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2025-01-15 04:24本頁面
【正文】 與體內(nèi)質(zhì)點間距 do相比有所膨脹。216。發(fā)生弛豫現(xiàn)象的原因是 由于表面質(zhì)點受力的情況不對稱 ，它可以波及幾個質(zhì)點層，而每一層間的膨脹（或壓縮）程度可能是不同的，而且越接近最表層變化越顯著。馳豫 馳豫結(jié)構(gòu)是指表面區(qū)晶格結(jié)構(gòu)保持不變，只是晶格常數(shù)變化 , 可大于零（晶格常數(shù)增加），也可以小于零。ds內(nèi)部表面d0Date 51重構(gòu) 表面結(jié)構(gòu)重構(gòu)：是指表面結(jié)構(gòu)和體結(jié)構(gòu)出現(xiàn)了本質(zhì)的不同。重構(gòu)通常表現(xiàn)為 表面超結(jié)構(gòu) 的出現(xiàn)，即兩維晶胞的基矢按整數(shù)倍擴大。 表面重構(gòu)現(xiàn)象在硅半導體中經(jīng)常出現(xiàn)，這可能和硅半導體的鍵合方向性和四面體配位有關(guān)。表面原子排列的調(diào)整d0內(nèi)部表面d0Date 52吸附表面在清潔表面上有來自體內(nèi)擴散到表面的雜質(zhì)和來自表面周圍空間吸附在表面上的質(zhì)點所構(gòu)成的表面。吸附表面可分為四種吸附位置 ：頂吸附、橋吸附 、填充吸附、中心吸附 頂吸附 橋吸附填充吸附 中心吸附俯視圖剖面圖Date 53超結(jié)構(gòu) 在一些單晶金屬的表面區(qū)原子的重新排列時，它與內(nèi)部（襯底）原子的排列無直接關(guān)系，這種表面結(jié)構(gòu)稱超結(jié)構(gòu)。表面原子排列的調(diào)整Date 54外來因素引起的調(diào)整（ 1） 吸附 （ 2） 合金合金：通過一些外來原子與襯底原子間的互擴散，可以使系統(tǒng)的熵增加，從而減小表面能，這個過程就是合金Date 55 實際表面是指材料經(jīng)過一般的加工（切割、研磨、拋光、清洗）后，保持在常溫、常壓下的表面，當然有時也可能在低真空或高溫之下。實際表面的特征表面外形和表面粗糙度表面的不平整程度（最高點與最低點間的距離）大于 10mm時，稱為形狀誤差； 1－ 10mm時稱為波紋度；小于 1mm則稱為表面粗糙度（ surface roughness).Date 56表面粗糙程度是用粗糙度系數(shù) R來量度的 其中：Ar —— 幾何表面面積Ag—— 包括內(nèi)表面等在內(nèi)的實際表面積實際表面的特征Date 57表面的組織經(jīng)過切磨、擠壓、拋光等加工后材料的表面，在相當寬的范圍內(nèi)，晶粒的大小、結(jié)晶程度、應(yīng)力畸變和顯微組織等特征，有明顯的不均一性。（ 1）晶粒尺寸的變化 在切磨、拋光等機械加工操作中會產(chǎn)生大量熱能，往往能使表面區(qū)局部熔化，然后又迅速結(jié)晶，這樣就帶來了從表面到內(nèi)部約 1um左右范圍內(nèi)經(jīng)歷尺寸的不均勻性，特別是在距表面 。實際表面的特征Date 58（ 2）貝爾比層 材料經(jīng)過拋光后，表面有一光亮而致密的、厚度約5~100nm的表面層，稱貝爾比層，這在金屬合金材料中特別明顯。（ 3）一個經(jīng)拋光和機械加工后的金屬的表面區(qū)金屬需經(jīng)過打磨獲得平整的表面后，才能進行拋光，機械加工過程中還會形成各種損傷區(qū)。實際表面的特征Date 59表面的成分 由于吸附和不同相的化學勢不同等因素，會形成表面區(qū)的主成分、雜質(zhì)同體內(nèi)的有明顯差別。研究中發(fā)現(xiàn)，表面區(qū)的雜質(zhì)濃度往往比體內(nèi)大，稱為偏析；相反，表面區(qū)雜質(zhì)濃度低于體內(nèi)，稱為耗盡。由于表面存在的偏析（耗盡）效應(yīng)，材料表面處的成分與配方上的會有所偏差。實際表面的特征Date 6
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