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正文內(nèi)容

20xx年普通高等學(xué)校招生全國(guó)統(tǒng)一考試海南卷(文件)

 

【正文】 _______。(2)除溴塔中主要的離子方程式為 。(5)電解槽中陽(yáng)極產(chǎn)物為 ,該產(chǎn)物可直接用于本工藝流程中的 。9。第Ⅰ卷 第Ⅱ卷13.(8分)(1)三 ⅥA (每空1分,共2分)(2)Si SiO2 (每空1分,共2分)(3)C+2SCS2 極性 (每空1分,共2分)(4)Mg Mg+2HCl==MgCl2+H2↑ (每空1分,共2分)14.(8分)(1)d (2分)(2)2Al+2NaOH+2H2O==2NaAlO2+3H2↑ (2分)(3)Al(OH)3 Al3+水解,使溶液中H+濃度增大 (每空1分,共2分)(4)20 (2分)15.(8分)(1)CH2CHCH3 (1分)(2) 加成反應(yīng) (2分,1分,共3分)(3)取代反應(yīng) (1分)(4)HOOC—COOH (1分)(5) (2分)16.(9分)(1)3 小于 (每空2分,共4分)(2)B (1分,2分,共3分)大于 放熱反應(yīng)升高溫度時(shí)平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng) (每空1分,共2分)17.(11分)(1)D A (每空1分,共2分)(2)H2O2與固體顆粒接觸分解 (每空2分,共4分)(3)蒸發(fā)皿
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