液晶顯示器的陣列工藝技術(shù)-文庫吧
2024-12-24 09:48 本頁面
【正文】 CVD：化學(xué)氣相沉積。就是在高頻電場的作用下，使反應(yīng)氣體電離形成等離子體，反應(yīng)離子及活性基團(tuán)依靠從高頻電場獲得的能量從而能夠在較低的溫度襯底上成膜。在陣列中，有 AP CVD（常壓 CVD）和 PCVD（等離子體 CVD）兩種。lAP CVD SiOlPECVD 4層膜 、 n+aSi、 鈍化 SiNxlAP CVD在低溫下形成致密薄膜；lPCVD可防止熱產(chǎn)生的損傷及相互材料的擴(kuò)散；lPCVD可生長不能加熱生長及反應(yīng)速度慢的膜；lPCVD利用平行電極可實(shí)現(xiàn)大面積化。 CVD工藝10 CVD工藝11 CVD工藝萬級(jí)間百級(jí)間裝載 /卸載P/C：反應(yīng)室傳送室機(jī)械手運(yùn)載室 反應(yīng)室電極板12通入反應(yīng)氣體擴(kuò)散板基板 基座升降機(jī) 泵 PECVD三個(gè)基本的過程：216。等離子相反應(yīng)216。輸運(yùn)粒子到襯底表面216。表面反應(yīng)等離子體包括：自由基原子分子離子電子中性粒子非中性粒子131. 涂膠 前清洗 烘干 /冷卻 噴 HMDS / 冷卻 涂膠 前烘 / 冷卻 2. 曝光 用一次、分布曝光機(jī)曝光 曝光后烘烤3. 顯影 顯影 后烘 顯影后檢查 光刻工藝柵線薄膜玻璃基板光刻膠涂膠 曝光 顯影柵極紫外光掩膜版14涂膠：就是在基板上涂上一層光刻膠（樹脂、感光劑、添加劑、溶劑）。涂膠的方式是旋轉(zhuǎn)基板，用滴管從中間滴下光刻膠，并同時(shí)吹入 N2，滴下的光刻膠從中間向四周散布涂敷整個(gè)基板的過程。光刻膠有正性和負(fù)性之分。 涂膠15 涂膠16 涂膠17 涂膠旋涂 刮涂加旋涂 刮涂涂膠的方法主要有旋涂、刮涂加旋涂、和刮涂三種 。18曝光：就是用掩膜版掩膜，紫外線（ UV）照射，經(jīng)紫外光照射的光刻膠被改性，掩膜
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