20xx年普通高等學(xué)校招生全國統(tǒng)一考試海南卷(文件)
【正文】 _______。（2）除溴塔中主要的離子方程式為 。（5）電解槽中陽極產(chǎn)物為 ，該產(chǎn)物可直接用于本工藝流程中的 。9。第Ⅰ卷 第Ⅱ卷13.（8分）（1）三 ⅥA （每空1分，共2分）（2）Si SiO2 （每空1分，共2分）（3）C+2SCS2 極性 （每空1分，共2分）（4）Mg Mg+2HCl==MgCl2+H2↑ （每空1分，共2分）14.（8分）（1）d （2分）（2）2Al+2NaOH+2H2O==2NaAlO2+3H2↑ （2分）（3）Al(OH)3 Al3+水解，使溶液中H+濃度增大 （每空1分，共2分）（4）20 （2分）15.（8分）（1）CH2CHCH3 （1分）（2） 加成反應(yīng) （2分，1分，共3分）（3）取代反應(yīng) （1分）（4）HOOC—COOH (1分)（5） （2分）16.（9分）（1）3 小于 （每空2分，共4分）（2）B （1分，2分，共3分）大于 放熱反應(yīng)升高溫度時平衡向逆反應(yīng)方向移動 （每空1分，共2分）17.（11分）（1）D A （每空1分，共2分）（2）H2O2與固體顆粒接觸分解 （每空2分，共4分）（3）蒸發(fā)皿
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