icp刻蝕工藝要點-資料下載頁
2025-06-25 06:53本頁面
【正文】 件、密封圈用DI水擦拭石英件、陶瓷件、鋁件、密封圈用IPA擦拭石英件、陶瓷件、鋁件、密封圈安裝反應室零部件關閉反應室16. 簡述ELEDE ICP螺絲清洗標準作業(yè)流程A．把螺絲裝在小燒杯里，倒入IPA覆蓋為宜，超聲波振動10min ；B．用N2把螺絲吹干17. 簡述ELEDE ICP清洗反應室方法及步驟A. 進入[維護/工藝模塊]，在[腔室操作]中點擊[吹掃],至少吹掃100次；B. 吹掃完畢后，點擊[吹大氣]，進行腔室破真空動作；C. 按照正確的流程打開反應室；D. 移走反應室零部件（石英蓋、密封圈、內(nèi)襯、壓環(huán)等）；E. 先用浸有DI水的無塵布擦拭反應室內(nèi)壁，再用IPA擦拭，直到擦拭的無塵布上看不到殘余物的顏色為止；F. 按照步驟E擦拭反應室其余每個地方，特別是真空測量孔；G．手動把升降針升起，用浸有IPA的無塵布擦拭三針；H．用浸有IPA的無塵布擦拭卡盤、聚焦環(huán)表面； I. 按照步驟E擦拭其他的部件（內(nèi)襯、壓環(huán)等）； J．安裝反應室零部件（石英蓋、密封圈、內(nèi)襯、壓環(huán)等）； K．關閉反應室；L．恢復反應室狀態(tài)18. 簡述SLR ICP作業(yè)流程圖19. 簡述SLR ICP裝晶片標準操作流程A:用打圈圈的方式使橡皮條均勻分布在底盤的各個小槽上；B:判斷托盤的方向，以中間的區(qū)域為標準，若定位橫邊往下的，則托盤兩邊的兩個小孔分別為左右兩孔；C:用專用鑷子將晶片夾放到托盤的各個位置上，并對準位置；D:把螺絲放在蓋子的小孔里；E:以蓋子邊緣的一個小孔為左邊，對應托盤的左邊位置，小心地放在底盤上；F:用內(nèi)六角起子對角地擰螺絲，分兩次擰。第一次擰的程度為7成緊，第二次力度相對均勻地稍微擰緊；G:用專用吹掃工具吹掃已裝好片的托盤一遍。20. 簡述SLR ICP清洗托盤、螺絲作業(yè)流程圖21. 簡述SLR ICP清洗反應室作業(yè)流程圖22. 簡述SLR ICP反應室清洗步驟A:打開反應室（同時按住2個上升開關 向右推開腔體 ）B:用DI水清洗反應室（包括底座、腔壁、夾具）C:用吸塵器吸走遺留的塵埃和水分子D:用異丙醇清洗反應室E:用真空硅脂涂抹真空密封橡皮條，再用無塵布擦均勻F:放置真空密封橡皮條（對角放置 壓平整）G:關閉反應室（向左推腔體回原位 同時按住2個下降開關）23. 簡述本工站的詳細工作流程、操作規(guī)范及注意事項。
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