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正文內(nèi)容

制藥設(shè)備與工藝學(xué)(緒論)(編輯修改稿)

2025-01-19 03:33 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 3年經(jīng)美國國會(huì)的批準(zhǔn)正式頒布了 GMP法案 。 1969年 , 世界衛(wèi)生組織向世界各國推薦使用 GMP。 70年代歐美國家一些藥品生產(chǎn)企業(yè)注射劑感染引發(fā)的事故促使其發(fā)展 。 制藥設(shè)備 GMP的提出 ?中國的 GMP于 1999年正式頒布。 GMP頒布后有效的遏制了亂辦藥廠造成的低水平重復(fù)。 例如: 95年到 98年每年新增藥廠 500家,到了 2023年批準(zhǔn)的只有 50家。 國家藥品監(jiān)督管理局制定了分期、分批、按照劑型實(shí)施 GMP認(rèn)證工作的規(guī)劃。 在規(guī)定期限內(nèi)未能達(dá)到 GMP要求的企業(yè),堅(jiān)決取締了其相應(yīng)的生產(chǎn)資格。 例如: 04年以前總有藥廠 5071家, GMP認(rèn)證實(shí)施后剩余 3731家, 1340家未通過。 制藥設(shè)備 GMP的提出 按照規(guī)范初步把 設(shè)備 GMP定義 為:具有滿足藥物(藥品)生產(chǎn)所需的工藝功能和衛(wèi)生、安全等配套功能,設(shè)備結(jié)構(gòu)及其所用材料,不窩藏、滯留物料,不對(duì)加工的物質(zhì)形成污染、也不對(duì)生產(chǎn)以外的環(huán)境產(chǎn)生污染或影響、且易于操作、維修、清洗的設(shè)備。 如何貫徹制藥設(shè)備 GMP ( 1)功能的設(shè)計(jì)及要求 ( 2)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及要求 ( 3)材料選用的要求 ( 4)設(shè)備外觀設(shè)計(jì)及要求 ( 5)設(shè)備接口問題 制藥 設(shè)備的優(yōu)劣也主要反映在能否滿足 使用要求 和 無環(huán)境污染 上。 一般應(yīng)符合以下幾個(gè)方面要求: ( 1)功能的設(shè)計(jì)及要求 功能是指制藥設(shè)備在指定的使用和環(huán)境條件下,完成基本工藝過程的機(jī)電運(yùn)動(dòng)功能和操作中使藥物及工作室區(qū)不被污染等輔助功能。 以下提出的是與 GMP有關(guān)的主要功能: ①凈化功能 ②清洗功能 ③ 在線監(jiān)測(cè)與控制功能 ④安全保護(hù)功能 ① 凈化功能 ?潔凈是 GMP的要點(diǎn)之一 , 對(duì)設(shè)備來講包含兩層意思 —— 設(shè)備自身不對(duì) 藥物 產(chǎn)生污染 , 也不會(huì)對(duì) 環(huán)境 形成污染 。 例如 :一步制粒器: ② 清洗功能 ?隨著藥品純度和有效性的重視 , GMP提倡的設(shè)備就地清洗功能 ( CIP) , 將成為清洗技術(shù)的發(fā)展方向 。 ?CIP:不用拆開移動(dòng)裝置 , 采用高溫高濃度的洗凈液 , 對(duì)設(shè)備加以強(qiáng)力清洗作用 。 ③ 在線監(jiān)測(cè)與控制功能 ? GMP要求生產(chǎn)應(yīng)有連續(xù)性,且工序傳輸時(shí)間
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