電子顯微分析與電子探針(存儲(chǔ)版)
【正文】 ； ? ③操作方式及其所用的調(diào)制信號(hào)； ? ④信號(hào)噪音比； ? ⑤雜散磁場(chǎng)； ? ⑥機(jī)械振動(dòng)將引起束斑漂流等，使分辨率下降。 ? EPMA使用的 X射線譜儀有 波譜儀 和 能譜儀 兩類(lèi)。由于能譜儀沒(méi)有運(yùn)動(dòng)部件，穩(wěn)定性好，且沒(méi)有聚焦要求，所以譜線峰值位置的重復(fù)性好且不存在失焦問(wèn)題，適合于比較粗糙表面的分析工作。 ? 在電子探針中， X射線是由樣品表面以下 ?m數(shù)量級(jí)的作用體積中激發(fā)出來(lái)的，如果這個(gè)體積中的樣品是由多種元素組成，則可激發(fā)出各個(gè)相應(yīng)元素的特征 X射線。 ZrO2(Y2O3)陶瓷析出相與基體的定點(diǎn)分析 (圖中數(shù)字為 Y2O3mol%) ? 下圖給出 BaF2晶界線掃描分析的例子，圖 (a)為 BaF2晶界的形貌像和線掃描分析的位置，圖 (b)為 O和 Ba元素沿圖 (a)直線位置上的分布，可見(jiàn)在晶界上有 O的偏聚。 (a)能譜曲線； (b)波譜曲線 能譜議和波譜儀的譜線比較 電子探針?lè)治龅幕竟ぷ鞣绞? ? 一是 定點(diǎn)分析 ，即對(duì)樣品表面選定微區(qū)作定點(diǎn)的全譜掃描，進(jìn)行定性或半定量分析，并對(duì)其所含元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)進(jìn)行定量分析； ? 二是 線掃描分析 ，即電子束沿樣品表面選定的直線軌跡進(jìn)行所含元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)的定性或半定量分析； ? 三是 面掃描分析 ，即電子束在樣品表面作光柵式面掃描，以特定元素的 X射線的信號(hào)強(qiáng)度調(diào)制陰極射線管熒光屏的亮度，獲得該元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)分布的掃描圖像。 Si(Li)探頭必須始終保持在液氦冷卻的低溫狀態(tài)，即使是在不工作時(shí)也不能中斷，否則晶體內(nèi) Li的濃度分布狀態(tài)就會(huì)因擴(kuò)散而變化，導(dǎo)致探頭功能下降甚至完全被破壞。此外，能譜儀可在低入射電子束流 (1011A)條件下工作，這有利于提高分析的空間分辨率。 二次電子像的襯度可以分為以下幾類(lèi)： ? (1)形貌襯度 ? (2)成分襯度 ? (
環(huán)評(píng)公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1