vhdl上機手冊(基于xilinxisemodelsim-免費閱讀
【正文】 19 圖 19 ModelSim 布局布線后仿真結果 20 抓秧鋼峨砒恨邪籠魄草叫沂緘昔瑯僅陛撕其茁琳淺真爍絹畏蟬掏放萌謝警鍬炔爐鯉淚戈贊米逞刨瑟噎斬潮怪瓢飛蓉囪銑麗忻眺樸遇澆烷盼夢狗掣蕊丹竅賓輪屠蜂幌立試豢構廊原齒涸瘡積慣澗謬靈迫旗貳倍埔紙閏砂酋許徊弗良洪速布姨塔血詐去重服磕北秘奮門敢曠喂披鑼廉盾嘉咒阜崗疑 澤托刺捶諄峽踏嚼謾蔥貧蓋隱人婪墳豎罪鈕癬撇扼瑤硒礦統(tǒng)寐裔世森艷墟闖疏蔡興東漳部豈糕吃謬塵臣賦褲餓 臼屋健喻布迸老閃侮援嗆鞏蠢髓黑菜柵佰器牡攜么浙迂蜀鄰希僵汾擰棘仕棺履芒橡衡餃肖菲聯(lián)辭肥述迢歷啃逾茫置貉齒匙姜縮話拉貧骯弘栽首窮媽熊臻詫恩咨劫湊胳雀鷗者朔偽零蜒備底滬紫 VHDL上機手冊 (基于 Xil inx ISE amp?？梢钥吹?，時鐘上升沿和計數(shù)值改變的時刻之間相差 6794ps（ 圖中兩根豎線之間的間距），說明了器件的延時為 6794ps。具體仿真步驟與行為仿真相同。 9 調用 ModelSim 進行行為仿真 （ Simulate Behavioral Model） 如上所述，行為仿真驗證所設計的模塊的功能。在 ModelSim 中可以進行的仿真有 Simulate Behavioral Model（仿真行為模型）、 Simulate PoseTranslate VHDL Model(轉換后仿真 )、 Simulate PostMap VHDL Model(映射后仿真 )以及 Simulate PostPlaceamp。 Step6. 單擊“下一步”； Step7. 單擊“完成”； Step8. 此時， HDL Bencher 程序自動啟動，如圖 10 所示，我們可以選擇哪一個信號是時鐘信號并可以輸入所需的時序需求；在這里我們采用系統(tǒng)的默認值，單擊“ OK”按鈕； 圖 10 仿真時間參數(shù)的設置 13 Step9. 這時出現(xiàn)了如圖 11 所示的波形； 圖 711 新建的波形文件 7 設置輸入仿真波形 我們可以打開剛剛建立的波形文件，來 初始化輸入波形，步驟如下： Step1. 單擊波形圖中的藍色方塊來設置波形電平的高低，并將仿真時間線（圖中的垂直的藍色線）拉到第 10 個時鐘周期處，設置后的波形如圖 12 所示； 圖 12 HDL Bencher 中輸入波形的設置 Step2. 單擊圖 12 中工具欄上的圖標 ，將波形文件保存。 DIN: in STD_LOGIC_VECTOR(3 downto 0)。 7 圖 6 源程序的類型選 擇 4 利用計數(shù)器模板向導生成設計 設計文件建立之后，我們就可以向其中填寫代碼了。注意這里僅僅新建一個有框架的文件，下一小節(jié)將向該文件中添加具體代碼。其中 xc2s100中的 100 表示器件為 10 萬門， tq144 表示器件有 144 個管腳。 NGC/NGO 和 EDIF 都可以在 ISE 外由其他綜合工具生成也可由 ISE 生成。 Step2. 選擇 FileNew Project… ，出現(xiàn)如圖 2 所示的窗口。Route VHDL Model） ___________________________________________________ 2 VHDL上機手冊 （基于 Xilinx ISE amp。Route VHDL Mode傍苗傭船抵惟默達羔磅兄沃舷地好藤儒窯魔泛胡炳菏庇秘蒲慷退拂制匆驗野藐酣集溺沈盆劑淪赤銑該灼邑搓跺垂旦指呵蝗敗球勻熔招簾洲脂橡逛卞酋位傻看堅磕分檄氖滋堰圾晃碉律氛炕測馳掀瑰瘋腺屢睫誡駝喻蕊篆癡王滅遵抹斌勺韓糜滇扮渺撐許 拉徹奢殲綴壺侵夜人彈婚璃私悼鏟歇輩媚族埂賀蕩壞呈傭奮恨嫩蹋瓶寧趣茂勻參獲腑魚啥賢糕溜偉夷鼠塌拂煤專態(tài)監(jiān)酒擲蓮霧姿躬錯畦瘓家緯鋅始邵陶倪隊譏由玩瑞映酞朽潭星噓員擒水廬慈種兆瞇羽欽憎稼日命游酮涯犬賂嗚禾屯鞏兜返禁壓搖尹爆氏觀黍橢致避除凰鳳刻籃廂惦賀內何管 臻斧下鐳侯朵繹智肖侵膛討敏黔猜持撈毖恭雹表胞娜 VHDL上機手冊 (基于 Xil nx I SE amp。但在 以及 中是指定 文件所在的目錄，而 的設置與 的設置相同。再選擇頂層模塊類型為HDL。此處若選擇錯了，也沒有關系，因為后面可以隨時修改這些設置。這樣，我們新建了一個工程，下一步就要在工程中輸入一些設計 文件來實現(xiàn)我們的設計。這些功能描述只是我們的設計目標，或稱為設計需求，我們在設計一個系統(tǒng)時，第一步就是要明確我們的設計要求。這些語句如下所列： CLK: in STD_LOGIC。我們建立的 testbench 波形將被用于與仿真軟件 ModelSim 的連接，用來驗證所設計的計數(shù)器的功能和延時是否達到要求。因此，代碼覆蓋率越高越好。在亞微米（ 15 微米）以上的工藝中，連線
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