stepper基礎(chǔ)教育訓(xùn)練(編輯修改稿)
2025-06-16 23:39 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 e check:光罩位置與 Stage 上之 Align sensor 校正 晶片對(duì)準(zhǔn) :Stage 上之晶片和機(jī)臺(tái)對(duì)準(zhǔn) Search:粗略對(duì)準(zhǔn) , 調(diào)整晶片位置後再做 EGA EGA: 精確對(duì)準(zhǔn) , 依量測(cè)結(jié)果曝光時(shí)做調(diào)整 對(duì)準(zhǔn)機(jī)狀況 2 註 5 機(jī)臺(tái)動(dòng)作 訊息框 對(duì)準(zhǔn)使用之 Sensor 光罩對(duì)準(zhǔn) Sensor 校正 Lens 溫控 LSA: Laser Step Alignment (光繞射 ) FIA: Field Image Alignment(影像處理 ) 2 註 5 ( 3, 5 ) : Y EGA Result = ( 3, 5 ) : X EGA Result = EGA Result 為程式設(shè)定的對(duì)準(zhǔn) Mark 和實(shí)際偵測(cè)之位置差距 , 目前設(shè)定為 2μm, 若 EGA 讀取失敗 (Fail) 表示 2μm, 請(qǐng)?jiān)購(gòu)男略囎? Search 對(duì)準(zhǔn) 座標(biāo) :白色部份為 (4,5) 由左向右為 X=4 由上向下為 Y=5 AA 補(bǔ)值觀念 (Stepper 至 PPMS AA 補(bǔ)值 資料庫(kù)下載參數(shù) , 如註 2) Search (調(diào)整晶片位置以做更精確對(duì)準(zhǔn) ) EGA (得到之結(jié)果 Result, 註 5) (AA補(bǔ)值 =PPMS 補(bǔ)值 +EGA AA 補(bǔ)值 ) 4..KLA 量測(cè) AA (量測(cè)結(jié)果由 SYS 自動(dòng)修正 AA補(bǔ)值在 PPMS資料庫(kù) ) 晶片曝光程序 晶片對(duì)準(zhǔn) (search,EGA) Focus 偵測(cè) amp。 調(diào)整 Leveling 偵測(cè) amp。 調(diào)整 曝光 (曝光時(shí)間 *光源強(qiáng)度 Integrator) 單位 :DUV (mj) Iline (msec) 3 有 Normal 和 Test2 兩種 Iline 機(jī)臺(tái)用 msec DUV 機(jī)臺(tái)用 mj .Change amp。 Align reticle 交換及光罩對(duì)準(zhǔn) .Alignment Only 只光罩對(duì)準(zhǔn) .Change Only 只交換光罩 .No Operation 不動(dòng)作 已有晶片在 Stage 上則選 Old 見機(jī)臺(tái)操作 4 4 .Prealign Assist(Head) 第 1片手拉對(duì)準(zhǔn)並記憶 .Prealign Assist(All) 全部手拉對(duì)準(zhǔn) .Auto Prealign 自動(dòng) Search 對(duì)準(zhǔn) .Auto Search .Manual Searc
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