論民生類新聞的兩次飛躍參考樣例畢業(yè)論文(編輯修改稿)
2025-07-25 20:39 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 film ponents are measured by Xray Electron spectroscopy and AES. The crystal structure is usually analyzed by Xray diffraction and electronic diffraction. The magnetic measurement is mainly used vibrating sample magnetometer and superconducting quantum interference magnetometer. The thin film characterization of the stress mainly uses direct and indirect methods deformation of Xray diffraction. Through the above summary of the contents, the test case of the film material can be summed up.【Key Words】thin film testing characterization目 錄1 引言 n2 薄膜厚度的測量 n3 薄膜形貌表征 n 掃描電子顯微鏡(SEM) n 掃描隧道顯微鏡（STM） n 原子力顯微鏡(AFM) n4 薄膜組分表征 n X射線光電子能譜(XPS) n 俄歇電子能譜(AES) n 二次離子質(zhì)譜(SIMS) n5 薄膜晶體結(jié)構(gòu)的測量 n X射線衍射儀(XRD) n 電子衍射 n 透射電子顯微鏡(TEM) n6 薄膜的磁性測量 n 振動樣品磁強(qiáng)計(jì)(VSM) n 超導(dǎo)量子干涉磁強(qiáng)計(jì)(SQUID) n7 薄膜的應(yīng)力表征 n結(jié)論 n參考文獻(xiàn) n致謝 n1 引言薄膜材料的測試和表征對材料的應(yīng)用是至關(guān)重要的。……用振動樣品磁強(qiáng)計(jì)等測薄膜磁性；用間接X射線衍射法測薄膜應(yīng)力[1]。本文簡單介紹了薄膜材料的測試設(shè)備，方法，手段以及參數(shù)的表征，并簡要的說明了測試原理。2 薄膜厚度的測量在薄膜技術(shù)中，……有各種雜質(zhì)和缺陷。通常采用的薄膜厚度概念是所謂的形狀厚度，即：薄膜兩側(cè)平均表面的間距。測量膜厚的方法有很多種，……可以確定單位時(shí)間內(nèi)薄膜的生長厚度。它所測量的薄膜一般為硬質(zhì)膜。其分辨率可達(dá)到1~2nm [2]。另外，在試驗(yàn)中……特別有用，~[3]。3 薄膜形貌表征材料的形貌是材料分析……是相當(dāng)重要的。一般采用掃描電子顯微鏡(TEM)、掃描隧道顯微鏡(STM)或原子力顯微鏡(AFM)對薄膜表面形貌進(jìn)行觀測。 掃描電子顯微鏡(SEM)[ 4]掃描電子顯微鏡（SEM）是一種廣泛使用的表面形貌分析儀器，……從而獲得圖像的信息。在掃描電子顯微鏡中形貌像的信息主要來自二次電子。SEM的優(yōu)點(diǎn)是：有較高的放大倍數(shù)；景深長、視野大；成像富有立體感，……，接收并分析這些信號可以獲得關(guān)于樣品表層結(jié)構(gòu)及成分的信息。 掃描隧道顯微鏡（STM）[56]掃描隧道顯微鏡（STM）出現(xiàn)于1982年，……特殊導(dǎo)電固體樣品的形貌分析可達(dá)到原子量級的分辨率，適合具有導(dǎo)電性的薄膜材料的形貌分析和表面原子結(jié)構(gòu)分布分析。 原子力顯微鏡(AFM)[78]掃描隧道顯微鏡只能對導(dǎo)體和半導(dǎo)體進(jìn)行研究，……4 薄膜組分表征薄膜組分的表征方法多數(shù)是基于原子受到激發(fā)后，內(nèi)層電子……等。下面將簡單地介紹幾種： X射線光電子能譜(XPS)[9]X射線光電子能譜法是20世紀(jì)60年代發(fā)展起來的，至今…… 俄歇電子能譜(AES)[1011]俄歇電子能譜是一種最廣泛使用的分析方法?！?二次離子質(zhì)譜(SIMS)[12]SIMS是表征材料表面薄膜層化學(xué)成分的離子束分析技術(shù)。……5 薄膜晶體結(jié)構(gòu)的測量薄膜晶體結(jié)構(gòu)主要采用X射線衍射法、電子衍射法和透射電子顯微鏡進(jìn)行測量。 X射線衍射儀(XRD)[1320]1894年，德國物理學(xué)家倫琴發(fā)現(xiàn)了具有特別強(qiáng)的穿透力的新型X射線?！Ｒ虼?，其衍射條件可以用布拉格條件描述：其中為入射角，為X射線波長，為自然數(shù)，稱為衍射級數(shù)。若，晶體的衍射稱為一級衍射，則稱為二級衍射，依次類推。…… 電子衍射[2122]電子衍射原理與X射線衍射原理是一樣的，…… 透射電子顯微鏡(TEM)[2325]透射電子顯微鏡是最近幾十年發(fā)展起來的一種新的微觀研究工具。……………………7 薄膜的應(yīng)力表征[29]薄膜應(yīng)力的測量方法有很多，有直接測量變形量方法和間接X 射線衍射測量方法。這里簡單介紹X射線衍射法?！Y(jié)論薄膜材料和薄膜器件日益廣泛應(yīng)用及其可靠性指標(biāo)體系的日益健全，要求學(xué)術(shù)界對其結(jié)構(gòu)和性能的特殊性給出科學(xué)解釋。因此，薄膜材料的測試和表征對材料的應(yīng)用是至關(guān)重要的。薄膜樣品的結(jié)構(gòu)和性能的表征依賴測試設(shè)備及測試方法。本文介紹了薄膜材料的測試的設(shè)備、方法、手段以及參數(shù)的表征，并簡要說明了測試的原理，通過對比總結(jié)了薄膜材料的測試的研究情況。具體結(jié)論……，對于磁性能材料的研究有著重要意義。參考文獻(xiàn)[1][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：186243．[2][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：191．[3][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：189191．[4][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：60．[5][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：98． [6][M].北京：北京大學(xué)出版社，2003：5051．[7][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：110112．[8]張志焜，[M].北京：國防工業(yè)出版社，2000：199.[9][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：225．……[25][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：8187．[26][M].蘭州：蘭州大學(xué)出版社，1994．[27][M].北京：電子工業(yè)出版社，1988．[28] Lake Shore Cryotronics, Inc. Magnetic Media Measurements with a VSM[EB/OL]. [29][M].北京：化學(xué)工業(yè)出版社，2003：245246．致謝本文是在……對我產(chǎn)生重要影響。她淵博的知識、開闊的視野和敏銳的思維給了我深深的啟迪。同時(shí)，在此次畢業(yè)設(shè)計(jì)過程中我也學(xué)到了許多關(guān)于材料方面的知識，實(shí)驗(yàn)技能有了很大的提高。 另外，我還要特別感謝……以及其他老師，他們?yōu)槲彝瓿蛇@篇論文提供了巨大的幫助。在此我衷心地感謝他們。 最后，再次對關(guān)心、幫助我的老師和同學(xué)表示衷心地感謝。附件六：畢業(yè)設(shè)計(jì)（論文）英文樣例畢 業(yè) 設(shè) 計(jì) (論 文) 題 目：（題目為宋體小三號字左對齊）院 系：（以下內(nèi)容宋體小三號字居中）專 業(yè)：班 級：姓 名：學(xué) 號：指導(dǎo)教師：年月日A Dissertation for the . DegreeOn Advertisement Translation In theProspect of Functional ApproachesbyCHENG ZhihuaSupervisor:Prof. CAO Ming.Research Direction:TranslationSpecialty:English Language and LiteratureDepartment( or sub institute):Foreign Languages DepartmentShijiazhuang CollegeApril, 2008AcknowledgementsI wish to express my profound indebtedness to Professor Hu Weigao, my supervisor. In the last two months, he has given me indispensa
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