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good集成電路工藝和版圖設(shè)計(jì)eda講座(編輯修改稿)

2025-03-08 07:41 本頁(yè)面

　

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 MASK active MASK Active Si3N4 N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 光刻膠光刻膠 MASK active MASK Active Si3N4 N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 光刻膠光刻膠 Si3N4 N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell Si3N4 N－ type Si SiO2 Pwell 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell poly active pwell poly Pwell Active Poly N+ implant P+ implant Omicontact Metal N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 MASK poly 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell poly 光刻膠 N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 MASK poly 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell 光刻膠 poly N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell poly N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell poly active pwell poly N+ implant Pwell Active Poly N+ implant P+ implant Omicontact Metal N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 MASK N+ 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧 Pwell poly 光刻膠 N－ type Si SiO2 Pwell SiO2 場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧

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