【總結】集成電路制造技術第五章物理氣相淀積西安電子科技大學微電子學院戴顯英2022年3月第五章物理氣相淀積?PVD:physicalvapordeposition?淀積特點:物理過程;?技術:①蒸發(fā):早期工藝制備金屬薄膜;②濺射:已取代蒸發(fā)。真空蒸發(fā)的基
2025-05-01 12:09
【總結】氣體實驗定律(Ⅱ)一、等容過程1.等容過程:氣體在體積不變的情況下發(fā)生的狀態(tài)變化過程叫做等容過程.2.一定質量氣體的等容變化演示:?如圖所示,研究瓶中一定質量的氣體,先使U型管中兩側水銀液面等高,在左側液面處標上標記P,然后改變瓶內氣體溫度(可分別放入熱水和冰水中),上下移動A管,使左側水銀面
2024-11-12 17:00
【總結】"和平年代"里的話:當幻想和現(xiàn)實面對時,總是很痛苦的。要么你被痛苦擊倒,要么你把痛苦踩在腳下!練習?1.下列現(xiàn)象中,最能恰當地說明分子間有相互作用力的是[]?A.氣體容易被壓縮.?B.高壓密閉的鋼筒中的油從筒壁滲出.?C.兩塊純凈的鉛壓緊后合在一起.?D.滴入水中的墨汁微粒向不同方
2024-11-11 05:47
【總結】第二單元從主要災種了解自然災害第二節(jié)氣象災害【教學目標】知識與能力:1.了解我國常發(fā)且危害嚴重的幾種主要的氣象災害。2.分析臺風、寒潮、干旱、洪澇等氣象災害的形成原因。3.結合實例認識各種氣象災害的危害及造成的損失。4.結合地圖了解臺風和寒潮的移動路線。過程與方法:學會當洪澇和臺
2024-11-09 08:18
【總結】第10章氣體動理論第10章氣體動理論1.了解各種統(tǒng)計分布函數:連續(xù)分布(麥克斯韋—玻耳按曼分布).本章的基本要求2掌握理想氣體的三個統(tǒng)計速率;微觀量與宏觀量之間的關系;能量均分定理和理想氣體的內能公式。第10章氣體動理論3能用分子運動的統(tǒng)計的觀點理解并解釋氣體的壓強、溫度的物理意義,能應用相關的公
2025-06-21 08:36
【總結】第八章氣相沉積技術氣相沉積技術:發(fā)展迅速,應用廣泛→→表面成膜技術application→→制備各種特殊力學性能的薄膜涂層,如超硬、高耐蝕、耐熱和抗氧化等。制備各種功能薄膜材料和裝飾薄膜涂層等。超硬薄膜涂層等。since1970s→→薄膜技術和薄膜材料→→發(fā)展突
2025-05-03 22:11
【總結】1Chap5物理氣相沉積?PVD是以物理方式進行薄膜淀積的一種技術。在集成電路生產中,金屬薄膜在歐姆接觸、互連、柵電極和肖特基二極管等方面,都有很廣泛的應用。?PVD有兩種方法:蒸鍍法(EvaporationDeposition)和濺鍍法(SputteringDeposition)。
2025-01-06 14:19
【總結】長沙縣實驗中學2020屆高三一輪復習課件氣象災害周維1、臺風和颶風產生原因和對人類的影響;(分析2020年緬甸遭受強熱帶風暴的影響)2、分析洪澇災害和干旱形成的原因和之類措施;3、分析寒潮產生的原因和影響;(結合2020年元月南方的冰災)一、臺風1、成因:在熱帶或副熱帶海面溫度在2
2024-11-11 02:58
【總結】第一篇:如何營造良好的課堂心理氣氛 一、美術欣賞課直觀生動 過去要上好美術欣賞課,教師需要搜集大量的圖片、幻燈片或錄像帶,并且在講課時需要大量的口頭講解。因此,不少教師把上好美術欣賞課視為畏途,本...
2024-11-09 17:31
【總結】高三地理氣候專題復習一、氣候的概念及氣候因子氣候的概念:一個地區(qū)多年的平均天氣狀況氣候要素:氣溫和降水氣候形成因子氣候因子主要作用太陽輻射最基本的因子,決定該地區(qū)所處的熱量帶大氣環(huán)流有雙重性,一方面調整全球熱量和水汽的分布;另一方面本身也是一種氣候現(xiàn)象下墊面狀況不同,其熱容量、反射率不同。另
2025-07-21 16:44
【總結】地理事物和地理現(xiàn)象的形成和影響因素——氣溫專題小中見大大中見小探究高三地理復習的思路與方法習題有關地理問題地理規(guī)律和原理歸納總結應用解決氣溫氣溫及其水平分布氣溫的日變化和日較差氣溫的年變化和年較差氣溫的垂直變化和逆溫現(xiàn)象知
2024-11-11 05:50
【總結】理氣中成藥,第一頁,共三十九頁。,一、概述(ɡàishù),氣機(qìjī),升、降、出、入,氣陷,氣脫,氣滯,氣逆,--補氣(bǔqì)升陽,--益氣固脫,--行氣調之,--降氣平之,理氣,二、概念...
2024-11-15 13:21
【總結】第五章物理氣相淀積內容?概述?真空技術?蒸發(fā)?濺射?薄膜淀積機理概述?形成薄膜技術:薄膜生長技術、薄膜淀積技術?薄膜生長技術:專指襯底材料也是形成薄膜的元素之一,(如硅的熱氧化生長二氧化硅)?薄膜淀積技術:薄膜形成過程中不消耗晶片或襯底材料,?薄膜淀積技術一般可分為兩類:?化學氣相淀積(
2025-01-15 02:42
【總結】地理復習——氣候專題(1)知識點一:全球氣壓帶和風帶的分布在下圖的相應位置寫出氣壓帶和風帶的名稱,并畫出風帶的風向南極北極1、考慮高低緯間熱量差異單圈環(huán)流赤道赤道赤道低壓帶極地高壓帶副熱帶高壓帶東北信風帶副極地低壓帶中緯西風帶
2025-01-06 16:26
【總結】第五章物理氣相淀積物理氣相淀積—PVD(physicalvapordeposition)—利用某種物理過程(蒸發(fā)或濺射),實現(xiàn)物質的轉移,即原子或分子由源轉移到襯底(硅)表面上,淀積成薄膜。淀積特點:物理過程技術:①真空蒸發(fā):優(yōu)點:淀積速率較高,相對高的真空度,薄膜質量較好缺點:臺階覆蓋能力差,淀積
2025-05-12 12:31