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正文內(nèi)容

光電子技術(shù)課后答案(編輯修改稿)

2024-07-15 19:29 本頁(yè)面
 

【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 基本原理。CCD的輸出信號(hào)有什么特點(diǎn)?答:構(gòu)成CCD的基本單元是MOS(金屬氧化物半導(dǎo)體)電容器。正如其它電容器一樣,MOS電容器能夠存儲(chǔ)電荷。如果MOS結(jié)構(gòu)中的半導(dǎo)體是P型硅,當(dāng)在金屬電極(稱為柵)上加一個(gè)正的階梯電壓時(shí)(襯底接地),SiSiO2界面處的電勢(shì)(稱為表面勢(shì)或界面勢(shì))發(fā)生相應(yīng)變化,附近的P型硅中多數(shù)載流子——空穴被排斥,形成所謂耗盡層,如果柵電壓VG超過(guò)MOS晶體管的開(kāi)啟電壓,則在SiSiO2界面處形成深度耗盡狀態(tài),由于電子在那里的勢(shì)能較低,我們可以形象化地說(shuō):半導(dǎo)體表面形成了電子的勢(shì)阱,可以用來(lái)存儲(chǔ)電子。當(dāng)表面存在勢(shì)阱時(shí),如果有信號(hào)電子(電荷)來(lái)到勢(shì)阱及其鄰近,它們便可以聚集在表面。隨著電子來(lái)到勢(shì)阱中,表面勢(shì)將降低,耗盡層將減薄,我們把這個(gè)過(guò)程描述為電子逐漸填充勢(shì)阱。勢(shì)阱中能夠容納多少個(gè)電子,取決于勢(shì)阱的“深淺”,即表面勢(shì)的大小,而表面勢(shì)又隨柵電壓變化,柵電壓越大,勢(shì)阱越深。如果沒(méi)有外來(lái)的信號(hào)電荷。耗盡層及其鄰近區(qū)域在一定溫度下產(chǎn)生的電子將逐漸填滿勢(shì)阱,這種熱產(chǎn)生的少數(shù)載流子電流叫作暗電流,以有別于光照下產(chǎn)生的載流子。因此,電荷耦合器件必須工作在瞬態(tài)和深度耗盡狀態(tài),才能存儲(chǔ)電荷。以典型的三相CCD為例說(shuō)明CCD電荷轉(zhuǎn)移的基本原理。三相CCD是由每三個(gè)柵為一組的間隔緊密的MOS結(jié)構(gòu)組成的陣列。每相隔兩個(gè)柵的柵電極連接到同一驅(qū)動(dòng)信號(hào)上,亦稱時(shí)鐘脈沖。三相時(shí)鐘脈沖的波形如下圖所示。在t1時(shí)刻,φ1高電位,φφ3低電位。此時(shí)φ1電極下的表面勢(shì)最大,勢(shì)阱最深。假設(shè)此時(shí)已有信號(hào)電荷(電子)注入,則電荷就被存儲(chǔ)在φ1電極下的勢(shì)阱中。t2時(shí)刻,φφ2為高電位,φ3為低電位,則φφ2下的兩個(gè)勢(shì)阱的空阱深度相同,但因φ1下面存儲(chǔ)有電荷,則φ1勢(shì)阱的實(shí)際深度比φ2電極下面的勢(shì)阱淺,φ1下面的電荷將向φ2下轉(zhuǎn)移,直到兩個(gè)勢(shì)阱中具有同樣多的電荷。t3時(shí)刻,φ2仍為高電位,φ3仍為低電位,而φ1由高到低轉(zhuǎn)變。此時(shí)φ1下的勢(shì)阱逐漸變淺,使φ1下的剩余電荷繼續(xù)向φ2下的勢(shì)阱中轉(zhuǎn)移。t4時(shí)刻,φ2為高電位,φφ3為低電位,φ2下面的勢(shì)阱最深,信號(hào)電荷都被轉(zhuǎn)移到φ2下面的勢(shì)阱中,這與t1時(shí)刻的情況相似,但電荷包向右移動(dòng)了一個(gè)電極的位置。當(dāng)經(jīng)過(guò)一個(gè)時(shí)鐘周期T后,電荷包將向右轉(zhuǎn)移三個(gè)電極位置,即一個(gè)柵周期(也稱一位)。因此,時(shí)鐘的周期變化,就可使CCD中的電荷包在電極下被轉(zhuǎn)移到輸出端,其工作過(guò)程從效果上看類似于數(shù)字電路中的移位寄存器。 電荷輸出結(jié)構(gòu)有多種形式,如“電流輸出”結(jié)構(gòu)、“浮置擴(kuò)散輸出”結(jié)構(gòu)及“浮置柵輸出”結(jié)構(gòu)。其中“浮置擴(kuò)散輸出”結(jié)構(gòu)應(yīng)用最廣泛。輸出結(jié)構(gòu)包括輸出柵OG、浮置擴(kuò)散區(qū)FD、復(fù)位柵R、復(fù)位漏RD以及輸出場(chǎng)效應(yīng)管T等。所謂“浮置擴(kuò)散”是指在P型硅襯底表面用V族雜質(zhì)擴(kuò)散形成小塊的n+區(qū)域,當(dāng)擴(kuò)散區(qū)不被偏置,即處于浮置狀態(tài)工作時(shí),稱作“浮置擴(kuò)散區(qū)”。電荷包的輸出過(guò)程如下:VOG為一定值的正電壓,在OG電極下形成耗盡層,使φ3與FD之間建立導(dǎo)電溝
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