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正文內(nèi)容

油墨工藝技術(shù)概要(編輯修改稿)

2025-01-26 15:14 本頁(yè)面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 足時(shí),將有下列情況發(fā)生:v 油墨表面乾燥不足,曝光 時(shí)會(huì)粘曝光底片,或油墨面出現(xiàn)曝光壓痕。v 顯影時(shí)油墨容易被顯影藥液侵蝕,側(cè)蝕因而擴(kuò)大,容易出現(xiàn) SMT Pad間油墨脫落問題,嚴(yán)重時(shí)更會(huì)使油墨表面白化現(xiàn)象。Nov, 20232023/3/12【 注意 事項(xiàng) 】預(yù)烤過度時(shí),將有下列情況發(fā)生:v 熱硬化樹脂會(huì)開始化學(xué)交聯(lián)反應(yīng),造成顯影不凈、無法顯影的問題;特別是以兩次單面印刷,并作兩面同時(shí)曝光方式生產(chǎn)時(shí),第一面印刷的油墨比較容易預(yù)烘過度,必須遵守所使用的油墨技術(shù)資料冊(cè)上的預(yù)烘極限,作為生產(chǎn)條件。Nov, 20232023/3/12靜置冷卻: 1020 分 鐘目的:預(yù)烤後由烘烤風(fēng)箱取出,必須冷卻至室溫才可進(jìn)行曝光,速冷風(fēng)冷卻或自然冷卻皆可。否則,於曝光加工時(shí),容易出現(xiàn)菲林壓痕問題。【 注意 事項(xiàng) 】小心冷 風(fēng)機(jī)或空調(diào)系統(tǒng)滴水,油墨沾水後亦會(huì)慢慢開始化學(xué)交聯(lián)反應(yīng),造成難以顯影問題。 Nov, 20232023/3/12曝光: 目的:曝光加工主要利用 UV紫外 線照射把圖形轉(zhuǎn)移至油墨上。油墨內(nèi)之感光起始劑受到 UV紫外線照射後,幫助油墨內(nèi)光敏聚合反應(yīng)開始,形成高分子聚合物。 (基於不同油墨之 種類及印刷之厚度,曝光量之調(diào)校必須參考油墨技術(shù)資料 )Nov, 20232023/3/12一般 采用 7仟瓦特曝光機(jī),配合超高壓水銀燈或鹵素?zé)?。油墨感光波長(zhǎng): 365nm可使用曝光量范圍: 150500mJ/cm2 (可使用 ORC UV351曝光表測(cè)量 )Stouffer 21格曝光尺: 911格【 標(biāo)準(zhǔn)條件 】Nov, 20232023/3/12【 曝光示意圖曝光示意圖 】油墨層銅箔及基板UVRadiation Energy Distribution in the ResistIdeal Energy DistributionActualUVEnergyResist xaxis玻璃或有機(jī)框體曝光底片底片保護(hù)膜電介質(zhì)Nov, 20232023/3/12【 注意 事項(xiàng) 】曝光量需要 隨油墨厚度而調(diào)整:v 油墨厚 – 曝光量高v 油墨薄 – 曝光量低如曝光能量不足 時(shí):v 側(cè)蝕擴(kuò)大。v 油墨剝落。v 顯影後,油墨表面白化。Nov, 20232023/3/12如曝光能量 過高時(shí):v 基材表面出 現(xiàn)背光漬 (鬼影 )。v 油墨邊緣出現(xiàn)長(zhǎng)胖 Halation增生現(xiàn)象?!?注意 事項(xiàng) 】Nov, 20232023/3/12曝光加工 時(shí)油墨化學(xué)結(jié)構(gòu)反應(yīng) (1) 1. 感光起始:I I *I * R *I * I2. 開始反應(yīng):R? + M RM?3. 成 長(zhǎng)反應(yīng):RM? + M RM2??RM? + M RMn+1?RMm? + RMn? Pm+n4. 停止反 應(yīng):RMm? + RMn? Pm +Pn I = 感光起始 劑 M = 反應(yīng)性單份子 P = 高份子聚合物Nov, 20232023/3/12曝光加工 時(shí)油墨化學(xué)結(jié)構(gòu)反應(yīng) (2) 感光起始 劑 R? H ︳R? + CH2=CHCOOR RCH2C? ︳ COOR H H H ︳
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