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正文內(nèi)容

pcb工藝流程(ppt37頁)(編輯修改稿)

2025-03-30 16:43 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 ?;?1平方米可以開 20萬 ~70萬個孔 。在基板工藝中 ,開孔所需的時間較長 ,所以鉆孔機也限制了基板的生產(chǎn)數(shù)量 。 盲孔 通孔 埋孔 線路 L1 線路 L2 線路 L3 19/37 鉆通孔 20/37 E、 鉆孔的設(shè)備一般為 6軸,作業(yè)時多塊基板同時開孔(一般 1軸 3塊板重疊同時開孔);激光開孔機一般為 1~2軸 ; F、 管理項目: 1)對開孔后的基板孔徑進行檢查 ,進行切片管理 ; 2)鉆孔用的鉆頭需要進行管理 ,定期對鉆頭進行點檢 ; 1清洗鉆污 (desmear): A、 鉆孔時會有殘渣附在孔壁和基板表面,需對鉆孔后的基板進行清洗,清除殘渣; B、 清洗設(shè)備同 2: 21/37 1鍍銅 (Copper plating): A、斷面圖示說明: B、鍍銅有化學鍍銅 (沉銅 )和電解鍍銅兩個過程,必須先進行化學鍍銅后再進行電解鍍銅;目的為內(nèi) 4層線路導(dǎo)通; C、鍍銅方式有兩種:水平鍍銅和 垂直鍍銅 (如圖) : 水平鍍銅: 鍍銅 溶液 PCB板 22/37 溶液 PCB板 垂直鍍銅: D、化學鍍銅 (沉銅 )是通過化學藥液處理使板和孔內(nèi)附上銅; 電解鍍銅是以電鍍的方式增加銅厚度以達到客戶要求; 23/37 1 L L5線路制作: L L5層線路制作流程:貼干膜 —— 曝光 —— 顯影 —— 蝕刻 貼干膜: 曝光: 顯影 : 蝕刻 : 去膜 : ★ 在基板表面貼上一層干膜,作為圖像轉(zhuǎn)移的載體; ★ 經(jīng) UV光照射, 把底片上的線路轉(zhuǎn)移到貼好干膜的基板上 ; ★ 將未曝光的干膜洗掉,使影象顯現(xiàn); ★ 利于酸性溶液,清除未被干膜保護的銅箔; ★ 去除表面干膜,線路形成; 24/37 1清洗、干燥: 將蝕刻后的基板進行清洗表面,并進行干燥處理; 1 AOI檢查: A、對內(nèi)層 L L5層線路進行短路、斷路、殘銅的檢查; B、檢查原理和設(shè)備同 8 1 L L5層表面黑化 /棕化處理: 方法和原理同 9 1預(yù)疊板、疊板 (Lay Up) : A、斷面圖示說明: B、方法和原理同 10 二次 層壓 (Lamination) : 方法和原理同 11 銅箔 半固化片 25/37 2激光鉆孔 /雷射鉆孔( Laser ablation): A、斷面圖示說明: B、鉆孔后需抽檢檢查;檢查設(shè)備為 30倍和 200倍顯微鏡; C、需做切片檢查,目的為檢查鉆孔是否露出第二層銅箔; D、特點:激光開孔面積小,密度高,面積通常只有 100~150um;DSC基板一般在 BGA處盲孔較多; E、實物圖示: 激光鉆盲孔 NG圖片 OK圖片 2鉆孔( Drilling): A、斷面圖示說明: B、鉆 L1~L6層通孔;方法同 12; 2清洗鉆污( desmear ): A、原理和方法同 13; B、此處清洗要求比較高,因為激光開的盲目面積較小,開孔后污漬比較難清除,通常清洗完后會進行檢查; 鉆通孔 26/37 三洋電機 DIC東莞事務(wù)所 27/37 2鍍銅( Copper plating ): A、斷面圖示說明: B、先進行化學鍍銅后再進行電解鍍銅 。使內(nèi)層 L1~L6層導(dǎo)通 。 原理同 14 2外層線路制作: A、前處理:去除表面臟污并粗化表層銅面,然后干燥處理; B、貼干膜:將干膜貼附于基板表面,并壓膜; C、曝光:利用 UV光照射聚合作用將線路轉(zhuǎn)移到干膜上; D、顯影:
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