現(xiàn)代分析測試技術(shù)se-資料下載頁
2025-05-10 10:09本頁面
【正文】 變化的 ESEM圖像 場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)指標(biāo) ?分辨率 — 加速電壓 30kV； ?分辨率 — 加速電壓 1kV； ?當(dāng)代掃描電鏡更新?lián)Q代的主流 — 促使 高分辨掃描電子顯微術(shù) 和 低能掃描電子顯微術(shù) 得到很大發(fā)展； 場發(fā)射掃描電鏡主要發(fā)展 ?進(jìn)一步 提高電子束照明源的工作穩(wěn)定性 ，減小其閃爍噪音：以 ZrO/W(100)單晶作肖特基式陰極的場致發(fā)射電子槍，可以保證在 1800K的工作溫度下電子發(fā)射穩(wěn)定。 ?進(jìn)一步提高在 低加速電壓下對大試樣觀察和分析的分辨率 ：在半浸沒型物鏡設(shè)計的基礎(chǔ)上同時 采用光闌角控制透鏡和動力學(xué)補(bǔ)償物鏡球差 的電子學(xué)方法等技術(shù)措施；在檢測器前輔加一對加速電極和一對阻止電極， 提高對二次電子的檢測效率： 德國 Mira型掃描電鏡：被檢物最大尺寸可為 直徑 700mm， 高 600mm， 長 1400mm，最大重量可達(dá) 300公斤，真空室長 1400，寬 1100和高 1200mm。 分辨本領(lǐng) 4nm， 加速電壓 ～ 20kV。 計算機(jī)智能控制、非破壞性檢測； 應(yīng)用： 工業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量管理，微機(jī)加工和工藝品的檢查、考古研究等。
高考資料相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1