【正文】
試樣序號前處理工序試樣一除油+電解活化+電解著色試樣二除油+機械拋光+電解活化+電解著色試樣三除油+電解拋光+電解活化+電解著色實驗四除油+機械拋光+電解拋光+電解活化+電解著色實驗結(jié)果如圖38所示圖38 試樣表面狀態(tài)對著色膜性能的影響從圖38中可得:不銹鋼試樣不同表面狀態(tài)電解著色后著色膜耐蝕性能不同,試樣一、二、三、通過試樣一自腐蝕點位明顯低于其他3個試樣,說明亞光面經(jīng)活化著色后著色膜耐蝕性最差,對比試樣二、三、四可得,不銹鋼試樣為亞面經(jīng)過電解拋光后著色膜耐蝕性最好。304不銹鋼經(jīng)除油、電解拋光、活化得到的電解著色膜亞光面在后處理研究中性能更優(yōu)于機械拋光面,但得到的電解著色膜亞光面的光澤度略低于機械拋光面,經(jīng)綜合評定,得到的電解著色膜亞光面性能優(yōu)于機械拋光面。4結(jié)論與展望本文通過對不銹鋼著色前處理研究重點探討了拋光和活化兩個工藝對不銹鋼著色膜的性能影響,所得出的結(jié)論如下:(1)經(jīng)過正交和單因素試驗得出電解拋光最佳工藝范圍為:磷酸700ml/L,硫酸160230ml/L,糖精19g/L,溫度4565℃,甘油3070ml/L,最佳工藝配方為:磷酸700ml/L,硫酸230ml/L,糖精5g/L,溫度45℃,甘油30ml/L,電流密度30A/dm2,時間10min。(2)在活化體系篩選中,氟硅酸活化體系最優(yōu),其最佳工藝范圍為:磷酸19ml/L,氟硅酸19ml/L,硫酸3565ml/L,硫酸銨80120g/L;最佳工藝配方為:磷酸1ml/L,氟硅酸5ml/L,硫酸50ml/L,硫酸銨100g/L,時間為5min。(3)304不銹鋼經(jīng)除油、電解拋光、活化得到的電解著色膜亞光面的耐蝕性優(yōu)于機械拋光面,且更適合用于后處理研究,但得到的電解著色膜亞光面的光澤度略低于機械拋光面,經(jīng)綜合評定,得到的電解著色膜亞光面性能優(yōu)于機械拋光面。(4)304不銹鋼無鉻電解著色較含鉻著色而言重現(xiàn)性較好,著色種類更豐富,對環(huán)境的污染較小,符合現(xiàn)今可持續(xù)發(fā)展的要求。由于試驗時間和試驗條件有限,試驗中存在許多不足和問題,具體如下:(1)304不銹鋼無鉻電解著色還處于研究階段,對比含鉻著色在性能測試方面還有很大的差距,無鉻電解著色前處理工藝研究只能改善著色膜的性能,但目前的研究狀況下還不能超越含鉻體系。 (2)本試驗并沒有對無鉻電解著色膜進行耐磨性的測試,所以在最終的性能測試結(jié)果上有些許出入,在之后進行這方面研究時可以加入耐磨性測試。 (3)本試驗并未對堅膜后的膜層性能進行全面研究,必須通過進一步試驗來驗證實驗結(jié)果。參 考 文 獻[1] 張述林,王曉波,[J].電鍍與精飾,2007,29(1):3638.[2] 谷春瑞,李國彬,姜延飛. 影響不銹鋼化學著色工藝因素的探討[J].新技術(shù)新工藝,1999(2):29 30.[3] 梁成浩,[J].材料保護,2000,33(7):78.[4]谷春瑞,李國彬,[J].機械設(shè)計與制造工程,1999,28(5):53~55.[5] [D].西安電子科技大學碩士學位論文,2009.[6] 向榮. 21世紀我國電鍍設(shè)備面臨的挑戰(zhàn)與對策[J]. 電鍍與精飾, 1999,21 (9): 14.[7] 杜貴平, 姜立新. 電鍍電源的現(xiàn)狀及展望[J]. 新技術(shù)新工藝, 2005,8 (6): 69.[8] ShuoJen Lee, YuMing Lee, MingFeng Du. The polishing mechanism of electrochemical mechanical polishing technology [J]. Journal of Materials Processing Technology Proceedings of the 6th Asia Pacific Conference on materials Processing, 2003, 140(13):280286.[9] Simka W, Mosiaek M,Nawrat G,et al. Electrochemical polishing of Ti13Nb13Zr alloy [J],Surface and Coatings Technology, 2012,213(0): 239246.[10] Hryniewicz T,Konarski P, Rokosz K, et al. SIMS analysis of hydrogen content in near surface layers of AISI316L SS after electrolytic polishing under different conditions[J].Surface and Coatings Technology, 2011,205(1718): 42284236.[11] Ahn Y,Yoon J,Baek C, et al. Chemical mechanical polishing by colloidal silicabased slurry for microscratch reduction[J]. Wear, 2004,257(78): 785789.[12] Oh S,Seok J. An integrated material removal model for silicon dioxide layers in diemical mechanical polishing processes[J]. Wear, 2009,266(78): 839849.[13] Oh S, Seok J. Modeling of chemical mechanical polishing considering thermal coupling effects[J]. Microelectronic Engineering, 2008, 85(11): 21912201.[14] Jiang Jianzhong , Zhao Yongwu, Luo Jianbin . A Chemical Mechanical Polishing Model Based on the Viscous Flow of the Amorphous Layer [ J ]. China Mechanical Engineering,2006 , 17 ( 24 ) : 2540 2546.[15] Sukhoon Jeong,Haedo Jeong. Effect of polishing pad with holes in electrochemical mechanical planarization[J]. Microelectronic Engineering, 2008, 85(11): 22362242.[16] 錢備,李淑英,范洪強,余相仁,[J].電鍍與涂飾,2011(8): 4548.[17] [M].北京:化學工業(yè)出版社,2004.[18] [J].防腐包裝,1987,5:9~13.[19] Leonardo S. Andrade, Sandro C. Xavier, Romeu of AISI304stainless steel using an oxidizing solution originally used for electrochemical coloration[J]. Electrochimica Acta, 2005, 50:2623~2627.[20] Rosangela Conrrado,Nerilso Bocchi,Romeu C. RochaFilho, Sonia R. Biaggio. Corrosion resistance of colored films grown on stainless steel by the alternating potential pulse method[J]. Electrochimica Acta,2003,48(17):2417~2424.[21] Karina de Oliveira Vasconcelos, Nerilso Bocchi, Romeu C. An Environmentally Friendly and Practical Method for Obtaining Color on Stainless Steel by Interference[J]. journal of the electrochemical society,2005,152(11): B491~B494.[22] 劉萍,[J].腐蝕與防護, 1995, 16(2):69~71. [23] ,[J].材料保護, 2003, 36(1): 44~45.[24] 吳 [J].電鍍與涂飾, 2004,23(1): 54~55.[25] 陳海燕. 不銹鋼鍍鉻預(yù)處理新型活化液的電化學特性[J],材料保護,2006,39(3):28~30[26] [J],材料保護,2009,41(3):28~30[27] [D].碩士學位論文,西華大學,2012.[28] [M].:科學出版社, 1965. 3.[29] DattaM, Vercruysse D. Transpassive dissolution of 420 stainless steel in concentrated acids under electropolishing conditions [J]. J. Electrochem. Soc., 1990, 137(10): 30163023.致 謝四年的大學時光轉(zhuǎn)瞬即逝,回首當年,依稀記得剛步入大學的情景,那時的我是多么憧憬大學的生活,有著自己的理想和規(guī)劃。四年里有太多的酸甜苦辣讓我去回味,去銘記。但此刻,我們就要畢業(yè)了,自己心中更多的是不舍與留戀,是和同伴們的歡聲笑語。匆匆大學四年就要走完,四年里最后一份答卷畢業(yè)設(shè)計也將為我們的大學生活畫上了一個圓滿的句號。本篇學士學位論文是在周雅老師的細心關(guān)懷和精心指導下完成的。周老師是一個嚴謹和藹可敬的老師,無論是教學態(tài)度,還是工作作風,都能做到極致,對學生也是非常的嚴格,在生活方面也是細心的關(guān)懷。在完成畢業(yè)設(shè)計的每一個階段,從前期的課程選題,查閱資料到寫開題報告,論文提綱的確定,后期論文的修改等各個環(huán)節(jié),周老師都給予了悉心的指導,在此謹向周老師致以誠摯的謝意和崇高的敬意。祝老師身體健康,萬事如意,工作順利。此外,本篇畢業(yè)論文的完成也得到了張榮洲師兄,張偉,張弘弘,石超等同學的熱情幫助,在兩個月的試驗過程中,出現(xiàn)了很多大大小小的問題,但是同學們的相互幫助、相互討論都讓困難變得迎刃而解。兩個月的試驗課程讓我明白,在遇到困難時一定要停下來認真思考,尋找試驗的問題點,并且重新設(shè)計和改進,而不是盲目的接著做。試驗過程中,師兄教了我很多實驗技巧,師兄是一個熱情的人,在生活中幫助了我很多。正是有了周老師、師兄、張弘弘、張偉、石超他們的幫助,我的畢業(yè)設(shè)計才能順利的完成。在此,我再一次真誠地向幫助過我的老師和同學表示感謝!最后,真誠地感謝各位老師在百忙之中評閱本篇論文并給予寶貴意見和建議。