stepper基礎教育訓練(編輯修改稿)
2025-06-16 23:39 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 e check:光罩位置與 Stage 上之 Align sensor 校正 晶片對準 :Stage 上之晶片和機臺對準 Search:粗略對準 , 調(diào)整晶片位置後再做 EGA EGA: 精確對準 , 依量測結果曝光時做調(diào)整 對準機狀況 2 註 5 機臺動作 訊息框 對準使用之 Sensor 光罩對準 Sensor 校正 Lens 溫控 LSA: Laser Step Alignment (光繞射 ) FIA: Field Image Alignment(影像處理 ) 2 註 5 ( 3, 5 ) : Y EGA Result = ( 3, 5 ) : X EGA Result = EGA Result 為程式設定的對準 Mark 和實際偵測之位置差距 , 目前設定為 2μm, 若 EGA 讀取失敗 (Fail) 表示 2μm, 請再從新試做 Search 對準 座標 :白色部份為 (4,5) 由左向右為 X=4 由上向下為 Y=5 AA 補值觀念 (Stepper 至 PPMS AA 補值 資料庫下載參數(shù) , 如註 2) Search (調(diào)整晶片位置以做更精確對準 ) EGA (得到之結果 Result, 註 5) (AA補值 =PPMS 補值 +EGA AA 補值 ) 4..KLA 量測 AA (量測結果由 SYS 自動修正 AA補值在 PPMS資料庫 ) 晶片曝光程序 晶片對準 (search,EGA) Focus 偵測 amp。 調(diào)整 Leveling 偵測 amp。 調(diào)整 曝光 (曝光時間 *光源強度 Integrator) 單位 :DUV (mj) Iline (msec) 3 有 Normal 和 Test2 兩種 Iline 機臺用 msec DUV 機臺用 mj .Change amp。 Align reticle 交換及光罩對準 .Alignment Only 只光罩對準 .Change Only 只交換光罩 .No Operation 不動作 已有晶片在 Stage 上則選 Old 見機臺操作 4 4 .Prealign Assist(Head) 第 1片手拉對準並記憶 .Prealign Assist(All) 全部手拉對準 .Auto Prealign 自動 Search 對準 .Auto Search .Manual Searc
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