高考化學(xué)專題復(fù)習(xí)分類練習(xí)-無機非金屬材料推斷題綜合解答題及詳細(xì)答案-資料下載頁
2025-04-05 05:12本頁面
【正文】 量”一定要引起高度重視。14．高純二氧化硅可用來制造光纖。某蛇紋石的成分見下表：通過下圖流程可由蛇紋石制備較純凈的二氧化硅。(1)蛇紋石中涉及的可溶性金屬氧化物有___________________(寫化學(xué)式)。(2)步驟①中涉及SiO2 反應(yīng)的離子方程式為_________________________ 。(3)濾渣 A的成分有__________________ (填化學(xué)式)。(4)步驟②中洗滌沉淀的方法是 _____________________________________________。(5)步驟③反應(yīng)的化學(xué)方程式為 _______________________________________；實驗室進行步驟③需要用到的儀器有坩堝、泥三角、酒精燈、玻璃棒、________和____________?！敬鸢浮縉a2O、K2O SiO2+2OH=SiO32 +H2O MgO和Fe2O3 向漏斗中注入蒸餾水至浸沒沉淀，讓水自然流下，重復(fù)操作2~3次 H2SiO3 SiO2+H2O 坩堝鉗 三腳架 【解析】【分析】用足量的氫氧化鈉浸泡，二氧化硅可以和氫氧化鈉反應(yīng)生成硅酸鈉，過濾得濾液A為硅酸鈉溶液，MgO和Fe2O3不能與氫氧化鈉反應(yīng)，濾渣A為MgO和Fe2O3，氧化鈉、氧化鉀與水反應(yīng)生成氫氧化鈉和氫氧化鉀；硅酸鈉溶液中加入鹽酸生成硅酸沉淀，過濾、洗滌得濾渣B為硅酸，煅燒硅酸可得二氧化硅；(1)氧化鈉、氧化鉀、氧化鐵、氧化鎂、二氧化硅中，氧化鈉、氧化鉀為可溶性金屬氧化物；(2)二氧化硅為酸性氧化物，與氫氧化鈉反應(yīng)生成硅酸鈉和水；(3)與氫氧化鈉溶液不反應(yīng)的氧化物為濾渣；(4)加入鹽酸后的沉淀為硅酸，選擇洗滌過濾后的硅酸的方法；(5)硅酸不穩(wěn)定受熱易分解生成二氧化硅和水；依據(jù)灼燒固體操作選擇合適的儀器?！驹斀狻?1)蛇紋石中含有的可溶性金屬氧化物有Na2O、K2O，它們能與水反應(yīng)生成氫氧化鈉和氫氧化鉀；(2)二氧化硅屬于酸性氧化物，可與氫氧化鈉溶液反應(yīng)生成硅酸鈉和水，反應(yīng)的離子方程式為：SiO2+2OH=SiO32 +H2O；(3)氧化鈉與氧化鉀屬于可溶性氧化物，氧化鋁屬于兩性氧化物，二氧化硅屬于酸性氧化物，上述四種物質(zhì)都能溶解在氫氧化鈉溶液中，氧化鎂和氧化鐵屬于堿性氧化物且難溶于水，因此，濾渣A的成分有MgO和Fe2O3；(4)步驟②生成沉淀的成分是硅酸，洗滌過濾出的沉淀的方法是：向過濾器中注入蒸餾水至浸沒沉淀，待水自然流出后，重復(fù)上述操作兩到三次；(5)步驟③用灼燒的方法使硅酸分解生成二氧化硅，化學(xué)方程式為：H2SiO3SiO2+H2O，實驗室灼燒固體時需要用到的儀器有坩堝、泥三角、酒精燈、玻璃棒、坩堝鉗和三腳架。15．晶體硅是信息科學(xué)和能源科學(xué)中的一種重要材料，可用于制芯片和太陽能電池等。以下是工業(yè)上制取純硅的一種方法。請回答下列問題(各元素用相應(yīng)的元素符號表示)：(1)在上述生產(chǎn)過程中，屬于置換反應(yīng)的有____(填反應(yīng)代號)。(2)寫出反應(yīng)③的化學(xué)方程式_______。(3)化合物W的用途很廣，通?？捎米鹘ㄖI(yè)和造紙工業(yè)的黏合劑，可作肥皂的填充劑，是天然水的軟化劑。將石英砂和純堿按一定比例混合加熱至1 373～1 623 K反應(yīng)，生成化合物W，其化學(xué)方程式是___。(4)A、B、C三種氣體在“節(jié)能減排”中作為減排目標(biāo)的一種氣體是___(填化學(xué)式)；分別通入W溶液中能得到白色沉淀的氣體是______(填化學(xué)式)。(5)工業(yè)上合成氨的原料H2的制法是先把焦炭與水蒸氣反應(yīng)生成水煤氣，再提純水煤氣得到純凈的H2，提純水煤氣得到純凈的H2的化學(xué)方程式為_______?！敬鸢浮竣佗冖? SiHCl3＋H2Si＋3HCl SiO2＋Na2CO3Na2SiO3＋CO2↑ CO2 CO2和HCl CO＋H2OCO2＋HCO2+Ca(OH)2═CaCO3↓+H2O 【解析】【詳解】（1）置換反應(yīng)是一種單質(zhì)和一種化合物反應(yīng)生成另一種單質(zhì)和另一種化合物的反應(yīng)，根據(jù)題干中制取硅的流程圖知①②③屬于置換反應(yīng)，故答案為：①②③；（2）反應(yīng)③是SiHCl3被氫氣還原得到硅和氯化氫，反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiHCl3+H2 Si+3HCl，故答案為：SiHCl3+H2Si+3HCl；（3）二氧化硅與碳酸鈉高溫反應(yīng)生成硅酸鈉，反應(yīng)方程式為SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2↑，故答案為：SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2↑；（4）A、B、C分別為CO、COHCl，作為減排目標(biāo)的一種氣體是CO2，化合物W為硅酸鈉，能與W反應(yīng)生成沉淀的是CO2和HCl，故答案為：CO2；CO2和HCl；（5）碳和水反應(yīng)生成一氧化碳和氫氣：C+H2O（g）CO+H2，一氧化碳和水反應(yīng)生成二氧化碳和氫氣：CO+H2O（g）CO2+H2，二氧化碳能和氫氧化鈣反應(yīng)生成碳酸鈣：CO2+Ca(OH)2═CaCO3↓+H2O，故答案為：CO+H2O(g)CO2+HCO2+Ca(OH)2═CaCO3↓+H2O。
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