳酸鈉溶液中的 Na+作用,生成親水性集團(tuán)一 COONa。從而把未曝光的部分溶解下來,而曝光部分的干膜不被溶脹。 ? 顯影操作一般在顯影機(jī)中進(jìn)行,控制好顯影液的溫度,傳送速度,噴淋壓力等顯影參數(shù),能夠得到好的顯影效果。 1/28/2023 82 ? 正確的顯影時(shí)間通過顯出點(diǎn) (沒有曝光的干膜從印制板上被顯掉之點(diǎn) )來確定,顯出點(diǎn)必 須保持在顯影段總長度的一個(gè)恒定百分比上。如果顯出點(diǎn)離顯影段出口太近,未聚合的抗蝕膜 得不到充分的清潔顯影,抗蝕劑的殘余可能留在板面上。如果顯出點(diǎn)離顯影段的入口太近,已 聚合的于膜由于與顯影液過長時(shí)間的接觸,可能被浸蝕而變得發(fā)毛,失去光澤。通常顯出點(diǎn)控 制在顯影段總長度的 40%一 60%之內(nèi)。 ? 使用顯影機(jī)由于溶液不斷地噴淋攪動(dòng),會(huì)出現(xiàn)大量泡沫,因此必須加入適量的消泡劑。如 正丁醇、食品及醫(yī)藥用的消泡劑、印制板專用消泡劑 AF一 3等。消泡劑起始的加入量為% 左右,隨著顯影液溶進(jìn)干膜,泡沫又會(huì)增加,可繼續(xù)分次補(bǔ)加。顯影后要確保板面上無余膠,以 保證基體金屬與電鍍金屬之間有良好的結(jié)合力。 ? 顯影后板面是否有余膠,肉眼很難看出,可用 1%甲基紫酒精水溶液或 l一 2%的硫化鈉 或硫化鉀溶液檢查,染十甲基紫顏色和浸入硫化物后沒有顏色改變說明有余膠。 1/28/2023 83 修版與去膜?。? ? ◎ 修版 修版包括兩方面,一是修補(bǔ)圖像上的缺陷,一是除去與要求圖像無關(guān)的疵點(diǎn)。 上述缺陷產(chǎn)生的大體原因是:干膜本身有顆?;驒C(jī)械雜質(zhì);基板表面粗糙或凹凸不平;操 作工藝不當(dāng)如板面污物及貼膜小皺折;照相底版及真空框架不清潔等。為減少修版量,應(yīng)特別 注意上述問題。 ? 修版液可用蟲膠、瀝青、耐酸油墨等。 ? 蟲膠修版液配方如下: ? 蟲膠 :100~ 150g/ 1 ? 甲基紫 :1~ 2g/ 1 1/28/2023 84 ? 用無水乙醇配制。 ? 修版時(shí)應(yīng)注意戴細(xì)紗手套,以防手汗污染板面。 ? ◎ 去膜 去膜使用 3~ 5%的氫氧化鈉溶液,溫度 50一60℃ ,去膜方式可槽式浸泡,也可機(jī)器噴淋。 槽式浸泡是板子上架后浸泡到去膜溶液中,數(shù)分鐘后膜變軟脫落,取出后立即用水沖洗,膜就 可以去除干凈,銅表面也不會(huì)被氧化。機(jī)器噴淋去膜生產(chǎn)效率高,但應(yīng)注意檢查噴嘴是否堵塞,在去膜溶液中必須加入消泡劑。 1/28/2023 85 ? 靜夜四無鄰,荒居舊業(yè)貧。 , February 4, 2023 ? 雨中黃葉樹,燈下白頭人。 16:57:0016:57:0016:572/4/2023 4:57:00 PM ? 1以我獨(dú)沈久,愧君相見頻。 :57:0016:57Feb234Feb23 ? 1故人江海別,幾度隔山川。 16:57:0016:57:0016:57Saturday, February 4, 2023 ? 1乍見翻疑夢,相悲各問年。 :57:0016:57:00February 4, 2023 ? 1他鄉(xiāng)生白發(fā),舊國見青山。 2023年 2月 4日星期六 下午 4時(shí) 57分 0秒 16:57: ? 1比不了得就不比,得不到的就不要。 。 2023年 2月 下午 4時(shí) 57分 :57February 4, 2023 ? 1行動(dòng)出成果,工作出財(cái)富。 2023年 2月 4日星期六 4時(shí) 57分 0秒 16:57:004 February 2023 ? 1做前,能夠環(huán)視四周;做時(shí),你只能或者最好沿著以腳為起點(diǎn)的射線向前。 下午 4時(shí) 57分 0秒 下午 4時(shí) 57分 16:57: ? 沒有失敗,只有暫時(shí)停止成功!。 , February 4, 2023 ? 很多事情努力了未必有結(jié)果,但是不努力卻什么改變也沒有。 16:57:0016:57:0016:572/4/2023 4:57:00 PM ? 1成功就是日復(fù)一日那一點(diǎn)點(diǎn)小小努力的積累。 :57:0016:57Feb234Feb23 ? 1世間成事,不求其絕對圓滿,留一份不足,可得無限完美。 16:57:0016:57:0016:57Saturday, February 4, 2023 ? 1不知香積寺,數(shù)里入云峰。 :57:0016:57:00February 4, 2023 ? 1意志堅(jiān)強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 2023年 2月 4日星期六 下午 4時(shí) 57分 0秒 16:57: ? 1楚塞三湘接,荊門九派通。 。 2023年 2月 下午 4時(shí) 57分 :57February 4, 2023 ? 1少年十五二十時(shí),步行奪得胡馬騎。 2023年 2月 4日星期六 4時(shí) 57分 0秒 16:57:004 February 2023 ? 1空山新雨后,天氣晚來秋。 下午 4時(shí) 57分 0秒 下午 4時(shí) 57分 16:57: ? 楊柳散和風(fēng),青山澹吾慮。 , February 4, 2023 ? 閱讀一切好書如同和過去最杰出的人談話。 16:57:0016:57:0016:572/4/2023 4:57:00 PM ? 1越是沒有本領(lǐng)的就越加自命不凡。 :57:0016:57Feb234Feb23 ? 1越是無能的人,越喜歡挑剔別人的錯(cuò)兒。 16:57:0016:57:0016:57Saturday, February 4, 2023 ? 1知人者智,自知者明。勝人者有力,自勝者強(qiáng)。 :57:0016:57:00February 4, 2023 ? 1意志堅(jiān)強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 2023年 2月 4日星期六 下午 4時(shí) 57分 0秒 16:57: ? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過于提升自我。 2023年 2月 下午 4時(shí) 57分 :57February 4, 2023 ? 1業(yè)余生活要有意義,不要越軌。 2023年 2月 4日星期六 4時(shí) 57分 0秒 16:57:004 February 2023 ? 1一個(gè)人即使已登上頂峰,也仍要自強(qiáng)不息。 下午 4時(shí) 57分 0秒 下午 4時(shí) 57分 16:57: MOMODA POWERPOINT Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. 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