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光學鏡片加工工藝拋光-資料下載頁

2025-06-22 07:19本頁面
  

【正文】 (49防霧劑),產(chǎn)生如下反應C12H25Si(OCH3)3 +nH2OC12H25SiOHOHOH+3CH3OH它具有長鏈的烷基C12H25—,有一定的定向效應,能在玻璃表面形成緊密的烷基覆蓋層。同時也具有SiOHOHOH硅醇結構,能與玻璃表面起化學反應,經(jīng)充分交聯(lián)使膜層牢固的結合起來,有效的阻止空氣中的水份或酸性氣體的侵蝕。光學玻璃拋光下盤以后涂中性保護漆。除有上述的補充作用外,主要是為了保護玻璃拋光表面免受擦傷。但一般保護漆具有酸性(如蟲膠漆)或溶劑具有毒性(如苯、香蕉水等)或腐蝕玻璃或對操作人員有害。我們研制的中性保護漆避免了上述缺點。它是以熱塑性酚醛樹脂為成膜物質,添加聚乙烯醇縮丁醛和硅有機化合物以改善酚醛樹脂的脆性和吸濕性。用無水乙醇為溶劑,配制成適當濃度,便于涂敷和成膜,形成膜層對玻璃拋光表面有較好的附著性和防護能力,并便于清洗。 )r 0h 五、結束語從玻璃的腐蝕機理出發(fā),依照光學玻璃在拋光過程中的化學作用,對ZK、ZF、ZBaF、LaK等化學穩(wěn)定性差的光學玻璃在其拋光液中添加適當?shù)模穑戎嫡{節(jié)劑及表面穩(wěn)定劑,在拋光過程中抑制玻璃腐蝕的可能性。使這幾種光學玻璃拋光表面一次合格率從0%~10%左右分別提高到75%~85%左右。即使在高溫高濕條件下,其一次合格率也能穩(wěn)定在75%以上。同時提高拋光速率近2倍。并提高玻璃拋光表面的粗糙度及“亮度”。拋光下盤以后,可存放數(shù)天或10多天時間,便于零件運轉和下道工序加工。在拋光下盤以后,再作若干補充防護措施,更為可靠。這項有理論、有實踐、可操作的對化學穩(wěn)定性差光學玻璃拋光過程中的防護措施,進一步提高了光學冷加工的效率和效益及其工藝技術水平。 拋光常見疵病產(chǎn)生原因及克服方法 印跡 1)拋光模與鏡盤吻合不好出現(xiàn)油斑痕跡 2)玻璃化學穩(wěn)定性不好 3)水珠、拋光液、口水沫等未及時擦拭干凈 克 服 方 法 1)選用合適的拋光膠,修刮或對改(聚胺脂)拋光模使之吻合 2)拋光中產(chǎn)生的印跡可以選用適當?shù)奶砑觿?。而完工后產(chǎn)生的印跡可以保護3)避免對著工件講話,如下盤擦不干,應擦凈,對化學穩(wěn)定性不好玻璃還應烘光圈變形 1)粘結膠粘結力不適 2)光圈未穩(wěn)定既下盤 3)剛性盤加工時,剛盤使用時間較長未檢測(沉孔臟或變形) 4)剛性盤加工時被加工工件外圓偏大,上盤方法不當?shù)? 克 服 方 法 1)光圈變形主要發(fā)生在較薄的零件或不規(guī)則的零件,應采用適當?shù)纳媳P方法 2)應按工件大小給予一定的光圈穩(wěn)定時間 3)剛盤定期進行檢測和修正  4)嚴格按工藝和上盤操作規(guī)程加工 麻點產(chǎn) 生 原 因 1) 精細磨、拋光時間不夠 2) 精細磨面立不均勻或中間與邊緣相差大 3)有粗劃痕拋斷后的殘跡4)方形或長方形細磨后塌角 5)零件在鏡盤上由于加工造成走動 6) 精細磨面形誤差太大,尤其是偏高,易造成邊緣拋光不充分 7) 拋光模加工時間過長或拋光液使用時間長而影響拋光效率  克 服 方 法 1) 精細磨應除去上道粗砂眼, 拋光時間應足夠 2) 精細磨光圈匹配得當,應從邊緣向中間加工 3)發(fā)現(xiàn)后應作出標識單獨擺放或重拋 4)用開槽平模細模、添加砂要均勻 5)選用適當?shù)恼辰Y膠,控制工序溫度和鏡盤忽冷忽熱, 粘結膠厚度應符合標 準 6)精細磨各道光圈匹配應嚴格按工藝操作指導卡操作 7)更換拋光皮及拋光液的各項指標(比重、PH值等)周期性管理劃痕產(chǎn) 生 原 因1)拋光粉粒度不均勻或混有大顆粒機械雜質2)工房環(huán)境不潔凈3)拋光材料(拋光膠或聚胺脂及粘貼膠等)不潔4)擦布不潔及操作者帶入灰塵5)精細磨遺留劃痕未拋掉或清洗不徹底6)檢查光圈工件或樣板不干凈、方法不當7)拋光材料(拋光膠或聚胺脂)偏硬、使用時間長表面起硬殼或邊緣有干硬堆積物8)拋光模與鏡盤不吻合9)輔助工序(下盤、清洗、周轉、保護漆未干等)造成 克 服 方 法 1)選用粒度均勻和與玻璃材料對應拋光粉 2)做好“5S”工作 3)保管好所需用品 4)擦布清洗保管及操作者穿戴好工作服和帽子 5)應自檢 6)正確使用樣板 7)選用合適拋光材料(拋光膠或聚胺脂),周期更換,對改或修刮拋光模 8)對改或修刮、重新制作拋光模 9)按各輔助工序操作規(guī)程加工光學冷卻液在光學加工中的作用 在光學冷加工中,使用冷卻液的目的是對金剛石磨削工具進行冷卻,以帶走光學玻璃加工過程中的熱量,保證光學冷加工的順利進行,但對這一目的,在使用水或其它有機液體作為冷卻介質后,基本上都可以達到要求,尤其是使用水介質,成本低廉,冷卻效果也十分理想。 但是如果在光學冷加工中用自來水來冷卻,可以肯定地說,其加工是低效率的,因為金剛石工具無法發(fā)揮其最大的工作效率,因此冷卻液的核心作用是與金剛石工具協(xié)調作用,保證金剛石工具能將自身的磨削效能發(fā)揮到極至,同時較高質量的冷卻液還能帶來高質量的加工表面,減少對光學玻璃的浸蝕,降低拋光后水印和霉菌的產(chǎn)生。當然好的冷卻液還應該具有較好的緩蝕性能,沒有氣味和不污染環(huán)境及其它影響健康的不利因素。 1 光學冷卻液的緩蝕性能 水與光學冷加工設備接觸后,將直接導致設備的銹蝕,因此冷卻液的緩蝕性能是冷卻液最基本的技術要求。根據(jù)光學冷加工設備常用的材料,應該對鑄鐵、普通鋼板、鋁件或銅件具有緩蝕作用。質量較差的冷卻液往往會加速設備腐蝕,降低冷加工設備的使用壽命,從而增加生產(chǎn)成本。 2 光學冷卻液對金剛石工具的致銳性能 為了使光學冷卻液具有我們所需要的性能,我們在自來水中加入了某些特性物質,比如一定量的金屬緩蝕劑,表面活性劑,適宜的潤滑劑等物來組成冷卻液的配方,它們的引入往往會帶來我們不需要的一些現(xiàn)象,比如:泡沫、氣味、對皮膚的過敏或刺激、對設備的腐蝕、毒性等,這些現(xiàn)象的強弱或大小,直接影響了冷卻液的綜合性能。 光學冷卻液在冷加工中與金剛石磨具的協(xié)調作用 高效光學冷加工一般分為銑磨(粗磨),精磨,和拋光三個階段,各階段所采用的工藝參數(shù)、輔料直接影響了光學加工的效能。在銑磨(粗磨),精磨或超精磨過程中,冷卻液的作用不可小覷。 用金剛石銑磨輪或鉆石粒(丸片)加工光學玻璃一般分為三個階段,即預磨、主磨削和光刀階段。根據(jù)各個階段的目的,冷加工設備由繼電器控制調壓閥來調節(jié)氣壓的大小和磨削時間。在預磨階段,由于磨具與玻璃之間吻合不好,施與低壓可防止沖擊而使金剛石磨盤的丸片脫落或使鏡盤工件打壞。在這一階段,由于金剛石工具與被加工光學元件處于低壓接觸磨削狀態(tài),此時金剛石對光學玻璃的磨削量很小,而同時,粗糙的玻璃表面對金剛石工具基體也產(chǎn)生磨削,作用的結果就是在金剛石工具的工作面上形成一個破壞層,這個破壞層由鑲嵌在基體中的金剛石小顆粒、合金基體的小突起和被吸附的基體粉末、金剛石粉、玻璃粉等。此階段是金剛石工具被致銳的階段,也是冷卻液發(fā)揮作用的主要階段,在此階段,冷卻液的作用是使吸附在工具表面的金屬基體微小顆粒和玻璃粉脫離工作面,從而增加了金剛石露出基體的高度,為主磨削作好準備。在主磨削階段,由于光學玻璃粗糙度逐漸變小,它與金剛石工具的接觸面積增大,在主磨削高壓擠壓磨削狀態(tài)下,在工作面將產(chǎn)生高熱量,此時,磨具工作面由于壓力和熱量的作用,在預磨階段產(chǎn)生的金屬基體小突起將產(chǎn)生塑性變形,突出基體的金剛石微粉也被擠壓而產(chǎn)生位移,被塑性變形的基體金屬重新包覆起來,在預磨階段被吸附的基體顆粒有可能被重新熔入基體,增加了金剛石微粉被包覆的程度,這種現(xiàn)象某些文獻將之稱為金剛石工具的 “膩塞”,導致的結果就是金剛石工具的切削力下降。在光刀階段,壓力變小,光學件表面粗糙度得到進一步的降低。 冷卻液在磨削中與金剛石工具的協(xié)同作用 根據(jù)上述分析,冷卻液最主要的作用就是將在精磨預磨階段產(chǎn)生的基體粉末最大量地吸附或溶解到冷卻液中,從而減少金剛石工具的 “膩塞”現(xiàn)象,以保證金剛石工具的切削力,如何達到這個目的呢?通常的看法有: 一是化學絡合(配合) 在磨削過程中由于熱量和空氣的作用,基體金屬有部分原子被氧化變?yōu)榻饘匐x子,適宜的絡合劑會與這些離子被絡合而脫離磨具工作面。 二是化學腐蝕 從理論上講,有一定的道理,但是,它往往還與化學反應的速率有關,應該說,它只起到輔助作用,因為,相較于機械摩擦來說,受所選用的化學物質的限制,它的反應速率要慢得多。 然而上面的兩種認識往往難于使冷卻液達到所需要的性能,更深層次的認識是解決光學冷卻液切削性能的技術核心。 冷卻液中化學物質的選用與作用 作為冷卻液配方物質的選擇,其原則是:無毒、無味、不起跑(或低泡),對皮膚刺激較小,對環(huán)境無污染,當然這只是一種原則,因為為了兼顧材料的使用性能,往往難于達到每種材料都能滿足我們的要求,試驗中往往以綜合性能來對選用物質進行取舍。 冷卻液的壽命` 冷卻液在精磨加工中,切削力會緩慢下降,直到不能滿足加工要求。連續(xù)加工的時間或加工的玻璃件數(shù)就是冷卻液的壽命。切削力的下降可以理解為有效物質的消耗,從而使其作用下降。光學冷卻液的使用壽命是衡量冷卻液性能的另一個重要標準。 3 結論 光學冷卻液在光學冷加工中具有十分重要的作用,其選用直接影響了光學冷加工的效能,最高性價比是選用光學冷卻液的最重要的原則。
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