【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 頂線。 選擇 ―定義脊線 ‖項(xiàng)，在命令行提示： 輸入基高 (m)021 基高包括建筑物高度和基底標(biāo)高 回車(chē)退出 /選擇線 輸入標(biāo)注點(diǎn)相對(duì)高度 (m)05 輸入標(biāo)注點(diǎn)相對(duì)高度 (m)00 根據(jù)提示，定義脊線高度。 三維屋頂 首先定義三個(gè)點(diǎn)的高度，通過(guò) ―三點(diǎn)確定一個(gè)平面 ‖的原理來(lái)確定其余各點(diǎn)的高度，形成三維屋面。 當(dāng)系統(tǒng)設(shè)置為三維屋頂時(shí)， ―參數(shù) ‖下拉菜單中出現(xiàn) ―三維屋頂 ‖項(xiàng)，該項(xiàng)包括繪制屋頂、定義屋頂和繪制立壁三個(gè)分項(xiàng)。 (1) 繪制屋頂 繪制一個(gè)建筑物三維屋頂時(shí)，前三個(gè)頂點(diǎn)需要輸入高度，以后的各點(diǎn)高度會(huì)自動(dòng)計(jì)算出來(lái)，在命令行中進(jìn)行顯示，無(wú)需手工輸入。 選擇 ―繪制屋頂 ‖項(xiàng)，在命令行提示： 輸入基高 (m)0:21 基高包括建筑物高度和基底標(biāo) 高 回車(chē)退出 /指定起點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m):0 回車(chē)返回 /下一頂點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m):0 回車(chē)返回 /回退 U /下一頂點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m):05 回車(chē)閉合 /回退 U /下一頂點(diǎn) : 回車(chē)退出 /指定起點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m):5 根據(jù)提示，繪制三維屋頂。 (2) 定義屋頂 在選定的多段線或域上，系統(tǒng)自動(dòng)搜尋三個(gè)點(diǎn)，或者選擇 ―指定點(diǎn) p‖來(lái)分別指定平面上三個(gè)頂點(diǎn)，輸入其高度，則其余各點(diǎn)的高度會(huì)自動(dòng)計(jì)算出來(lái)，生成軟件可以識(shí)別的、可用于日照分析的三維屋頂。 選擇 ―定義屋頂 ‖項(xiàng)，在命令行提示： 輸入基高 (m)0:21 基高包括建筑物高度和基底標(biāo)高 回車(chē)退出 / 選擇閉合的多段線或域 : 返回 E /指定點(diǎn) P /輸入第一點(diǎn)相對(duì)高度 (m)0: 由系統(tǒng)自動(dòng)搜尋點(diǎn) 返回 E /輸入第二點(diǎn)相對(duì)高度 (m)0: 返回 E /輸入第三點(diǎn)相對(duì)高度 (m)0:3 回車(chē)退出 / 選擇閉合的多段線或域 : 返回 E /指定點(diǎn) P /輸入第一點(diǎn)相對(duì)高度 (m)0:p 指定點(diǎn) p 回車(chē)返回 /指定第一點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m)0: 回車(chē)返回 /指定第二點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m)0:3 回車(chē) 返回 /指定第三點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m)3:3 回車(chē)退出 / 選擇閉合的多段線或域 : 根據(jù)提示，定義三維屋頂。 (3) 繪制立壁 繪制垂直方向的遮擋墻壁。 選擇 ―繪制立壁 ‖項(xiàng)，在命令行提示： 回車(chē)退出 / 選擇線 S / 指定起點(diǎn)： 如下圖 P1點(diǎn) 輸入該點(diǎn)高度 (m)0:21 坡頂高度 回車(chē)退出 / 下一點(diǎn)： P2點(diǎn) 輸入該點(diǎn)高度 (m)2:21 坡頂高度 輸入懸高 (m)2:3 坡頂中最低點(diǎn)到屋頂?shù)母叨龋颂巸善马敻叨认嗤?，與屋頂距離都為 3 回車(chē)退出 / 選擇線 S / 指定起點(diǎn)： 如下圖 P1點(diǎn) 輸入該點(diǎn)高度 (m)0:21 坡頂高度 回車(chē)退出 / 下一點(diǎn)： P3點(diǎn) 輸入該點(diǎn)高度 (m)2:18 坡頂高度 輸入懸高 (m)3:0 坡頂高度中最低點(diǎn)到屋頂?shù)母叨?，此?p3點(diǎn)為最低點(diǎn)，其與屋頂距離為 0 即生成如下右圖所示的立壁。如下左圖斜屋面未消隱，下中圖斜屋面消隱，下右圖斜屋面和立壁面消隱，通過(guò)比較以更好的觀察立壁效果。 如果定義已有線為立壁，按以下操作進(jìn)行： 回車(chē)退出 / 選擇線 S / 指定起點(diǎn)： s 回車(chē)返回 / 選擇線 : 輸入標(biāo)注點(diǎn)高度 (m)0:12 輸入標(biāo)注點(diǎn)高度 (m)12: 輸入懸高 (m)0:3 即生成頂高 12米、懸高 3米的立壁。頂高不同的立壁，輸入不同的標(biāo)注點(diǎn)高度即可。 注意事項(xiàng)： ① 垂直屋面，無(wú)法使用 ―繪制屋頂 ‖來(lái)繪制，只有使用 ―繪制立壁 ‖來(lái)實(shí)現(xiàn)； ② 對(duì)于屋頂出檐的情況， ―三維屋頂 ‖比 ―簡(jiǎn)化屋頂 ‖的計(jì)算更為精確； ③ 三維屋頂可以在 ―分析 → 日照仿真 ‖中進(jìn)行分析。 ④ 可對(duì)已定義高度的屋脊線、三維屋頂、立壁，重新進(jìn)行高度的提升或下降，具體操作參見(jiàn) ―工具 → 屋頂調(diào)整 ‖。 陽(yáng)臺(tái)、雨蓬等遮陽(yáng)構(gòu)件建模 陽(yáng)臺(tái)、雨蓬等遮陽(yáng)構(gòu)件，可以利用建筑外框和屋面建模。下面以繪制陽(yáng)臺(tái)（ 假設(shè)為上下面相同、四壁垂直的普通型陽(yáng)臺(tái)）為例進(jìn)行說(shuō)明： 建筑高度建模法 陽(yáng)臺(tái)、雨蓬等遮陽(yáng)構(gòu)件，可直接利用 ―建筑高度 ‖命令定義。此方法繪制成的構(gòu)筑物為各面圍合的實(shí)體建筑模型。 下面以繪制陽(yáng)臺(tái)舉例說(shuō)明。可以將陽(yáng)臺(tái)視為懸空的建筑物，利用 ―建筑高度 ‖命令定義后，再用AutoCAD 陣列命令對(duì)已定義高度的陽(yáng)臺(tái)豎向陣列，形成立面多個(gè)陽(yáng)臺(tái)。 選擇 ―建筑高度 ‖項(xiàng)，或是單擊主界面上的 按鈕，定義陽(yáng)臺(tái)輪廓高度，命令行提示： 回車(chē)退出 /請(qǐng)選取要定義高度的建筑外輪廓線 : 選擇陽(yáng)臺(tái)外輪廓線 請(qǐng)輸入建筑物高度 (m) 0:1 輸入陽(yáng)臺(tái)自身高度 請(qǐng)輸入建筑基底標(biāo)高 (m) 0: 輸入底層陽(yáng)臺(tái)底面距離室外地面高度 此時(shí)定義的結(jié)果為懸空 、高度為 1米的各個(gè)面封閉而光線不能穿過(guò)陽(yáng)臺(tái)的構(gòu)筑物模型。 在 ―三維效果 ‖命令中將平面圖轉(zhuǎn)換成正立面視圖，再用 array 陣列命令，將陽(yáng)臺(tái)豎向陣列，最終形成立面多層陽(yáng)臺(tái)。 三維屋頂建模法 先利用 Pline 命令繪制一個(gè)陽(yáng)臺(tái)平面輪廓，再利用 ―繪制屋頂 ‖和 ―繪制立壁 ‖命令來(lái)繪制陽(yáng)臺(tái)的底面和側(cè)立面。 (1) 繪制陽(yáng)臺(tái)底面： 選擇下拉菜單 ―三維屋頂 ‖中的 ―繪制屋頂 ‖項(xiàng)，命令行提示： 輸入基高 (m)0: 底層陽(yáng)臺(tái)底面距室外地面高度 回車(chē)退出 /指定起點(diǎn) : 陽(yáng)臺(tái)底平面輪廓上各個(gè)角點(diǎn) 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m):0 陽(yáng)臺(tái)底面厚度 回車(chē)返回 /下一頂點(diǎn) : 依次選擇陽(yáng)臺(tái)各個(gè)角點(diǎn) 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m): 回車(chē)返回 /回退 U /下一頂點(diǎn) : 輸入該點(diǎn)相對(duì)高度 (m): 回車(chē)閉合 /回退 U /下一頂點(diǎn) : 該頂點(diǎn)相對(duì)高度為 回車(chē)閉合 /回退 U /下一頂點(diǎn) : 對(duì)于長(zhǎng)方形陽(yáng)臺(tái)，輸入以上三角點(diǎn)后自動(dòng)閉合為面。 (2) 繪制陽(yáng)臺(tái)立壁： 利 用繪制垂直方向的遮擋立壁來(lái)確定陽(yáng)臺(tái)側(cè)面。 選擇下拉菜單 ―三維屋頂 ‖中的 ―繪制立壁 ‖項(xiàng)，命令行提示： 回車(chē)退出 / 選擇線 S / 指定起點(diǎn)： 陽(yáng)臺(tái)平面輪廓上各個(gè)頂點(diǎn) 輸入該點(diǎn)高度 (m)0: 以底層陽(yáng)臺(tái)為例，陽(yáng)臺(tái)底距室外地面高度 ，陽(yáng)臺(tái)高度 1米。依次指定輪廓各個(gè)頂點(diǎn)，均設(shè)定為此高度。 輸入懸高 (m)2:1 指陽(yáng)臺(tái)自身高度 通過(guò)以上兩個(gè)步驟，底面厚度為 、側(cè)面高度為 1米、距室外地面 繪制完成。 第四章 計(jì)算分析 遮擋分析 分析并顯示選定遮擋建筑 物的被遮擋建筑物，或選定被遮擋建筑物的遮擋建筑物?？汕逦孛髁烁鳁澖ㄖ恼趽跫氨徽趽跚闆r，可將結(jié)果繪制成直觀的表格。 選擇 ―分析 ‖下拉菜單中的 ―遮擋分析 ‖項(xiàng)，彈出如下所示對(duì)話框： 通過(guò)該對(duì)話框可完成以下操作： (1) 點(diǎn)擊 ―選擇被遮擋 ‖按鈕，命令行提示： 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇被遮擋建筑物 :找到 3個(gè) 請(qǐng)輸入受影面高度 (米 ): 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇被遮擋建筑物 : 選擇被遮擋建筑物，即在對(duì)話框中顯示相應(yīng)的遮擋建筑物情況。其中 ―受影面高度 ‖可雙擊進(jìn)行修改，修改后點(diǎn)擊回車(chē)， ―遮擋建筑物 ‖的顯示情況即會(huì) 隨之發(fā)生相應(yīng)的改變。 (2) 點(diǎn)擊 ―選擇遮擋 ‖按鈕，命令行提示： 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇遮擋建筑物 :找到 3個(gè) 請(qǐng)輸入受影面高度 (米 ): 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇遮擋建筑物 : 選擇遮擋建筑物，即在對(duì)話框中顯示相應(yīng)的被遮擋建筑物情況。其中 ―受影面高度 ‖可雙擊進(jìn)行修改，修改后點(diǎn)擊回車(chē)， ―被遮擋建筑物 ‖的顯示情況即會(huì)隨之發(fā)生相應(yīng)的改變。 注：以上兩類(lèi)分析中不考慮異型屋頂?shù)挠绊憽? 為了識(shí)別上的方便，參與遮擋分析的建筑物需要進(jìn)行命名。在選擇 ―遮擋建筑物 ‖或 ―被遮擋建筑物 ‖后，軟件自動(dòng)判斷當(dāng)前圖面上參與分析的建筑物 是否全部命名，若已全部命名則直接進(jìn)行分析并顯示結(jié)果；若仍存在未命名的建筑則彈出如下對(duì)話框： 建筑物名稱(chēng)：建筑物起始名稱(chēng)，系統(tǒng)將以此名稱(chēng)加序號(hào)的形式，按照從上到下從左到右的順序分別為各建筑物命名。例輸入建筑物名稱(chēng)為 A，則各建筑物被分別命名為 A A2…… 命名全部：將當(dāng)前圖面上所有未命名的建筑物進(jìn)行命名。 命名相關(guān)：將與選定建筑物有遮擋或被遮擋關(guān)系的建筑物進(jìn)行命名。選定建筑物亦同時(shí)命名。 (3) 查看：直接查看圖面上選定建筑的遮擋或被遮擋情況。點(diǎn)擊 ―查看 ‖按鈕，命令行提示： 遮擋建筑物及屋 頂 (P) / 被遮擋建筑物 (B):B 確定建筑類(lèi)型 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇被遮擋建筑物 :找到 1 個(gè) 選定建筑物 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇被遮擋建筑物 : 請(qǐng)輸入受影面高度 (米 ): 若選定建筑類(lèi)型為遮擋建筑物及屋頂，則在圖面上高亮顯示其被遮擋建筑物輪廓； 若選定建筑類(lèi)型為被遮擋建筑物，如對(duì)其造成遮擋的是建筑物，則高亮顯示該建筑物輪廓；如對(duì)其造成遮擋的是建筑物和屋頂，則高亮顯示該建筑物和屋頂輪廓；如對(duì)其造成遮擋的只是屋頂，則高亮顯示該屋頂輪廓，屋頂輪廓的顯示可具體到每一條線。 (4) 點(diǎn)擊 ―繪表 ‖按鈕，將分析結(jié)果繪制成遮擋分析表，如下表所示： (5) 點(diǎn)擊 ―導(dǎo)出 ‖按鈕，將分析結(jié)果存儲(chǔ)為特定格式的文件。 陰影分析 逐時(shí)陰影 按日照時(shí)間間隔自動(dòng)計(jì)算并繪制，單體建筑或組合多棟建筑物輪廓的日照投影圖?？芍庇^的觀察建筑物陰影輪廓對(duì)其它建筑物的遮擋情況。移動(dòng)鼠標(biāo)至任意一條輪廓線，將自動(dòng)顯示其生成時(shí)間。 選擇 ―分析 ‖下拉菜單中 ―陰影分析 ‖項(xiàng)的 ―逐時(shí)陰影 ‖，或是單擊主界面上的 按鈕，在命令行提示： 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇遮擋建筑物及屋頂 : 受影面高度 (米 ): ，如輸入建 筑物底層窗戶(hù)底標(biāo)高為 開(kāi)始分析，請(qǐng)稍候 ...... 共選擇 1個(gè)實(shí)體 ,其中 1個(gè)建筑物 ,0個(gè)異型屋頂 . 建筑物輪廓日照投影圖自動(dòng)生成，每?jī)蓷l輪廓線的間隔時(shí)間由界面參數(shù)中設(shè)置的 ―分析采樣間隔 ‖確定，如下圖所示。陰影分析 ―分析采樣間隔 ‖宜輸入 10分鐘以上，這樣生成陰影速度較快。 陰影分析結(jié)果可以進(jìn)行逐時(shí)、時(shí)段顯示，具體操作可參看 ―逐時(shí)顯示陰影 ‖和 ―時(shí)段顯示陰影 ‖。 輪廓陰影 按日照時(shí)間間隔自動(dòng)計(jì)算并繪制，單體建筑或組合多棟建筑物輪廓的最大日照范圍投影圖?？芍庇^的觀察建筑物陰影輪廓 對(duì)其它建筑物的遮擋情況。移動(dòng)鼠標(biāo)至輪廓線，將自動(dòng)顯示其分析時(shí)間段。 選擇 ―分析 ‖下拉菜單中 ―陰影分析 ‖項(xiàng)的 ―輪廓陰影 ‖，在命令行提示： 回車(chē)退出 / 選擇遮擋建筑物及屋頂 : 輸入受影面高度 (米 ): 建筑物輪廓日照最大投影范圍圖自動(dòng)生成。 陰影差集 按日照時(shí)間間隔自動(dòng)計(jì)算并繪制，所選先后兩處建筑物輪廓的日照投影差集圖。建筑物選擇的先后順序需符合此公式：陰影差集 = 陰影 1 陰影 2?？芍庇^的觀察相鄰建筑物間的陰影輪廓相互遮擋情況。移動(dòng)鼠標(biāo)至任意一條輪廓線，將自動(dòng)顯示其生成時(shí)間。 選擇 ―分析 ‖下拉菜單中 ―陰影分析 ‖項(xiàng)的 ―陰影差集 ‖，在命令行提示： 請(qǐng)按此式選擇建筑物 :陰影差集 = 陰影 1 陰影 2 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇產(chǎn)生陰影 1的建筑物及屋頂 :找到 1 個(gè) 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇產(chǎn)生陰影 1的建筑物及屋頂 : 共選擇 1個(gè)實(shí)體 ,其中 1個(gè)建筑物 ,0個(gè)異型屋頂 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇產(chǎn)生陰影 2的建筑物及屋頂 :找到 1 個(gè) 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇產(chǎn)生陰影 2的建筑物及屋頂 : 共選擇 1個(gè)實(shí)體 ,其中 1個(gè)建筑物 ,0個(gè)異型屋頂 ,0個(gè)重復(fù) 輸入受影面高度（米 ): 如下圖所 示，建筑 A A3 A32所產(chǎn)生的陰影為陰影 1，建筑 A1所產(chǎn)生的陰影為陰影2，兩者差集即為下圖陰影。主要目的是區(qū)分各遮擋建筑對(duì) A4建筑產(chǎn)生影響的強(qiáng)度，圖中 A1完全遮擋 A4建筑左側(cè)， A A3 A32對(duì) A4建筑右側(cè)產(chǎn)生了遮擋影響。 單點(diǎn)分析 自動(dòng)計(jì)算單體建筑或群體建筑區(qū)域內(nèi)任意一點(diǎn)的日照時(shí)間?？呻S光標(biāo)移動(dòng)動(dòng)態(tài)顯示當(dāng)前點(diǎn)的日照情況，可自動(dòng)在圖上標(biāo)注出單點(diǎn)位置及編號(hào)，還可生成單點(diǎn)分析結(jié)果統(tǒng)計(jì)報(bào)表。 選擇 ―分析 ‖下拉菜單中的 ―單點(diǎn)分析 ‖項(xiàng)，或是單擊主界面上的 按鈕，在命 令行提示： 回車(chē)退出 / 請(qǐng)選擇遮擋建筑物及屋頂 : 找到 4 個(gè) 回退 U / 動(dòng)態(tài)開(kāi)關(guān) D / 指定測(cè)試點(diǎn) : 輸入 D，交替控制動(dòng)態(tài)分析功能的開(kāi)關(guān)狀態(tài) 同時(shí)彈出 ―單點(diǎn)分析 ‖對(duì)話框，如下圖所示，對(duì)話框右側(cè)部分為動(dòng)態(tài)分析顯示框： 通過(guò)該對(duì)話框可完成以下操作： (1) 在動(dòng)態(tài)分析開(kāi)啟狀態(tài)下，隨著光標(biāo)的移動(dòng)，動(dòng)態(tài)分析顯示框中動(dòng)態(tài)顯示當(dāng)前點(diǎn)的累計(jì)日照時(shí)間及連續(xù)日照時(shí)間，光標(biāo)處亦同時(shí)顯示該點(diǎn)的連續(xù)日照時(shí)間，如上圖所示。 (2) 在圖面上點(diǎn)擊一個(gè)或連續(xù)多個(gè)單點(diǎn)，生成按點(diǎn)擊順序依次遞加的編號(hào)圖標(biāo) … ，對(duì)話框中同時(shí)顯 示出每個(gè)單點(diǎn)的計(jì)算條件參數(shù)和詳細(xì)計(jì)算結(jié)果。 ―累計(jì)日照 ‖顯示各個(gè)連續(xù)日照的時(shí)間段及其累計(jì)日照時(shí)間； ―最大連續(xù)日照 ‖顯示各個(gè)連續(xù)日照的時(shí)間段中最大的連續(xù)日照時(shí)間段。 (3) 測(cè)試點(diǎn)高（米）：輸入所選測(cè)試點(diǎn)的高度。如輸