【正文】 外圓直徑，達(dá)到所要求數(shù)值的透鏡。定心的方法有許多中，本次實習(xí)所用方法為機械定心法。被定心透鏡放在一對同軸精度高、端面精確垂直于軸線的夾頭之間，利用彈簧壓力來實現(xiàn)定心的。使透鏡整個表面與接頭端面接觸，這時透鏡的兩個表面的球心位于接頭的軸線上，使透鏡被夾緊的同時達(dá)到定心的目。機械法定心的特點操作簡便，加工效率高，適用于中等尺寸、中等精度透鏡的大批量生產(chǎn)。其他還有光學(xué)定心法、自準(zhǔn)直像定心法、光學(xué)電視定心法、透射像定心法等。磨邊冷卻液可分為油性和水性兩種，具有粘度低,冷卻性強，潤滑性好等特點，同時不損害皮膚，對機床設(shè)備無銹蝕，對環(huán)境無污染。一般采用401冷卻液、GX水基冷卻液等。2．2精磨精磨的目的：使零件表面的凹凸層深度和裂紋層深度進(jìn)一步減??；獲得所需的尺寸精度。此次實習(xí)精磨使用的是高速精磨機，使用金剛石丸片磨具進(jìn)行精磨加工，精磨片在球面夾具上的分布必須使得精磨模在使用過程中的磨損規(guī)律符合“余弦磨損”。每道精磨工序時間為40s。第三章拋光工藝拋光的目的是消除精磨的破壞層，達(dá)到規(guī)定的表面要求；精修面形，達(dá)到圖紙要求的光圈數(shù)N和局部誤差；為后續(xù)特種工藝創(chuàng)造條件。拋光的機理是機械磨削、化學(xué)作用和表面流動理論。拋光后零件的檢驗主要是利用光圈數(shù)來判定，光圈數(shù)的檢驗原理是等厚干涉。（圖二）不同類型的精磨金剛石丸片磨具拋光的工藝中，所用的拋光液為二氧化鍶（CeO2），夾具為比較柔軟的纖維布料，其具體操作步驟為：將休整好的拋光模上緊在機床的光軸上，把待加工的零件放置在相應(yīng)的夾具內(nèi)，與機床上的拋光模相貼，調(diào)整機床的擺幅，啟動機床對零件的第一面進(jìn)行拋光，拋光完工后重復(fù)上述步驟，對零件進(jìn)行第二面拋光，在拋光過程中，操作者必須對每件零件進(jìn)行相應(yīng)的自檢，如零件的中心厚度、表面光潔度、光圈及光圈不規(guī)則度等。 圖三、精磨拋光機第四章鍍膜工藝 薄膜的作用在于改進(jìn)基底的性能或功能。實現(xiàn)特定的光學(xué)特性優(yōu)化表面性能，改善表面特性，進(jìn)行微細(xì)加工，實現(xiàn)微制造；產(chǎn)生新功能特性。光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造。常用的薄膜制備方法有熱蒸發(fā)、濺射、離子束輔助蒸發(fā)、電鍍。各種光學(xué)玻璃因為其使用目的和環(huán)境的不同，對工藝的要求和光線的通透等也就不相同，鍍膜這道工序就是為了滿足這些要求而對光線光 路等做出相應(yīng)的調(diào)整。鍍膜要求較高，學(xué)校所采用的是箱式電子真空鍍膜機，在指導(dǎo)老師的介紹下，其基本原理是通過電子槍發(fā)射出來的電子在磁場的作用下受洛侖茲力作用而打在膜料上使膜料蒸發(fā)較均勻的粘附在玻璃鏡片上，然后烘烤鏡片使膜料粘固。鍍膜后的鏡片通過封光光光度計來檢查其光譜曲線來計算其反射率、透射率等是否達(dá)到技術(shù)要求。在這種鍍膜方式下，由于邊緣線速度與中心線速度是不相同的，溫度也并非出處相同，所以不能保證光學(xué)表面鍍膜的均勻，邊緣和中心必然存在一定的偏差。鍍膜機工作時要求真空環(huán)境，真空等級分為初真空，低真空，高真空，極高真空，超高真空，一般要求工作環(huán)境為高真空,所處氣壓為10－3～10－5Pa。鍍膜后的檢驗方法主要有判別顏色，觀察器件的表面光潔度，測試所鍍膜層的牢固度（使用擦拭法）。鍍膜的具體工序如下所示：1．操作人員，必須取得崗位資格證書2．膜料的選擇 膜料MgF2 純度≥％3．工房的要求 溫度控制在22176。C177。4176。C，濕度≤80％，工房內(nèi)一切設(shè)施擺放整潔。4．清潔基片用脫脂布蘸醇醚混合液擦拭零件表面，若表面印記不能用混合液擦去，可用細(xì)拋光粉擦，然后用醇醚混合液擦干，以哈氣檢查表面清潔程度。5．裝料裝件將擦拭干凈的基片放置在鍍膜用夾具上，并調(diào)整好夾具及基片的位置，以便蒸發(fā)時目測干涉色的變化，同時將蒸發(fā)源及膜料裝好。6．開冷卻水和擴散泵7．抽低真空打開機械泵低閥，抽低真空，打開低真空測量表頭（熱電偶真空計），測低真空度。8．離子轟擊當(dāng)真空抽至10～20Pa時開始轟擊，轟擊電流50～150uA，啟動工轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)工作，將低閥關(guān)閉，抽預(yù)閥（管道），當(dāng)真空度降至20Pa時，關(guān)閉預(yù)閥，重新抽低閥，重復(fù)動作維持真空度在10～，時間10～20分鐘。9．開高閥 離子轟擊10～20分鐘，低真空在1～10Pa時，打開高真空閥門，待離子轟擊輝光消失后，切斷轟擊電源。10．烘燒 250176。C～300176。C11．，用電離真空計測量12．預(yù)熔除氣 ，預(yù)熔緩慢，至膜料徹底變?yōu)榱鲃拥囊后w。13．蒸鍍 當(dāng)溫度達(dá)到250176。C～300176。C時，～，即可蒸發(fā)，蒸發(fā)電流應(yīng)比預(yù)熔時的電流略低，避免出現(xiàn)“打點子”，用目測觀測反射色控制膜厚，到達(dá)指定顏色時停止蒸鍍。14．冷卻，充氣 當(dāng)真空室溫度降至200176。C時，充氣15．送檢第五章加工設(shè)備、銑磨模具夾具的介紹根據(jù)零件形狀、技術(shù)要求結(jié)合，銑磨工序設(shè)備加工特點合理選擇加工設(shè)備，有利于確保零件加工質(zhì)量和加工效率，我司銑磨組現(xiàn)有加工設(shè)備特點如下：設(shè)備型號設(shè)備廠家加工范圍磨頭軸轉(zhuǎn)速工件軸轉(zhuǎn)速中心軸調(diào)整中心厚度調(diào)整行程UTSⅢ日本永田￠3~￠110mm6千~1萬轉(zhuǎn)/分10~20轉(zhuǎn)/分177。30mm177。70mm韓國時代￠3