pvd開(kāi)發(fā)基礎(chǔ)講義ppt課件(已修改)
2025-03-05 12:30 本頁(yè)面
【正文】 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 PVD技朮簡(jiǎn)介 蘇會(huì)軍 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 報(bào)告大綱 PVD技朮基礎(chǔ)理論介紹 1. PVD工藝流程 2. PVD技朮發(fā)展應(yīng)用 3. 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 ? 何謂 PVD？ 物理氣相沈積 (Physical Vapor Deposition) ? PVD的用途 ?鍍金屬的目的 :美觀 、 防腐蝕 、 耐磨 、 導(dǎo)電 、 反光 、 反射熱等 。 ?所鍍的厚度與材料視實(shí)際的用途而不同 。 PVD技朮基礎(chǔ)理論介紹 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 PVD(Physical Vapor Deposition)即物理氣相沉積技朮 ﹐ 即在電場(chǎng)作用下形成的等離子體中 , 塊體材料被濺射出來(lái) , 而沉積在工件表面 , 形成一定厚度的薄膜 . 濺射出的靶材粒子 氣體離子 電子 靶材 工件 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 氬氣在電場(chǎng)作用下被離化同時(shí)被加速 , 向加有負(fù) 電壓的靶面飛去 , 轟擊 靶材 表面，引起 靶材 表面各種 粒子，如原子、分子或團(tuán)束逸出 即產(chǎn)生 濺射。濺出的 中性原子 與真空腔內(nèi)同時(shí)被離化的氣體粒子反應(yīng)而 沉 積到工件 表面 上， 於是 形成 了一定厚度的 膜層。 2. 1 PVD過(guò)程 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 第一步氣體離化 e175。 Ar+ Ar 能量 離子化 Argon氣體團(tuán) Ar + e Ar+ +2e 以 TiN為例 , 過(guò)程如下 : 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 第二步 濺射 Ar+ + Ti Ti(Atom) +Ar+ 靶材 被濺射出的靶材粒子 Power 氣體離子Ar+ 接地 PVD原理 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 第三步 反應(yīng)成膜 Ar+ + N2 2N +Ar+ Ti + N TiN 基底材料 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 3. PVD生產(chǎn)流程圖 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 4. PVD設(shè)備 清洗線 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 : 工件 : 工件的運(yùn)動(dòng)軌跡 : 靶材 Tn : 反應(yīng)氣體 真空室前門(mén) T1 T2 T3 T4 鍍膜機(jī) 單筒式鍍膜機(jī) 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 T1 T2 : 工件 : 工件的運(yùn)動(dòng)軌跡 : 靶材 Tn : 反應(yīng)氣體 (N2, C2H2) T3 T4 T5 T6 T7 T8 連續(xù)式鍍膜機(jī) 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 設(shè)備 真空系統(tǒng) 激發(fā)系統(tǒng) 電控系統(tǒng) PLC 粗抽 加熱系統(tǒng) 細(xì)抽 加熱管 紅外線 電源 工件偏壓 靶材 觸摸屏 機(jī)械泵 羅茨泵 擴(kuò)散泵 分子泵 直流 射頻 中頻 平面 圓柱 直流 單向或雙 向脈沖 鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)介紹 制工部 PVD社團(tuán)系列教材 4 PVD技術(shù)魚(yú)骨圖 掛具設(shè)計(jì) 設(shè)備 真空 系統(tǒng) 電控 系統(tǒng) 激發(fā) 系統(tǒng) 加熱 系統(tǒng) 氣體 材料 靶材 基材 制程 偏壓電源 氣路 膜系設(shè)計(jì) 真空度 鍍膜時(shí)間 工件旋轉(zhuǎn)速度 濺射電源 旋轉(zhuǎn)方式 裝夾系統(tǒng) 遮蔽系統(tǒng) 材料
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