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微電子器件工藝學(xué)-資料下載頁(yè)

2024-12-28 23:00本頁(yè)面
  

【正文】 500~ 1000nm 的氧化層? 光刻 1版 (埋層版 ),利用反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)將光刻窗口中的氧化層刻蝕掉,并去掉光刻膠? 進(jìn)行大劑量 As+注入并退火,形成 n+埋層雙極集成電路工藝? 生長(zhǎng) n型外延層? 利用 HF腐蝕掉硅片表面的氧化層? 將硅片放入外延爐中進(jìn)行外延,外延層的厚度和摻雜濃度一般由器件的用途決定? 形成橫向氧化物隔離區(qū)? 熱生長(zhǎng)一層薄氧化層,厚度約 50nm? 淀積一層氮化硅,厚度約 100nm? 光刻 2版 (場(chǎng)區(qū)隔離版? 形成橫向氧化物隔離區(qū)? 利用反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)將光刻窗口中的氮化硅層 氧化層以及一半的外延硅層刻蝕掉? 進(jìn)行硼離子注入? 形成橫向氧化物隔離區(qū)? 去掉光刻膠,把硅片放入氧化爐氧化,形成厚的場(chǎng)氧化層隔離區(qū)? 去掉氮化硅層? 形成基區(qū)? 光刻 3版 (基區(qū)版 ),利用光刻膠將收集區(qū)遮擋住,暴露出基區(qū)? 基區(qū)離子注入硼? 形成接觸孔:? 光刻 4版 (基區(qū)接觸孔版 )? 進(jìn)行大劑量硼離子注入? 刻蝕掉接觸孔中的氧化層? 形成發(fā)射區(qū)? 光刻 5版 (發(fā)射區(qū)版 ),利用光刻膠將基極接觸孔保護(hù)起來(lái),暴露出發(fā)射極和集電極接觸孔? 進(jìn)行低能量、高劑量的砷離子注入,形成發(fā)射區(qū)和集電區(qū)? 金屬化? 淀積金屬,一般是鋁或 AlSi、 PtSi合金等? 光刻 6版 (連線版 ),形成金屬互連線? 合金: 使 Al與接觸孔中的硅形成良好的歐姆接觸,一般是在 450℃ 、 N2H2氣氛下處理 20~ 30分鐘? 形成鈍化層? 在低溫條件下 (小于 300℃ )淀積氮化硅? 光刻 7版 (鈍化版 )? 刻蝕氮化硅,形成鈍化圖形CMOS集成電路工藝以 P阱硅柵 CMOS為例采用( 100)晶向的硅襯底,其表面缺陷少,形成的 Si/SiO2界面質(zhì)量高硅襯底的電阻率為 2550Ωcm ,相應(yīng)的摻雜濃度為 1015cm 3光刻 I阱區(qū)光刻,刻出阱區(qū)注入孔NSi NSiSiO2一般阱區(qū)的摻雜濃度為 10161017cm3阱區(qū)注入及推進(jìn),形成阱區(qū)NSiP去除 SiO2, 長(zhǎng)薄 SiO2,長(zhǎng) Si3N4Si3N4NSiP光刻 II有源區(qū)光刻N(yùn)SiPSi3N4光刻 IIIN管場(chǎng)區(qū)光刻,刻出 N管場(chǎng)區(qū)注入孔,N管場(chǎng)區(qū)注入,以提高場(chǎng)開(kāi)啟,減少閂鎖效應(yīng)及改善阱的接觸光刻膠NSiPB+長(zhǎng)場(chǎng)氧,漂去氧化硅及氮化硅,然后長(zhǎng)柵氧NSiP光刻 Ⅳ p管場(chǎng)區(qū)光刻, p管場(chǎng)區(qū)注入, 調(diào)節(jié) PMOS管的開(kāi)啟電壓,生長(zhǎng)多晶硅NSiPB+光刻 Ⅴ 多晶硅光刻,形成多晶硅柵及多晶硅電阻多晶硅NSiP光刻 Ⅴ IP+區(qū)光刻,刻去 P管區(qū)上的膠, P+區(qū)注入。形成 PMOS管的源、漏區(qū)及 P+保護(hù)環(huán)NSiPB+光刻 Ⅶ N+管場(chǎng)區(qū)光刻,刻去 N+管場(chǎng)區(qū)上的膠, N管場(chǎng)區(qū)注入,形成NMOS的源、漏區(qū)及 N+保護(hù)環(huán)光刻膠NSiPAs長(zhǎng) PSG(磷硅玻璃)PSGNSiP+PP+N+ N+光刻 Ⅷ 引線孔光刻,可在生長(zhǎng)磷硅玻璃后先開(kāi)一次孔,然后在磷硅玻璃回流及結(jié)注入推進(jìn)后再開(kāi)第二次孔PSGNSiP+PP+N+ N+光刻 Ⅸ 引線孔光刻(反刻 AL),壓焊塊光刻PSGNSiP+PP+N+ N+ VDDIN OUTPNSDDS微電子器件工藝學(xué)講解內(nèi)容定義: 通過(guò)采用各種制造工藝技術(shù)組合按設(shè)計(jì)的器件結(jié)構(gòu)和性能參數(shù)制作符合要求的器件主要講解內(nèi)容: 襯底制備,薄膜制備,摻雜技術(shù),氧化技術(shù),超凈室,光刻技術(shù),電極制備及連接封裝技術(shù)結(jié)束謝謝觀看 /歡迎下載BY FAITH I MEAN A VISION OF GOOD ONE CHERISHES AND THE ENTHUSIASM THAT PUSHES ONE TO SEEK ITS FULFILLMENT REGARDLESS OF OBSTACLES. BY FAITH I BY FAITH
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