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試論pcb生產(chǎn)技術(shù)和發(fā)展趨勢-資料下載頁

2025-06-23 17:45本頁面
  

【正文】 ⑵ 加入有機(jī)添加劑,使Sn析出為顆粒狀結(jié)構(gòu)而非樹枝狀結(jié)構(gòu),消除“錫絲”的 隱 患 ⑶ 工藝較簡單,易于維護(hù),成本較低。 電鍍Ni/Pd/Au層。 又可稱為“萬能”鍍層 ⑴鍍層厚度要求Ni層為3∽6μm,∽,∽。 ⑵既可用于焊接,又可用于搭接(WB)等。CCL(覆銅板)材料技術(shù)與發(fā)展。隨著PCB高密度化高性能化的發(fā)展,CCL也相應(yīng)朝著高性能化的發(fā)展。向高Tg材料發(fā)展 130176。C→150176。C→170176。C→200176。C→220176。C→250176。C ⑴抗焊接溫度F變形能力。 ①表面安裝技術(shù)要求。 ②無鉛化焊接溫度還得提高30176。C∽50176。C ⑵工作溫度提高,要求提高耐熱性。 ①高密度化發(fā)展,單位體積(面積)發(fā)熱量↑②高功率化發(fā)展,單位面積功率增加了(或電流量增加了)。 向低CTE材料發(fā)展。高Tg大多拌有低CTE,但概念與含義不同。 高密度化要求低CTE化 12∽14ppm→10∽12ppm→8∽10ppm→6∽8ppm ⑴低CTE意味著低焊接應(yīng)力,↑可靠性 ⑵高密度化要求 ①對位度(層間)②焊點(diǎn)面積縮小,粘結(jié)力減小,要求熱機(jī)殘留應(yīng)力減小。介電常數(shù)材料多樣化發(fā)展。 ⑴低介電常數(shù) →→→→→→……→. 用于高頻化信號和高速數(shù)字化信號的傳輸。 ⑵中介電常數(shù) 10∽100 用于特種場合,如Gps(汽車、士兵、等…) ⑶高介電常數(shù) 100∽1000以上。(已有2000產(chǎn)品了)。 用于埋入電容上,今后數(shù)量會大量增加。耐CAF或耐離子遷移之。 產(chǎn)生CAF是兩大方面:(一)CCL本身;(二)CCL的加工,隨著PCB高密度化, 這個(gè)問題越來越突出了,(孔與孔,線與線…) ⑴基材方法改進(jìn):新型結(jié)構(gòu)玻纖布,常規(guī)E玻纖布→開纖布→扁平布 耐CAF,弱←—————→強(qiáng)提高樹脂浸潤性減小樹脂中的離子含量HHˉ4 和Clˉ為主 ⑵CCL加工方面。 ①改進(jìn)鉆孔質(zhì)量:粗糙度由50μm→30μm→20μm→ ②改進(jìn)去鉆污條件與方法:重量損失控制在 ∽ 或金相剖析來確定。介質(zhì)層厚度均勻性和表面平整度。 ⑴介質(zhì)層厚度均勻性 ①介質(zhì)層厚度尺寸均勻性,尺寸(厚度)偏差要小。177。10%→177。5%→ ②介質(zhì)層內(nèi)部結(jié)構(gòu)(厚度)均勻性即增強(qiáng)材料和樹脂分布均勻性,常規(guī)玻纖布→開纖布→扁平布。 ⑵介質(zhì)層表面平整度。 常規(guī)E—玻纖布會造成“結(jié)點(diǎn)”和“空格子”現(xiàn)象,充填樹脂固化后會形成不平的表面,影響精細(xì)導(dǎo)線的生產(chǎn)與制造。 特種CCL材料 ⑴高導(dǎo)熱性CCL材料①金屬基CCL材料:銅;鋁;殷鋼;鉬板;炭素板等。②在介質(zhì)中加入導(dǎo)熱性絕緣材料,正在開發(fā)中。 ⑵平面無源元件用CCL材料①平面電容用CCL材料②平面電阻用CCL材料③平面電感用CCL材料(很少應(yīng)用)扁平(MS)E—玻纖布材料。⑴扁平E—玻纖布結(jié)構(gòu)與特點(diǎn)。①結(jié)構(gòu)②特點(diǎn)項(xiàng) 目常規(guī)E—玻纖布材料開纖布材料扁平布材料 介質(zhì)層內(nèi)部均勻性 差——————————————————————好 圖 形 隆 起 大——————————————————————小 樹 脂 裂 紋 可能————————————————————不會 激光加工性 差——————————————————————好 尺寸穩(wěn)定性 差——————————————————————好 積層項(xiàng) 目RCC材料常規(guī)E—玻纖布材料扁平布材料 介質(zhì)層內(nèi)部均勻性好差好 圖 形 隆 起大中小 樹 脂 裂 紋可能不多不會 激光加工性好可用優(yōu) 尺寸穩(wěn)定性差好優(yōu) 積層層數(shù)1—2層中多 ⑵扁平E—玻纖布的優(yōu)點(diǎn)。適用于微小化孔的加工。機(jī)械加工。激光加工精細(xì)導(dǎo)線的加工。表面有好的平整度。好的精細(xì)導(dǎo)線陡直度。增加表面積層層數(shù)。消除了圖形隆起(printed through)形成平滑的表面.易于控制積層的介質(zhì)層厚度,改進(jìn)了Z0 控制范圍,抬高了電氣性能。 ④改善了耐CAF性能CAF的成因。CAF的形成是指在電場作用下跨越絕緣介質(zhì)材料而遷移的導(dǎo)電性金屬鹽類的電化學(xué)遷移行為。即:有金屬鹽類存在;有潮濕/蒸汽壓存在;絕緣介質(zhì)材料有缺陷;施加電場(電壓/偏壓)。 CAF可發(fā)生在孔與孔 孔與線 線與線 層與層等等之間,但最常見的是在孔與孔之間發(fā)生CAF問題。 ⑶CCL材料方面的改進(jìn)采用新型玻纖布(MS布或扁平布)。改善樹脂與玻纖布(絲)間均勻分布與樹脂的滲透,從而增加樹脂與玻纖布間結(jié)合力和減少樹脂與玻纖布間的殘留應(yīng)力。同時(shí)可改善鉆孔質(zhì)量(如減低孔壁粗糙度等),改進(jìn)CCL平整度(銅箔與樹脂間均勻結(jié)合)。提高樹脂對玻纖布的浸潤性。選用低表面張力的偶聯(lián)劑(硅烷類)來提高浸潤性。減少樹脂中的離子含量。多種離子會促進(jìn)銅離子遷移作用,CCL中會存在Cl+和NH4+等。Cl+ 來自樹脂中固化劑,NH4+來自樹脂合成時(shí)殘留的水解Cl.降低基材吸水率。 ⑶PCB在制板加工的改。改進(jìn)鉆孔質(zhì)量。改進(jìn)鉆孔摻數(shù),消除或減少撕裂現(xiàn)象,并使粗糙度從40μm上下減少到20μm以下。改進(jìn)去鉆污條件和方法?!?,易于清洗并形成干凈的孔壁。改進(jìn)清洗方法。隨著高密度化發(fā)展線條間隙減小和精細(xì)化,清潔困難。應(yīng)采用去離子水清洗和離子污染度測試。采用新型玻纖布的CCL和半固化片。當(dāng)介質(zhì)層越來越薄時(shí),應(yīng)采用均勻分布的介質(zhì)層。15 /
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