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正文內(nèi)容

【內(nèi)部資料】反滲透系統(tǒng)操作維護(hù)技術(shù)手冊-資料下載頁

2025-06-06 18:12本頁面
  

【正文】 存在。標(biāo)準(zhǔn)化數(shù)據(jù)圖表不僅僅顯示了在一定時(shí)間RO系統(tǒng)運(yùn)行條件,而且顯示了運(yùn)行的歷史資料,這些圖表是故障診斷的主要手段。4)標(biāo)準(zhǔn)化數(shù)據(jù)海德能的RODATA標(biāo)準(zhǔn)化程序給出如下標(biāo)準(zhǔn)化數(shù)據(jù)圖表:標(biāo)準(zhǔn)化透鹽率—時(shí)間曲線這個(gè)曲線給出了系統(tǒng)啟動之日起的標(biāo)準(zhǔn)化透鹽率與系統(tǒng)參考數(shù)據(jù)的對比。標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)水量—時(shí)間曲線該曲線給出了系統(tǒng)從啟動之日起的標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)水量與系統(tǒng)參考數(shù)據(jù)的對比。鹽遷移系數(shù)—時(shí)間曲線鹽遷移系數(shù)(STC)曲線是值得關(guān)注的。這個(gè)數(shù)的重要性是代表了鹽透過膜速率的一個(gè)系數(shù),單位是米/秒。根據(jù)該系數(shù)我們可以對不同使用地點(diǎn)的膜進(jìn)行對比,而與具體的運(yùn)行參數(shù)無關(guān)。鹽遷移系數(shù)受到進(jìn)水離子組成的影響,比如二價(jià)離子增加時(shí),鹽遷移系數(shù)會較低。水遷移系數(shù)—時(shí)間曲線水遷移系數(shù)(WTC)也是值得我們關(guān)注的。該系數(shù)的主要性在于表達(dá)了水通過膜的速率,單位為米/秒—kpa。根據(jù)該系數(shù)我們可以對不同使用地點(diǎn)的膜進(jìn)行對比,與具體的運(yùn)行參數(shù)無關(guān)。標(biāo)準(zhǔn)化△P—時(shí)間曲線該曲線跟蹤了從系統(tǒng)啟動開始,進(jìn)水一濃水壓力降的變化情況?!鱌值反應(yīng)了由于進(jìn)水和濃水流量變化所造成的壓力降變化。五、復(fù)合聚酰胺反滲透膜元件(ESPA、ESNA、CPA、LFC、SWC)的污染和清洗本節(jié)內(nèi)容適用于注意:聚酰胺反滲透膜元件在任何情況下均不得與游離氯接觸,游離氯的氧化將使膜造成永久性的損傷。因此,在管路與設(shè)備滅菌操作或使用清洗劑與儲存保護(hù)劑之后均應(yīng)特別注意膜系統(tǒng)給水中是否含有游離氯殘留物。對此如有懷疑,應(yīng)進(jìn)行相應(yīng)檢測。如存在游離氯殘留物,可使用亞硫酸氫鈉將其還原,并滿足反應(yīng)時(shí)間以保證充分的脫氯。注意:在反滲透膜元件的擔(dān)保期內(nèi),建議每次膜元件的清洗應(yīng)與海德能公司協(xié)商后進(jìn)行。注意:在清洗溶液中,應(yīng)避免使用陽離子表面活性劑。使用陽離子表面活性劑可導(dǎo)致膜元件無法恢復(fù)的污染。反滲透膜元件的污染與清洗在正常運(yùn)行一段時(shí)間后,反滲透膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染,這些污染中最常見的是碳酸鈣沉淀、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶沉淀、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉淀、硅沉積物、無機(jī)或有機(jī)沉積混合物、NOM天然有機(jī)物質(zhì)、合成有機(jī)物(如:阻垢劑/分散劑,陽離子聚合電解質(zhì))微生物(藻類、霉菌、真菌)等污染。污染性質(zhì)和污染速度取決于各種因素,如給水水質(zhì)和系統(tǒng)回收率。通常污染是漸進(jìn)發(fā)展的,如不盡早控制,污染將會在相對較短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件確證已被污染,或是在長期停機(jī)之前,或是作為定期日常維護(hù),建議對膜元件進(jìn)行清洗。當(dāng)反滲透系統(tǒng)(或裝置)出現(xiàn)以下癥狀時(shí),需要進(jìn)行化學(xué)清洗或物理沖洗:在正常給水壓力下,產(chǎn)水量較正常值下降10~15%;為維持正常的產(chǎn)水量,經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加10~15%;產(chǎn)水水質(zhì)降低10~15%,透鹽率增加10~15%;給水壓力增加10~15%;系統(tǒng)各段之間壓差明顯增加(可能沒有儀表監(jiān)測該參數(shù))。在運(yùn)行數(shù)據(jù)未標(biāo)準(zhǔn)化的情況下,如果關(guān)鍵參數(shù)沒有改變,上述清洗原則依然可以適用。保持穩(wěn)定的運(yùn)行參數(shù)主要是指產(chǎn)水流量、 產(chǎn)水背壓、回收率、溫度及TDS。如果這些運(yùn)行參數(shù)起伏不定,強(qiáng)烈建議標(biāo)準(zhǔn)化數(shù)據(jù)以確定是否有污染發(fā)生,或者在關(guān)鍵運(yùn)行參數(shù)有變化的前提下反滲透的實(shí)際運(yùn)行是否正常。海德能公司提供標(biāo)準(zhǔn)化軟件RODATA。定時(shí)監(jiān)測系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件是否已發(fā)生污染的基本方法。污染對膜元件的影響是漸進(jìn)的,并且影響和程度取決于污染的性質(zhì)。表32“反滲透系統(tǒng)故障診斷一覽表”列出了常見的污染現(xiàn)象及其對膜性能的影響。已受污染的反滲透膜的清洗周期根據(jù)現(xiàn)場實(shí)際情況而定。正常的清洗周期是每312個(gè)月一次。如果在1個(gè)月以內(nèi)清洗一次以上,就需要對反滲透預(yù)處理系統(tǒng)做出進(jìn)一步調(diào)整和改善,如追加投資或重新進(jìn)行反滲透系統(tǒng)設(shè)計(jì)。如果清洗頻率是每3個(gè)月一次,就可以針對現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行改造。當(dāng)膜元件僅僅是發(fā)生了輕度污染時(shí),重要的是清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學(xué)藥劑深入浸透至污染層,影響清洗效果。如果膜元件的性能降低至正常值的3050%,那么,欲完全恢復(fù)膜元件出廠時(shí)的初始性能是不可能的。在反滲透系統(tǒng)設(shè)計(jì)中,可使用反滲透產(chǎn)品水沖刷系統(tǒng)中的污染物以降低清洗頻率。用產(chǎn)品水浸泡膜元件可有助于污垢的溶解、脫落,降低化學(xué)清洗的頻率。清洗何種污染物以及如何清洗要根據(jù)現(xiàn)場污染情況而進(jìn)行。對于幾種污染同時(shí)存在的復(fù)雜情況,清洗方法是采用低PH和高PH的清洗液產(chǎn)替清洗。表32 反滲透系統(tǒng)故障診斷一覽表污染原因可能污染位置系統(tǒng)壓降進(jìn)水壓力脫鹽率金屬氧化物污染(Fe、Mn、Cu、Ni、Zn)一段,最前端膜迅速增加迅速增加迅速降低膠體污染(有機(jī)和無機(jī)混合物)一段,最前端膜逐漸增加逐漸增加輕度降低無機(jī)物結(jié)垢(Ca、Mg、Ba、Sr)后段,最末端膜迅速增加增加降低二氧化硅沉積物后段,最末端膜一般增加增加一般降低生物污染任何位置,通常前端明顯增加明顯增加一般降低有機(jī)物污染所有段逐漸增加增加降低阻垢劑污染后段最嚴(yán)重增加增加一般降低膜氧化(CLOKmnO4)一段最嚴(yán)重一般增加降低降低膜水解(PH過高)所有段一般降低降低降低膜面磨損(碳粉、砂粒等顆粒物)一段最嚴(yán)重一般降低降低降低O型圈滲漏(內(nèi)連接管或適配器)無規(guī)則一般降低一般降低降低膜元件滲漏(產(chǎn)水背壓造成)最末端膜元件一般降低一般降低迅速降低污染情況分析碳酸鈣垢:碳酸鈣垢是一種礦物結(jié)垢。當(dāng)阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí),或是加酸PH調(diào)節(jié)系統(tǒng)出故障而引起給水PH增高時(shí),碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢,對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的PH值至35,運(yùn)行12小時(shí)的方法去除。對于沉積時(shí)間長的碳酸鈣垢,可用低PH值的檸檬酸溶液清洗去除。硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢:硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質(zhì)垢,且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加硫酸調(diào)節(jié)PH時(shí)沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除,因?yàn)樗鼈儙缀踉谒械那逑慈芤褐须y以溶解,所以應(yīng)加以特別的注意以防止此類結(jié)垢的生成。磷酸鈣垢:磷酸鈣垢在有高含最磷的市政廢水和污水中是較為常見的。通常這種垢可用酸性清洗液去除。目前在海德能公司的RO設(shè)計(jì)軟件中未包含磷酸鹽垢的計(jì)算。如果在給水中磷酸鹽的含量達(dá)到或大于5PPM,請與海德能公司技術(shù)部門聯(lián)系。金屬氧化物/氫氧化物污染:典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染的鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導(dǎo)因可能是裝置管路、容器(罐/槽)的腐蝕產(chǎn)物,或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽,或是由在預(yù)處理過濾系統(tǒng)中使用鐵或鋁助凝劑所致。聚合硅垢:硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態(tài)及聚合物所致,且非常難以去除。需要注意的是,這種硅的污染不同硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機(jī)物締合而造成的硅垢的去除很艱難,可采用傳統(tǒng)的化學(xué)清洗方法。如果采用傳統(tǒng)的方法不能解決這種垢的去除問題,請與海德能公司技術(shù)部門聯(lián)系?,F(xiàn)有有化學(xué)清洗藥劑,如氟化氫銨,已在一些項(xiàng)目上得到了成功的使用,但使用時(shí)須考慮此方法的操作危害和對設(shè)備的損壞,加以防護(hù)措施。膠體污染:膠體是懸浮在水中的無機(jī)物或是有機(jī)與無機(jī)混合物的顆粒,它不會由自身重力而沉淀。膠體物通常含以下有一個(gè)或多個(gè)主要組份,如:鐵、鋁、硅、硫或有機(jī)物。溶解性天然有機(jī)物污染(NOM):溶解性天然有機(jī)物污染(NOM,Natural Organic Matter)通常是由地表水或深井水中的營養(yǎng)物的分解而導(dǎo)致的。有機(jī)污染的化學(xué)機(jī)理很復(fù)雜,主要的有機(jī)組份或是腐植酸,或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染,一旦吸收作用產(chǎn)生,漸漸地結(jié)成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。微生物沉積:有機(jī)沉積物是由細(xì)菌粘泥、真菌、霉菌等生成物,這種污染物較難去除,尤其是在給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進(jìn)水難以充分均勻的進(jìn)入膜元件內(nèi)。為抑制這種沉積物的進(jìn)一步生長,重要的是不僅要清潔和維護(hù)RO系統(tǒng),同時(shí)還要清潔預(yù)處理、管道及端頭等。對膜元件采用氧化性殺菌時(shí),請與海德能公司技術(shù)支持部門聯(lián)系,使用海德能公司認(rèn)可的殺菌劑。清洗液的選擇和使用選擇適宜的化學(xué)清洗藥劑及合理的清洗方案涉及許多因素。首先要與設(shè)備制造商、RO膜元件廠商、或RO特用化學(xué)藥劑及服務(wù)人員取得聯(lián)系。確定主要的污染物,選擇合適的化學(xué)清洗藥劑。有時(shí)針對某種特殊的污染物或污染狀況,要使用RO藥劑制造商的專用化學(xué)清洗藥劑,并且在應(yīng)用時(shí),要遵循藥劑供應(yīng)商提供的產(chǎn)品性能及使用說明。有的時(shí)候可針對具體情況,從反滲透裝置取出已發(fā)生污染的單支膜元件進(jìn)行測試和清洗試驗(yàn),以確定合適的化學(xué)藥劑和清洗方案。為達(dá)到最佳的清洗效果,有時(shí)會使用一些不同的化學(xué)清洗藥劑進(jìn)行組合清洗。典型的程序是先在低PH值范圍的情況下進(jìn)行清洗,去除礦質(zhì)垢污染物,然后再進(jìn)行高PH清洗,去除有機(jī)物。有些情形下,是先進(jìn)行高PH清洗,去除油類或有機(jī)污染物,再進(jìn)行低PH清洗。有些清洗溶液中加入了洗滌劑以幫助去除嚴(yán)重的生物和有機(jī)碎片垢物,同時(shí),可用其它藥劑如EDTA螯合物來輔助去除膠體、有機(jī)物、微生物及硫酸鹽垢的。需要慎重考慮的是如果選擇了不適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)清洗方法和藥劑,污染情況會更加惡化?;瘜W(xué)清洗藥劑的選擇及使用準(zhǔn)則選用的專用化學(xué)藥劑,首先要確保其已由化學(xué)供應(yīng)商認(rèn)定并符合用海德能公司膜元件的要求。藥劑供應(yīng)商的指導(dǎo)/建議不應(yīng)與海德能公司此技術(shù)服務(wù)公告中推薦的清洗參數(shù)和限定的化學(xué)藥劑種類相沖突。使用的化學(xué)藥劑應(yīng)符合海德能公司膜元件的要求;優(yōu)化PH值、溫度及接觸時(shí)間等清洗條件,增強(qiáng)清洗效果;在推薦的最佳溫度下進(jìn)行清洗,以求達(dá)到最好的清洗效率和延長膜元件壽命的效果;以最少的化學(xué)藥劑接觸次數(shù)進(jìn)行清洗,對延續(xù)壽命有益;謹(jǐn)慎地由低至高調(diào)節(jié)PH值可延長膜元件的使用壽命。保守的PH范圍是410,強(qiáng)烈的PH范圍為212;典型的最有效有清洗方法是從低PH至高PH溶液進(jìn)行清洗。對油污染膜元件的清洗不能從低PH值開始,因?yàn)橛驮诘蚉H時(shí)會固化;清洗和沖洗流向應(yīng)保持相同的方向;當(dāng)清洗多段反滲透裝置時(shí),最有效的清洗方法分段清洗,這樣可控制最佳清洗流速和清洗液濃度,避免前段的污染物進(jìn)入下游膜元件;用較高PH產(chǎn)品水沖洗洗滌劑可減少泡沫的產(chǎn)生;在系統(tǒng)有生物污染時(shí),可在清洗之后加一個(gè)殺菌清洗步驟。殺菌可在清洗后進(jìn)行,也可在運(yùn)行期間定期進(jìn)行(如一星期一次)。必須確認(rèn)所使用的殺菌劑與膜元件相容,不會帶來任何對人的健康有害的風(fēng)險(xiǎn),并能有效地控制生物活性,且成本較低;為安全起見,要確保在清洗時(shí)所有的軟管和管路可承受清洗溫度、壓力和PH條件下的操作;為保證安全,溶解化學(xué)藥品時(shí),切記要慢慢地將化學(xué)藥劑加入充足的水中并同時(shí)進(jìn)行攪拌;為確保安全,在接觸化學(xué)品操作時(shí),必要時(shí)戴上安全眼鏡,穿好防護(hù)服裝;從安全方面考慮,不能將酸與苛性(腐蝕性)物質(zhì)混合。在要使用下一種溶液之前,從RO系統(tǒng)中徹底沖洗干凈滯留的前一種化學(xué)清洗溶液。清洗液的選擇表33列出了在清洗不同的膜污染物時(shí)所推薦的化學(xué)溶液。重要提示:要從化學(xué)品供應(yīng)商處力求得到化學(xué)藥劑的性能參數(shù)、操作指南和安全注意事項(xiàng),并且在處理和保存所有化學(xué)品時(shí)嚴(yán)格按照說明書要求執(zhí)行。表33 海德能公司推薦的化學(xué)清洗液污染物清洗液配方弱洗時(shí)強(qiáng)洗時(shí)碳酸鈣垢14碳酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢24金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)15無機(jī)膠體污染物14無機(jī)/有機(jī)膠體混合污染物26二氧化硅沉積物無7微生物類23或6天然有機(jī)物(NOM)23或6表34 海德能公司清洗液配方(以100加侖,既379升為基準(zhǔn))清洗液主要組份藥劑量PH調(diào)節(jié)值最高溫度℃1檸檬酸100%粉末()用氫氧化銨調(diào)節(jié)PH=402STPP三聚磷酸鈉100%粉末NaEDTA(VERSENE220或相當(dāng))100%粉末()()用硫酸或鹽酸調(diào)節(jié)PH=403STPP三聚磷酸鈉100%粉末NaEDTA(十二烷基苯磺酸鈉)()()用硫酸或鹽酸調(diào)節(jié)PH=404HCL鹽酸(22波美度或36%HCL)()先用鹽酸緩慢調(diào)低PH,355亞硫酸氫鈉100%粉末()先用氫氧化鈉緩慢調(diào)高PH,356NaOH氫氧化鈉100%粉末或50%液體氫氧化鈉SDS十二嘗烷基磺酸鈉()()()先用氫氧化鈉緩慢調(diào)高PH,307NaOH氫氧化鈉100%粉末或50%液體氫氧化鈉()()先用氫氧化鈉緩慢調(diào)高PH,30表35不同溫度下的清洗液PH值的選取范圍膜元件類型清洗液PH值45℃35℃30℃CPA210212ESPA210212LFC210212SWC210211212ESNA310212表34“海德能公司清洗液配方”給出了表33中七種清洗液的配方。清洗液是按所用化學(xué)藥品和水量的比例配制的。溶劑是RO產(chǎn)品水或去離子水,無游離氯和硬度。清洗液進(jìn)入膜元件之前,要求徹底混和均勻,并按照目標(biāo)值調(diào)PH,且按目標(biāo)溫度值穩(wěn)定溫度。常規(guī)的清洗方法基于用化學(xué)清洗溶液循環(huán)清洗一小時(shí)和一種任選的化學(xué)藥劑浸泡一小時(shí)的操作而設(shè)定的。表35“海德能公司膜元件清洗最大PH和溫度極限”給出了在不同溫度下清洗膜元件時(shí)的PH限定范圍,超出這一范圍會造成不可恢復(fù)的膜元件損壞。在較高溫度下清洗效力和清洗藥劑的溶解性會有明顯改善,建議的
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