高純多晶硅潔凈生產(chǎn)工藝-資料下載頁
2025-05-14 09:23本頁面
【正文】 潔凈室行為規(guī)范 （ 半導(dǎo)體行業(yè)潔凈室行為規(guī)范） 二、 進(jìn)出凈化區(qū)物品的管理規(guī)定 ，并只可通過兩個通道進(jìn)入：大件由電梯間進(jìn)入，其余小物品（長度小于 1m）由凈更衣室經(jīng)風(fēng)淋進(jìn)入； 5%的異丙醇或純水擦洗干凈。 ，不要沾污地面，如有沾污及時清洗干凈； ，搬運(yùn)人員進(jìn)入電梯間必須更換干凈的拖鞋； （瓶）在退回前貼好化學(xué)特性標(biāo)識 5 潔凈室行為規(guī)范 三、 凈化區(qū)行為舉止細(xì)則 ，留長指甲 ,噴香水 。 工 出入 必須 進(jìn)行必要 的 風(fēng)淋除塵過程 ，作好交接班和衛(wèi)生打掃； 、飲料、水不得帶入凈化間，不得在凈化間吃口香糖 、奔跑、四處閑逛、不做和工作無關(guān)的事； 、工作臺和地板上； ，常做 6S； ，不得觸摸與自己無關(guān)的儀器和設(shè)備； （緊急事故除外）； 5 潔凈室行為規(guī)范 四、預(yù)防污染 、工具及其他凈化區(qū)器材； 、抹臉或搓手，手套若觸及臉部應(yīng)立即更換； 、手套破損必須及時更換 5人及以上人員聚堆 ，應(yīng)在手套外面再戴一層手套，在清潔結(jié)束后，將外層手套脫掉后才能進(jìn)行生產(chǎn)操作。 N2氣槍時，必須低于工作臺之下，以免粉塵污染圓片； ，產(chǎn)品片的放置高度不得低于 30公分，以避免受到人員走動時產(chǎn)生的顆粒污染； ，不得接近有圓片放置的工作臺面和設(shè)備，必須與圓片保持至少 30公分的距離； ，可將凈化紙預(yù)先裁成合適大小再帶入凈化間。 60公分的位置； ，禁止直接暴露在空氣中，以免粉塵污染圓片； 5 潔凈室行為規(guī)范 五、凈化區(qū)內(nèi)設(shè)備維修和施工操作規(guī)定 “正在維修”標(biāo)識牌； ，應(yīng)做好凈化防護(hù)措施； ，在使用前再進(jìn)行擦洗； ,避免亂堆亂放，維修結(jié)束后將所有工具清理干凈； ，不得坐或躺在地板上，如確實(shí)需要先鋪墊塑料隔離墊； ,必須用真空吸管吸掉并認(rèn)真擦干凈，同時將工作桌面、地面清掃干凈； ，禁止踩踏管線或設(shè)備。 5 潔凈室行為規(guī)范 6 多晶硅生產(chǎn)過程中需避免的潔凈問題 避免交叉污染 對潔凈要求高的生產(chǎn)區(qū)要達(dá)到一定的潔凈等級 高潔凈區(qū)與低潔凈區(qū)間應(yīng)設(shè)置緩沖區(qū) 對易產(chǎn)生污染的區(qū)域要單獨(dú)放置 可能存在的金屬離子粘污 ，水中金屬離子超標(biāo) 金屬含量超標(biāo) (用無塵布包裹） （測試間使用邊角是 AL的桌子，測試時移動硅芯的過程中可能會粘污金屬 AL)
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