【總結(jié)】第四章第四章集成電路設(shè)計(jì)第四章集成電路是由元、器件組成。元、器件分為兩大類:無源元件電阻、電容、電感、互連線、傳輸線等有源器件各類晶體管集成電路中的無源源件占的面積一般都比有源器件大。所以設(shè)計(jì)時(shí)盡可能少用無源元件,尤其是電容
2025-05-04 18:03
【總結(jié)】?掌握集成電路、半導(dǎo)體集成電路的基本概念,掌握集成度的概念,能夠正確區(qū)分SSI、MSI、LSI、VLSI、ULSI等不同集成度的集成電路。?掌握數(shù)字集成電路與模擬集成電路的概念,了解兩者的聯(lián)系與區(qū)別。?了解集成電路的分類方法。?了解目前半導(dǎo)體集成電路的發(fā)展趨勢。?熟悉典型雙極型半導(dǎo)體集成電路的工藝流程,了解其工藝特點(diǎn)。?了解集成電路
2025-05-06 12:49
【總結(jié)】第六章雙極型模擬集成電路集成化元、器件及其特點(diǎn)集成差分放大電路電流模電路功率輸出級電路集成運(yùn)算放大器第二節(jié)第一節(jié)第五節(jié)第四節(jié)第三節(jié)第一節(jié)集成化元、器件及其特點(diǎn)一集成電路工藝簡介以制造NPN管的工藝流程為例氧化光刻
2025-05-01 02:37
【總結(jié)】1第四章集成電路器件工藝雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關(guān)的VLSI工藝BiCMOS工藝2第四章集成電路器件工藝IC材料、工藝、器件和電路材料工藝器件電路形式電路規(guī)模Si-BipolarD,BJT,
2025-04-29 04:50
【總結(jié)】第四章集成電路制造工藝?集成電路設(shè)計(jì)與制造的主要流程框架設(shè)計(jì)芯片檢測單晶、外延材料掩膜版芯片制造過程封裝測試系統(tǒng)需求集成電路的設(shè)計(jì)過程:設(shè)計(jì)創(chuàng)意+仿真驗(yàn)證集成電路芯片設(shè)計(jì)過程框架From吉利久教授
2025-05-07 07:17
【總結(jié)】2022/6/21TTL與非門低功耗肖特基系列TTL集成邏輯門電路TTL數(shù)字集成電路系列其它功能的TTL門電路TTL集成邏輯門的使用注意事項(xiàng)2022/6/22復(fù)習(xí)1、三極管飽和導(dǎo)通相當(dāng)于開關(guān)是什么狀態(tài)?2、什么是狀態(tài)賦值?3、二極管與門、或門有何優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)?2022/6/2
2025-05-05 18:17
【總結(jié)】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)第七章集成電路版圖設(shè)計(jì)華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院廣州集成電路設(shè)計(jì)中心殷瑞祥教授版圖設(shè)計(jì)概述?版圖(Layout)是集成電路設(shè)計(jì)者將設(shè)計(jì)并模擬優(yōu)化后的電路轉(zhuǎn)化成的一系列幾何圖形,包含了集成電路尺寸大小、各層拓?fù)涠x等有關(guān)器件的所有物理信息。?集成電路制造廠家根據(jù)版圖來制造掩膜。版圖的設(shè)
【總結(jié)】集成電路工藝原理第三講光刻原理11集成電路工藝原理仇志軍(username&password:vlsi)邯鄲路校區(qū)物理樓435室助教:沈臻魁楊榮邯鄲路校區(qū)計(jì)算中心B204集成電路工藝原理第三講光刻原理12凈
2025-01-15 16:29
【總結(jié)】主講郭世香課件可登陸以下郵箱下載:登錄密碼:000000培訓(xùn)內(nèi)容重點(diǎn)掌握各種典型電子電路的功能、工作原理、性能指標(biāo)和分析方法。1、掌握典型組合邏輯電路的分析和設(shè)計(jì)方法2、掌握典型時(shí)序邏輯電路的分析與設(shè)計(jì)方法3、集成555定時(shí)器
2025-04-28 22:03
【總結(jié)】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)第三章集成電路制造工藝華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院廣州集成電路設(shè)計(jì)中心殷瑞祥教授第3章IC制造工藝外延生長掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝2關(guān)心每一步工藝對器件性
【總結(jié)】電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-121第1章集成電路設(shè)計(jì)導(dǎo)論1、微電子(集成電路)技術(shù)概述2、集成電路設(shè)計(jì)步驟及方法電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-122?“自底向上”(Bottom-up)“自底向上”的設(shè)計(jì)路線,即自工藝開始,先進(jìn)行單元設(shè)計(jì),在精心設(shè)計(jì)
2025-04-29 03:20
【總結(jié)】《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》山東大學(xué)信息學(xué)院劉志軍BCEP+P+PMOSN+PN阱N阱縱向NPN-SUBP+N+N+NMOS-P-epiN+N+-BLN+-BL2022/2/13《集成電路設(shè)
2025-01-17 09:42
【總結(jié)】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義:光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。二、光刻的目的:光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對應(yīng)的幾何圖形,從而實(shí)現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程:以負(fù)膠為例來說明這八個(gè)步驟,一般可分為
【總結(jié)】模擬集成電路中的直流偏置技術(shù)差分式放大電路的傳輸特性集成電路運(yùn)算放大器實(shí)際集成運(yùn)算放大器的主要參數(shù)和對應(yīng)用電路的影響差分式放大電路模擬乘法器變跨導(dǎo)式模擬集成電路中的直流偏置技術(shù)BJT電流源電路FET電流源1.鏡像電流源2.微電流源3.高輸出阻
2025-02-21 10:15
【總結(jié)】GuilinUniversityofElectronicTechnology電子技術(shù)基礎(chǔ)A(模擬部分)6:模擬集成電路2/105集成電路IC總論集成電路OP中的電流源差分式放大電路集成電路運(yùn)算放大器集成電路OP的主要參數(shù)3/105集成電路(IC)總論?復(fù)合管電路?
2025-05-05 01:06