材料科學(xué)分析技術(shù)(電子顯微學(xué)衍襯成像理論)-資料下載頁
2024-12-31 21:30本頁面
【正文】 在操作反射 g確定的條件下， 受畸變位移矢量 R控制。 )2exp( Rig ?? ?畸變相位因子 由于該因子的存在，造成如下兩式各自代表的兩個(gè)晶柱底部衍射波振幅的差別，由此就可以反映出晶體缺陷引起的衍射襯度。 ? ?????tgg dzRigiszi0)2exp()2exp( ????? ?????tggg sstitsidziszi0)sin()exp()2exp(????????42 5. 運(yùn)動(dòng)學(xué)衍襯理論的適用范圍 ? 1）當(dāng) s→0 時(shí)，衍射強(qiáng)度得到錯(cuò)誤結(jié)論 如果樣品比較厚，衍射束的強(qiáng)度超過入射束的強(qiáng)度，這個(gè)結(jié)論顯然是錯(cuò)誤的。 ? 2) 滿足運(yùn)動(dòng)學(xué)理論樣品的厚度要求很小 運(yùn)動(dòng)學(xué)理論只適用于極薄的樣品。 ? 3）當(dāng) s→0 時(shí)，運(yùn)動(dòng)學(xué)理論確定的等厚條紋間距與實(shí)際矛盾 當(dāng) s→0 時(shí)，衍射束的強(qiáng)度在樣品厚度方向上變化周期性 1/s趨向于無窮大，因此，等厚消光條紋間距將趨于無窮大，這與實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象不符。實(shí)際上，當(dāng)s→0 時(shí)，仍看到條紋間距的上限值。 43 成像操作及像襯度 ? 襯度：試樣不同部位對(duì)入射電子作用不同，經(jīng)成像放大后所顯示的 強(qiáng)度差異 。 ? 像襯度是圖像上不同區(qū)域 明暗 程度的差別。 ? TEM的像襯度與樣品材料自身的組織結(jié)構(gòu)、采用的成像方式和研究?jī)?nèi)容有關(guān)。 44 明場(chǎng)像和暗場(chǎng)像 ? TEM圖像分為顯微像和衍射花樣。前者是透射電子成像，后者為散射電子成像。 ? 明場(chǎng) 像（ BF）：直射電子成像，像清晰。 ? 暗場(chǎng) 像（ DF）：散射電子成像，像有畸變、分辨率低。 45 明場(chǎng)像和暗場(chǎng)像 ? 成像電子的選擇是通過在 物鏡 的 背焦面 上插入 物鏡光闌 來實(shí)現(xiàn)的。 ? 中心暗場(chǎng) 像（ CDF）：入射電子束對(duì)試樣傾斜照明，得到的暗場(chǎng)像。像不畸變、分辨率高。 46 47 演講完畢，謝謝觀看！
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