【摘要】電子科技大學(xué)中山學(xué)院Chap4離子注入?核碰撞和電子碰撞?注入離子在無(wú)定形靶中的分布?注入損傷?熱退火電子科技大學(xué)中山學(xué)院離子注入?離子注入是一種將帶電的且具有能量的粒子注入襯底硅的過(guò)程,注入能量介于1KeV到1MeV之間,注入深度平均可達(dá)10nm~10um。離子劑量變動(dòng)范圍,從用于閾值電壓調(diào)
2025-05-02 18:30
【摘要】2022/2/4JianFang1集成電路工藝和版圖設(shè)計(jì)概述JianFangICDesignCenter,UESTC2022/2/4JianFang2微電子制造工藝2022/2/4JianFang3IC常用術(shù)語(yǔ)園片:硅片芯片(Chip,Die):6?、8?:硅(園)片
2025-01-07 01:54
【摘要】集成電路制造工藝集成電路制造工藝北京大學(xué)北京大學(xué)e集成電路設(shè)計(jì)與制造的主要流程框架設(shè)計(jì)芯片檢測(cè)單晶、外延材料掩膜版芯片制造過(guò)程封裝測(cè)試系統(tǒng)需求集成電路的設(shè)計(jì)過(guò)程:設(shè)計(jì)創(chuàng)意+仿真驗(yàn)證集成電路芯片設(shè)計(jì)過(guò)程框架From吉利久教授是功能要求行為設(shè)
2025-01-08 12:25
【摘要】集成電路Contentsv集成電路的定義v集成電路的分類v集成電路的工藝微電子技術(shù)課程ppt微電子技術(shù)課程ppt集成電路定義v集成電路(integrated?circuit)是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝,把一個(gè)電路中所需的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件及布線互連
2025-01-08 13:38
【摘要】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義:光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。二、光刻的目的:光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形,從而實(shí)現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程:以負(fù)膠為例來(lái)說(shuō)明這八個(gè)步驟,一般可分為
2025-05-07 07:17
【摘要】下一頁(yè)上一頁(yè)集成電路制造工藝——雙極集成電路制造工藝下一頁(yè)上一頁(yè)上一次課的主要內(nèi)容?CMOS集成電路工藝流程N(yùn)型(100)襯底的原始硅片NMOS結(jié)構(gòu)PMOS結(jié)構(gòu)P阱(well)隔離閾值調(diào)整注入柵氧化層和多晶硅柵NMOS管源漏注入PMOS管源漏注入接觸和互
2025-05-13 02:13
【摘要】第八章專用集成電路和可編程集成電路???????、標(biāo)準(zhǔn)單元與可編程集成電路的比較?專用集成電路(ASIC)被認(rèn)為是用戶專用電路(customspecificIC),即它是根據(jù)用戶的特定要求.能以低研制成本、短交貨周期供貨的集成電路。它最主要的優(yōu)點(diǎn)在于:?(1)
2025-01-17 09:42
【摘要】2015-2020年中國(guó)集成電路封裝市場(chǎng)現(xiàn)狀研究分析與發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告報(bào)告編號(hào):1576520中國(guó)產(chǎn)業(yè)調(diào)研網(wǎng)36/36 行業(yè)市場(chǎng)研究屬于企業(yè)戰(zhàn)略研究范疇,作為當(dāng)前應(yīng)用最為廣泛的咨詢服務(wù),其研究成果以報(bào)告形式呈現(xiàn),通常包含以下內(nèi)容:投資機(jī)會(huì)分析市場(chǎng)規(guī)模分
2025-06-26 01:28
【摘要】國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理第一章集成電路制造工藝集成電路(IntegratedCircuit)制造工藝是集成電路實(shí)現(xiàn)的手段,也是集成電路設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)。2/1/2023韓良1國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理?隨著集成電路發(fā)展的過(guò)程,其發(fā)展的總趨勢(shì)是革新工
2025-02-15 05:39
【摘要】半導(dǎo)體半導(dǎo)體集成電路集成電路2.雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)2023/1/28pn+n-epin+P-Sin+-BLCBESP+P+雙極集成電路的基本工藝雙極集成電路的基本工藝2023/1/28P-SiTepiCBEpn+n-epin+P-SiP+P+Sn+-BLTepiA
2025-01-06 18:37
【摘要】123456789101112131415161718192021222324252627
2025-08-05 16:51
【摘要】在一些電子測(cè)量?jī)x器、裝置或產(chǎn)品中,經(jīng)常有測(cè)量電路中直流電流的需要,因此研發(fā)人員開發(fā)出各種各樣的電流檢測(cè)集成電路。它是一種I/V轉(zhuǎn)換器,將測(cè)量的電流轉(zhuǎn)換成相應(yīng)的電壓,即V=kI,其中k為比例常數(shù)。另外,在一些電子產(chǎn)品中要限制輸出電流,以防止有故障時(shí)(負(fù)載發(fā)生局部短路或輸出端短路、電源輸出電壓升高等)產(chǎn)生過(guò)流而造成更大損失。檢測(cè)到有過(guò)流發(fā)生時(shí),可以控制關(guān)斷電源或負(fù)載開關(guān),或以限制的電流輸出。
2025-08-18 16:43