光學(xué)薄膜的特性檢測(cè)-資料下載頁
2025-05-07 22:49本頁面
【正文】 樣品進(jìn)入光電接收器，得到光強(qiáng)度值 I；另一束進(jìn)入?yún)⒖脊馐遥偃肷涞搅硪还怆娊邮掌魃? 得到光強(qiáng)度值 I0，電信號(hào)系統(tǒng) ——將這兩個(gè)信號(hào)值相除，就得到這個(gè)波長(zhǎng)的透射比 T,讓單色儀自動(dòng)掃描，記錄儀同步記錄的 就是樣品的光譜透射比 T（ λ）。 薄膜系統(tǒng)透射比的測(cè)量 薄膜系統(tǒng)反射比的測(cè)量 測(cè)量時(shí)先不放被測(cè)樣品，光電接收器D放在位置 Ⅰ ，測(cè)得光強(qiáng) I0；插入被測(cè)樣品，光電接收器轉(zhuǎn)到位置 Ⅱ ，測(cè)得光強(qiáng)I1。 于是被測(cè)樣品的反射比 R為 薄膜系統(tǒng)反射比的測(cè)量 高能激光的發(fā)展要求有質(zhì)量非常高的光學(xué)薄膜．光學(xué)薄膜吸收的存在，是限制高能激光發(fā)展的主要因素之一． 為了改善光學(xué)薄膜質(zhì)量，提高其損傷閾值，需要精確測(cè)量光學(xué)薄膜的微弱吸收。 薄膜系統(tǒng)弱吸收的測(cè)量 薄膜系統(tǒng)弱吸收的測(cè)量 光學(xué)薄膜吸收率的測(cè)量技術(shù)主要有： 光熱輻射技術(shù)口 激光量熱技術(shù) 表面熱透鏡技術(shù) 光聲光譜技術(shù) 光熱偏轉(zhuǎn)技術(shù) 本次主要介紹光熱偏轉(zhuǎn)技術(shù) 薄膜系統(tǒng)弱吸收的測(cè)量 光熱偏轉(zhuǎn)技術(shù)的特點(diǎn)： 靈敏度高 實(shí)驗(yàn)裝置相對(duì)簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn) 可對(duì)高腐蝕性樣品進(jìn)行非接觸檢測(cè) 薄膜系統(tǒng)弱吸收的測(cè)量 基本原理： 當(dāng)強(qiáng)度受調(diào)制的泵浦光束被聚焦到鍍有光學(xué)薄膜基片 的前表面時(shí)，由于光吸收的存在，使吸收的能量部分 或全部轉(zhuǎn)變成熱，從而引起薄膜局部溫度上升，使熱 波在相鄰媒質(zhì)中傳播 (空氣與基質(zhì) )． 這種調(diào)制的溫度 升高通過折射率的空間變化以及熱膨脹引起的樣品表 面彎曲得以實(shí)現(xiàn)的．光熱偏轉(zhuǎn)技術(shù)則是通過測(cè)量由于 折射率梯度和樣品表面熱彎曲引起的探測(cè)光束的偏轉(zhuǎn) 從而測(cè)定光學(xué)薄膜微弱吸收特性。 薄膜系統(tǒng)弱吸收的測(cè)量 實(shí)驗(yàn)裝置： 薄膜厚度和折射率的測(cè)量 ? 干涉法測(cè)厚度和折射率： 干涉法是利用相干光干涉形成等候干涉條紋原理來確定薄膜厚度和折射率的。根據(jù)光干涉條紋方程，對(duì)于不透明膜 對(duì)于透明膜 在上式中， q為條紋錯(cuò)位條紋數(shù)， c為條紋錯(cuò)位量， e為條紋間隔。因此，測(cè)得 q， e， c局可以求出薄膜厚度 d或者折射率 nf。 ? ?2d q c e?? ? ?? ? ? ?21d n f q c e?? ? ? ?????薄膜的厚度和折射率的測(cè)量方法 ? 最簡(jiǎn)單普遍的測(cè)量折射率的方法： 測(cè)量單層薄膜在中心波長(zhǎng)位置的 R，由 得到薄膜折射率 ? 精確測(cè)量折射率的方法 —— 布儒斯特角法 改變偏振光的入射角，當(dāng)磨蹭反射光強(qiáng)與基底反射光強(qiáng)一致時(shí)，這是的入射角就是布儒斯特角，有 ，即得到薄膜的折射率 薄膜透射率和反射率的測(cè)量 ? 使用分光光度計(jì)測(cè)量的方法 薄膜透射率和反射率的測(cè)量 薄膜透射率和反射率的測(cè)量 ? 在透過率測(cè)量時(shí)，一起測(cè)量是通過樣品光路到達(dá)檢測(cè)器的光強(qiáng) P與通過參與比光路到達(dá)檢測(cè)器的光強(qiáng) P0的比值，稱之為透過率 T ? 測(cè)量過程包括 反射率測(cè)量 ? ? 率測(cè)量 VW型 反射率測(cè)量 VN型 反射率測(cè)量 根據(jù) VW和 VN測(cè)量原理設(shè)計(jì)自己的測(cè)量附件 反射率測(cè)量
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