光學(xué)零件加工畢業(yè)設(shè)計(jì)-文庫(kù)吧
2025-06-02 12:59 本頁(yè)面
【正文】 外圓直徑，達(dá)到所要求數(shù)值的透鏡。定心的方法有許多中，本次實(shí)習(xí)所用方法為機(jī)械定心法。被定心透鏡放在一對(duì)同軸精度高、端面精確垂直于軸線的夾頭之間，利用彈簧壓力來實(shí)現(xiàn)定心的。使透鏡整個(gè)表面與接頭端面接觸，這時(shí)透鏡的兩個(gè)表面的球心位于接頭的軸線上，使透鏡被夾緊的同時(shí)達(dá)到定心的目。機(jī)械法定心的特點(diǎn)操作簡(jiǎn)便，加工效率高，適用于中等尺寸、中等精度透鏡的大批量生產(chǎn)。其他還有光學(xué)定心法、自準(zhǔn)直像定心法、光學(xué)電視定心法、透射像定心法等。磨邊冷卻液可分為油性和水性兩種，具有粘度低,冷卻性強(qiáng)，潤(rùn)滑性好等特點(diǎn)，同時(shí)不損害皮膚，對(duì)機(jī)床設(shè)備無銹蝕，對(duì)環(huán)境無污染。一般采用401冷卻液、GX水基冷卻液等。2．2精磨精磨的目的：使零件表面的凹凸層深度和裂紋層深度進(jìn)一步減??；獲得所需的尺寸精度。此次實(shí)習(xí)精磨使用的是高速精磨機(jī)，使用金剛石丸片磨具進(jìn)行精磨加工，精磨片在球面夾具上的分布必須使得精磨模在使用過程中的磨損規(guī)律符合“余弦磨損”。每道精磨工序時(shí)間為40s。 第三章拋光工藝拋光的目的是消除精磨的破壞層，達(dá)到規(guī)定的表面要求；精修面形，達(dá)到圖紙要求的光圈數(shù)N和局部誤差；為后續(xù)特種工藝創(chuàng)造條件。拋光的機(jī)理是機(jī)械磨削、化學(xué)作用和表面流動(dòng)理論。拋光后零件的檢驗(yàn)主要是利用光圈數(shù)來判定，光圈數(shù)的檢驗(yàn)原理是等厚干涉。（圖二）不同類型的精磨金剛石丸片磨具拋光的工藝中，所用的拋光液為二氧化鍶（CeO2），夾具為比較柔軟的纖維布料，其具體操作步驟為：將休整好的拋光模上緊在機(jī)床的光軸上，把待加工的零件放置在相應(yīng)的夾具內(nèi)，與機(jī)床上的拋光模相貼，調(diào)整機(jī)床的擺幅，啟動(dòng)機(jī)床對(duì)零件的第一面進(jìn)行拋光，拋光完工后重復(fù)上述步驟，對(duì)零件進(jìn)行第二面拋光，在拋光過程中，操作者必須對(duì)每件零件進(jìn)行相應(yīng)的自檢，如零件的中心厚度、表面光潔度、光圈及光圈不規(guī)則度等。 圖三、精磨拋光機(jī) 第四章鍍膜工藝 薄膜的作用在于改進(jìn)基底的性能或功能。實(shí)現(xiàn)特定的光學(xué)特性優(yōu)化表面性能，改善表面特性，進(jìn)行微細(xì)加工，實(shí)現(xiàn)微制造；產(chǎn)生新功能特性。光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造。常用的薄膜制備方法有熱蒸發(fā)、濺射、離子束輔助蒸發(fā)、電鍍。各種光學(xué)玻璃因?yàn)槠涫褂媚康暮铜h(huán)境的不同，對(duì)工藝的要求和光線的通透等也就不相同，鍍膜這道工序就是為了滿足這些要求而對(duì)光線光 路等做出相應(yīng)的調(diào)整。鍍膜要求較高，學(xué)校所采用的是箱式電子真空鍍膜機(jī)，在指導(dǎo)老師的介紹下，其基本原理是通過電子槍發(fā)射出來的電子在磁場(chǎng)的作用下受洛侖茲力作用而打在膜料上使膜料蒸發(fā)較均勻的粘附在玻璃鏡片上，然后烘烤鏡片使膜料粘固。鍍膜后的鏡片通過封光光光度計(jì)來檢查其光譜曲線來計(jì)算其反射率、透射率等是否達(dá)到技術(shù)要求。在這種鍍膜方式下，由于邊緣線速度與中心線速度是不相同的，溫度也并非出處相同，所以不能保證光學(xué)表面鍍膜的均勻，邊緣和中心必然存在一定的偏差。鍍膜機(jī)工作時(shí)要求真空環(huán)境，真空等級(jí)分為初真空，低真空，高真空，極高真空，超高真空，一般要求工作環(huán)境為高真空,所處氣壓為10－3～10－5Pa。鍍膜后的檢驗(yàn)方法主要有判別顏色，觀察器件的表面光潔度，測(cè)試所鍍膜層的牢固度（使用擦拭法）。鍍膜的具體工序如下所示：1．操作人員，必須取得崗位資格證書2．膜料的選擇 膜料MgF2 純度≥％3．工房的要求 溫度控制在22176。C177。4176。C，濕度≤80％，工房?jī)?nèi)一切設(shè)施擺放整潔。4．清潔基片用脫脂布蘸醇醚混合液擦拭零件表面，若表面印記不能用混合液擦去，可用細(xì)拋光粉擦，然后用醇醚混合液擦干，以哈氣檢查表面清潔程度。5．裝料裝件將擦拭干凈的基片放置在鍍膜用夾具上，并調(diào)整好夾具及基片的位置，以便蒸發(fā)時(shí)目測(cè)干涉色的變化，同時(shí)將蒸發(fā)源及膜料裝好。6．開冷卻水和擴(kuò)散泵7．抽低真空打開機(jī)械泵低閥，抽低真空，打開低真空測(cè)量表頭（熱電偶真空計(jì)），測(cè)低真空度。8．離子轟擊當(dāng)真空抽至10～20Pa時(shí)開始轟擊，轟擊電流50～150uA，啟動(dòng)工轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)工作，將低閥關(guān)閉，抽預(yù)閥（管道），當(dāng)真空度降至20Pa時(shí)，關(guān)閉預(yù)閥，重新抽低閥，重復(fù)動(dòng)作維持真空度在10～，時(shí)間10～20分鐘。9．開高閥 離子轟擊10～20分鐘，低真空在1～10Pa時(shí)，打開高真空閥門，待離子轟擊輝光消失后，切斷轟擊電源。10．烘燒 250176。C～300176。C11．，用電離真空計(jì)測(cè)量12．預(yù)熔除氣 ，預(yù)熔緩慢，至膜料徹底變?yōu)榱鲃?dòng)的液體。13．蒸鍍 當(dāng)溫度達(dá)到250176。C～300176。C時(shí)，～，即可蒸發(fā)，蒸發(fā)電流應(yīng)比預(yù)熔時(shí)的電流略低，避免出現(xiàn)“打點(diǎn)子”，用目測(cè)觀測(cè)反射色控制膜厚，到達(dá)指定顏色時(shí)停止蒸鍍。14．冷卻，充氣 當(dāng)真空室溫度降至200176。C時(shí)，充氣15．送檢 第五章加工設(shè)備、銑磨模具夾具的介紹根據(jù)零件形狀、技術(shù)要求結(jié)合，銑磨工序設(shè)備加工特點(diǎn)合理選擇加工設(shè)備，有利于確保零件加工質(zhì)量和加工效率，我司銑磨組現(xiàn)有加工設(shè)備特點(diǎn)如下：設(shè)備型號(hào)設(shè)備廠家加工范圍磨頭軸轉(zhuǎn)速工件軸轉(zhuǎn)速中心軸調(diào)整中心厚度調(diào)整行程UTSⅢ日本永田￠3~￠110mm6千~1萬轉(zhuǎn)/分10~20轉(zhuǎn)/分177。30mm177。70mm韓國(guó)時(shí)代￠3
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