【總結(jié)】2022/5/291?我司非晶硅薄膜產(chǎn)品線共含四臺設(shè)備;其中激光劃線機3臺(1臺1064nm紅光;2臺532nm綠光【兩臺一樣】);激光增透機1臺;激光清邊機1臺。非晶硅薄膜產(chǎn)品線介紹2022/5/292華工非晶硅產(chǎn)品線介紹?激光劃線機(P1為1064nm刻TCO膜、P2為532nm刻非晶硅膜、P3
2025-05-01 08:44
【總結(jié)】第8章光刻膠一、光刻膠的類型凡是在能量束(光束、電子束、離子束等)的照射下,以交聯(lián)反應(yīng)為主的光刻膠稱為負(fù)性光刻膠,簡稱負(fù)膠。凡是在能量束(光束、電子束、離子束等)的照射下,以降解反應(yīng)為主的光刻膠稱為正性光刻膠,簡稱正膠。光刻膠的類型光刻膠也稱為光
2025-04-29 02:09
【總結(jié)】集成電路工藝之光刻光刻?1、基本描述和過程?2、光刻膠?3、光刻機?4、光刻工藝?5、新技術(shù)簡介光刻基本介紹?在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程?將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復(fù)制”到硅片上的過程。?光刻在整個硅片加工成本中幾乎占三分之一。?光刻占40%到50%的
2025-01-04 19:32
【總結(jié)】光刻、顯影工藝簡介?光刻膠(Photo-resist)概述?+PR和–PR的區(qū)別?描述光刻工藝的步驟?四種對準(zhǔn)和曝光系統(tǒng)光刻膠概述?高分辨率HighResolution;?高光敏性HighPRSensitivity?精確對準(zhǔn)PrecisionAlignment?光刻膠是T
2025-05-11 20:20
【總結(jié)】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義:光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。二、光刻的目的:光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對應(yīng)的幾何圖形,從而實現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程:以負(fù)膠為例來說明這八個步驟,一般可分為
2025-05-07 07:17
【總結(jié)】微慣性技術(shù)——基礎(chǔ)知識中北大學(xué)電子與計算機科學(xué)技術(shù)學(xué)院李杰Tel:3921882;E_mail:主要內(nèi)容一、地球的形狀和重力場特性二、垂線及緯度的定義三、地球的自轉(zhuǎn)及角速度四、慣性系中常用坐標(biāo)系五、坐標(biāo)變換及坐標(biāo)系之間的關(guān)系六、動量矩、動量矩定理及歐拉動力學(xué)方程七
2025-04-29 01:34
【總結(jié)】華創(chuàng)證券技術(shù)面分析第一篇(K線)華創(chuàng)證券認(rèn)識K線最高價收盤價陽線實體開盤價最低價下影線上影線最高價開盤價陰線實體收盤價最低價下影線上影線華創(chuàng)證券大陽線圖形基本圖形變化圖形華創(chuàng)證券?大陽線出現(xiàn)在一波下跌之后,表
2025-01-08 16:32
【總結(jié)】1第七章光刻Photolithography2光刻是IC制造業(yè)中最為重要的一道工藝,占據(jù)了芯片制造中大約一半的步驟.光刻占所有成本的35%通??捎霉饪檀螖?shù)及所需掩模的個數(shù)來表示某生產(chǎn)工藝的難易程度。一個典型的硅集成電路工藝包括15-20塊掩膜版3集成電路的特
2025-02-17 03:36
【總結(jié)】技術(shù)轉(zhuǎn)移合約立合約書人:______________,以下簡稱甲方______________,???以下簡稱乙方;______________,以下簡稱丙方;______________,以下簡稱丁方??????茲因乙、丁方執(zhí)行甲方、丙方共同補助之產(chǎn)學(xué)合作計劃,業(yè)已產(chǎn)
2024-07-22 23:48
【總結(jié)】技術(shù)轉(zhuǎn)移合約 技術(shù)轉(zhuǎn)移合約 立合約書人:______________,以下簡稱甲方______________, 以下簡稱乙方;______________,以下簡稱丙方;________...
2024-12-15 22:12
【總結(jié)】通過使用大數(shù)值孔徑的掃描步進(jìn)光刻機和深紫外光源,再結(jié)合相移掩模、光學(xué)鄰近效應(yīng)修正和雙層膠等技術(shù),光學(xué)光刻的分辨率已進(jìn)入亞波長,獲得了?m的分辨率。若能開發(fā)出適合157nm光源的光學(xué)材料,甚至可擴(kuò)展到?m。第9章非光學(xué)光刻技術(shù)但是這些技術(shù)的成本越來越昂貴,而且光學(xué)光刻的分辨率極限遲早會
2024-08-13 16:18
【總結(jié)】電信學(xué)院微電子學(xué)系1微電子制造技術(shù)微電子制造技術(shù)第14章光刻:對準(zhǔn)和曝光電信學(xué)院微電子學(xué)系2微電子制造技術(shù)概述對準(zhǔn)就是把所需圖形在硅片表面上定位或?qū)?zhǔn)。而曝光是通過曝光燈或其它輻射源將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠涂層上。如
2025-05-12 20:06
【總結(jié)】論文答辯報告(bàogào),中國醫(yī)科大學(xué)附屬(fùshǔ)第一醫(yī)院婦科碩士研究生:田野指導(dǎo)教師:溫放,第一頁,共三十四頁。,早期宮頸(ɡōnɡjǐnɡ)鱗癌盆腔淋巴結(jié)微轉(zhuǎn)移的探討,第二頁,共三十四頁...
2024-11-14 18:25
【總結(jié)】論文辯論報告 中國醫(yī)科大學(xué)附屬第一醫(yī)院婦科 碩士研究生:田野 指導(dǎo)教師:溫放 第一頁,共三十四頁。 早期宮頸鱗癌盆腔淋巴 結(jié)微轉(zhuǎn)移的探討 第二頁,共三十四頁。 前言 宮頸癌是...
2024-10-03 08:53
【總結(jié)】1半導(dǎo)體工藝基礎(chǔ)重慶郵電大學(xué)微電子系234光刻?光刻工藝、光刻技術(shù)、刻蝕?在半導(dǎo)體制造技術(shù)中,最為關(guān)鍵的是用于電路圖形生成和復(fù)制的光刻技術(shù),光刻技術(shù)的研究和開發(fā),在每一代集成電路技術(shù)的更新中扮演著技術(shù)先導(dǎo)的作用。?隨著集成電路的不斷提高,光刻技術(shù)也面
2025-01-01 16:03