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熱平衡態(tài)下半導(dǎo)體載流子的統(tǒng)計分布-資料下載頁

2025-04-30 02:04本頁面
  

【正文】 ????????????當(dāng) : EF=EC, ξ=0, F1/2 (0)≈ 0 . 7 8 ( 1 2 )DEkTDCN N e???ND ~ NC 至少處于同一數(shù)量級; P 型簡并半導(dǎo)體, NA ~NV ND≥ 簡并半導(dǎo)體為重摻雜半導(dǎo)體 重摻雜 : 當(dāng)半導(dǎo)體中的雜質(zhì)濃度超過一定數(shù)量時, 載流子開始簡并化的現(xiàn)象叫 ?。 四、簡并半導(dǎo)體中的雜質(zhì)能級 雜質(zhì)能帶 : 在簡并半導(dǎo)體中,雜質(zhì)濃度高,導(dǎo)致雜質(zhì) 原子之間電子波函數(shù)發(fā)生交疊,使孤立的雜質(zhì) 能級擴展為雜質(zhì)能帶 。 雜質(zhì)帶導(dǎo)電 : 雜質(zhì)能帶中的電子通過在雜質(zhì)原子之間的 共有化運動參加導(dǎo)電的現(xiàn)象 。 禁帶變窄效應(yīng) : 重摻雜時,雜質(zhì)能帶進入導(dǎo)帶或價帶,形 成新的簡并能帶,簡并能帶的尾部深入到禁帶 中,稱為帶尾,從而導(dǎo)致禁帶寬度變窄 。 導(dǎo)帶 Eg 施主能級 價帶 施主能帶 本征導(dǎo)帶 簡并導(dǎo)帶 能帶邊沿尾部 Eg E180。g 價帶 )(Eg )(Eg簡并 : △ ED→0, Eg→Eg' 禁帶變窄 ● 施主能級分裂成能帶; ● 導(dǎo)帶 = 本征導(dǎo)帶 + 雜質(zhì)能帶 ● 在 EC 附近, gC(E) 明顯增加 39。0,D g gE E E? ? ?● 雜質(zhì)上的電子直接參與導(dǎo)電 ● 電子占據(jù)量子態(tài)的幾率: 費米分布函數(shù) → 簡并半導(dǎo)體 玻爾茲曼函數(shù) → 非簡并半導(dǎo)體 ● 能量狀態(tài)密度: 導(dǎo)帶: gC(E) ∝ E 1/2 價帶: gV(E)∝ E 1/2 第三章 小結(jié) 2ioo npn ?kTEEvovFeNp???kTEEioiFenn??kTEEccoFeNn???● 載流子濃度: 導(dǎo)帶電子濃度: 價帶空穴濃度: 濃度積: ( ? )oiPn?ioo npn ??iF EE ?2/12 )(4)(21)(21?????? ??????????ADCACACo NNNNNNNn● 本征半導(dǎo)體: ● 非簡并半導(dǎo)體: N型: 低溫弱電離區(qū) ( P 型 ? ) CDDCF NNkTEEE2ln22 ???kTECDoDeNNn 22/1)2(???CoCF NnkTEE ln??只含 ND: iADiF nNNkTEE ??? lniDiF nNkTEE ln??ADo NNn ??Do Nn ?飽和電離區(qū) 只含 ND ? ?? ?2422/122iADADonNNNNn ?????? ?? ?2422/122iADADonNNNNp ??????? ?? ?iiADADiF nnNNNNkTEE24ln2/122??????過渡區(qū) 本征區(qū) CF EE ? VF EE ?● 飽和電離區(qū)的確定 ● 簡并半導(dǎo)體 載流子濃度 簡并條件: 或 簡并時的雜質(zhì)濃度和雜質(zhì)能級 重摻雜 雜質(zhì)能帶 第三章習(xí)題 10. 已知: T=300K, ni= 1013/cm3, △ ED=, Nc= 1019/cm3, D- =10% 解: 317m a x/22)(cmeeNDNkTEcDD??????????314m i n/10)(cmnN iD???12. 已知:△ ED=, D- =10% , on mm * ?解: kTEcDDeNND?? ? 2kTEcDDeNN?? DckTENNeD20??DcDNNkTE20lnln ???2/32*)2(2hkTmN nc??( 1/cm3) 令: kTETf D??)(1DnDcNhkmTNNTf20ln)2(2lnln2320lnln)(2/32*2??????13. 已知: ND=1015/cm3, △ ED= 解: 77K時 , 材料處于低溫弱電離區(qū) 3182/32*/)2(2cmhkTmNnc????2/12 )(4)(21)(21?????? ??????????ADCACACo NNNNNNNn 其中: NA=0 315/21cmeNN kTECCD?????? no= 1014/cm3 或: kTECDoDeNNn 22/1)2(???= 1015/cm3 T=300K時 , ni= 1010/cm3<< ND 材料處于飽和電離區(qū) 315 /10 cmNnDo ??500k時, 315314/10/102cmNcmnDi???材料處于過渡區(qū) ? ?2422/122iDDonNNn???= 1015/cm3 800k時 , ni=9 1016(1017)/cm3>> ND 材料處于本征 區(qū) no=po=ni : KTcmNcmNAD300//109316315????? 解: NA> ND, 材料為 P型 材料處于飽和電離區(qū) 315 /102 cmNNpDAo ????35152102/102)(cmpnnoio??????kTEEioiFenp???eVEnNNkTEEiiDAiFln?????或: eVENNNkTEEVVDAVFln?????: NA=1022/m3=1016/cm3 T=300K和 600K 解: T=300K時 , ni= 1010/cm3<< NA 材料處于飽和電離區(qū) po=NA=1016/cm3 34162102/10)(cmpnnoio?????evEnNkTEEiiAiFln????evENNkTEEVvAVFln????或: 600K時 , ni=8 1015/cm3 材料處于過渡區(qū) 3162/122/)41(1)2(cmNnNpAiAo???????????31512/1222/)41(1)2(cmNnNnnAiAio????????????evEnNk Ts hEEiiAiF)2(1?????21. 試計算摻磷的硅,鍺在室溫下開始發(fā) 生弱簡并時的雜質(zhì)濃度為多少? 解: 由 no=nD+ N型半導(dǎo)體 1 / 22()12DFDC EEkTNNFe?? ????又 ∵ 弱簡并時, EF+2 kT =EC 1 / 21 / 21 / 22( 1 2 ) ( )2( 1 2 ) ( )2( 1 2 ) ( )FDF C C DDEEkTDCE E E Ek T k TCEkTCN N e FN e e FN e e F????????????????? ?=2
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