【正文】 標(biāo)本及產(chǎn)狀位置等）不在導(dǎo)線(xiàn)上時(shí)，則需要先在平面圖的相應(yīng)位置標(biāo)注，并按巖層走向投影到導(dǎo)線(xiàn)上，再由導(dǎo)線(xiàn)交點(diǎn)向上方投影交于剖面地形線(xiàn)上。第三步，完善剖面圖和整飾二次投影法：在繪制路線(xiàn)地質(zhì)圖的基礎(chǔ)上，選擇投影基線(xiàn)方向，要求投影基線(xiàn)方向與剖面圖方向一致。具體操作：第一步：繪制剖面地形線(xiàn)。將平面圖上每條導(dǎo)線(xiàn)端點(diǎn)正投影到投影基線(xiàn)上（交點(diǎn)），再?gòu)幕€(xiàn)上交點(diǎn)處向上方投影，根據(jù)計(jì)算的每條導(dǎo)線(xiàn)點(diǎn)高差，在各條投影線(xiàn)上分別標(biāo)出各點(diǎn)投影位置，連接各投影點(diǎn)而成剖面地形線(xiàn)。第二步：界線(xiàn)及各地質(zhì)要素投影。首先將平面圖各導(dǎo)線(xiàn)上的界線(xiàn)，地質(zhì)內(nèi)容等位置（交點(diǎn)），沿巖層走向方向投影到投影基線(xiàn)上（交點(diǎn)），再?gòu)耐队盎€(xiàn)上的交點(diǎn)處向上方投影交于剖面地形線(xiàn)上，按各自地質(zhì)內(nèi)容的圖示圖例標(biāo)注繪制。第三步：整飾成圖。一次或二次投影法繪制剖面圖較復(fù)雜，優(yōu)點(diǎn)是成圖后剖面圖上地層厚度基本反映了地層的真厚度，地質(zhì)體和構(gòu)造形態(tài)基本符合實(shí)際，缺點(diǎn)是剖面地形輪廓線(xiàn)有所歪曲。投影基線(xiàn)方向的確定：當(dāng)投影基線(xiàn)方向與剖面總方向一致時(shí)，即剖面線(xiàn)垂直或基本垂直地層走向的情況下，常采用以下方法。1）投影基線(xiàn)通過(guò)主要導(dǎo)線(xiàn)，如圖1－6。 圖中投影基線(xiàn)通過(guò)或基本通過(guò)A1－A2－A3－A4－A5－導(dǎo)線(xiàn)。2）導(dǎo)線(xiàn)起止點(diǎn)連線(xiàn)成投影基線(xiàn)，但導(dǎo)線(xiàn)必須較均勻的分布在投影基線(xiàn)兩側(cè)，如圖1－7，圖中A0、A4點(diǎn)連接為投影基線(xiàn)，導(dǎo)線(xiàn)較均勻分布在基線(xiàn)兩側(cè)。五、地層厚度計(jì)算㈠ 按各導(dǎo)線(xiàn)分層進(jìn)行計(jì)算厚度計(jì)算公式：D=L（sinσ．sinβ．sinγ177。conσ．sinβ）式中D地層真厚度（米）L導(dǎo)線(xiàn)斜距（米）σ?guī)r層真傾角（度）β地形坡度角（度）γ剖面導(dǎo)線(xiàn)與地層走向線(xiàn)的夾角（度）注：當(dāng)坡向與巖層傾向相反時(shí)，公式中用加號(hào)計(jì)算。當(dāng)坡向與巖層傾向相同時(shí)，公式中用減號(hào)計(jì)算。例如：某實(shí)測(cè)剖面中某段導(dǎo)線(xiàn)記錄如下：A2－3，斜距25米，方向35176。，坡度+10176。0－5米：砂巖5－23米：白云質(zhì)灰?guī)r 產(chǎn)狀200176。／60176。（20米處）23－25米：泥巖計(jì)算白云質(zhì)灰?guī)r層厚度：L＝23－5＝18米σ＝60176。，β＝10176。，γ＝走向110176。－方向35176。代入公式D＝18﹙Sin60176。Cos10176。Sin75176。Cos60176。Sin10176。﹚＝㈡ 厚度計(jì)算應(yīng)注意的問(wèn)題地層厚度數(shù)值取舍，按比例尺大小確定，當(dāng)剖面比例尺小于1：1000時(shí)，取整數(shù)；當(dāng)比例尺大于或等于1：1000時(shí)，厚度值取小數(shù)點(diǎn)后一位。巖層產(chǎn)狀的有效控制距離，要求在野外實(shí)測(cè)過(guò)程中根據(jù)實(shí)際情況確定，以便室內(nèi)計(jì)算時(shí)使用。巖脈：巖脈在圖上顯示的寬度小于1mm者，可不必剔除，大于或等于1mm者則應(yīng)剔除。若某段地層中巖脈雖?。ㄐ∮?mm），但量較多，且對(duì)該段地層厚度影響較大，可依據(jù)巖脈在地層中的含量比（厚度比），按比值算出地層厚度。同一向斜或背斜，地層厚度用地層較發(fā)育的一翼進(jìn)行計(jì)算；對(duì)斷層重復(fù)的部份，不予計(jì)算厚度。六、實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面圖中表示的主要內(nèi)容及要求實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面圖主要內(nèi)容如圖1－8所示： ㈠ 導(dǎo)線(xiàn)平面圖上表示的主要內(nèi)容：正北方位線(xiàn)，導(dǎo)線(xiàn)（長(zhǎng)度以平距計(jì)）、地層界線(xiàn)、地質(zhì)點(diǎn)、地層代號(hào)、巖漿巖代號(hào)、礦層（體）、蝕變帶、斷層、采樣點(diǎn)、探礦工程、地質(zhì)產(chǎn)狀（選擇表示），主要地物等。圖名、比例尺、各地質(zhì)內(nèi)容編號(hào)及代號(hào)。㈡ 剖面圖上表示的內(nèi)容圖名：比例尺、水平比例尺、高程或高差座標(biāo)、導(dǎo)線(xiàn)平面圖中全部地質(zhì)內(nèi)容。巖性（花紋表示）、產(chǎn)狀（數(shù)字表示傾向、傾角），如有放大素描圖應(yīng)在剖面上方繪制并用箭頭指示位置等。㈢ 剖面圖方向應(yīng)與投影基線(xiàn)平行；剖面圖的西、北西、南西、南端應(yīng)放置在剖面圖的左邊，而東、北東、南東、北端放在剖面圖的右邊。㈣ 如果實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面同時(shí)進(jìn)行了物化探工作，物化探曲線(xiàn)圖視具體情況，可以放在在剖面圖上方，也可另外單獨(dú)作圖。㈤ 剖面平移及表示剖面測(cè)制過(guò)程中，如遇大片浮土掩蓋、天然障礙或構(gòu)造等造成測(cè)制意義不大的地段、則需平移。剖面平移一定要沿標(biāo)志層、界線(xiàn)或順層追索，平移距離一般不宜過(guò)大，否則另測(cè)剖面。導(dǎo)線(xiàn)平面圖上按平移方向、平移實(shí)際距離（平距）另作起點(diǎn)。如圖1－9圖中：A2A2′為平移方位和距離地質(zhì)剖面圖平移后，按平移的二點(diǎn)（圖中A2和A2′）高差決定起算標(biāo)高，二點(diǎn)間水平方向酌情斷1－2厘米，以作圖方便互不重疊為準(zhǔn)。如圖1－10圖中A2和A2′兩點(diǎn)實(shí)際高差確定。七、綜合地層柱狀圖㈠ 要求在實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面工作（野外測(cè)繪、作圖、地層厚度計(jì)算、測(cè)試成果、文字整理及修正等）全部完成后，經(jīng)剖面相互對(duì)比、綜合分析的基礎(chǔ)上繪制測(cè)區(qū)綜合地層柱狀圖。㈡ 綜合地層柱狀圖上主要內(nèi)容：比例尺：比例尺選擇應(yīng)以能表達(dá)地層結(jié)構(gòu)的基本特征為原則。各時(shí)代地層和各填圖單位。圖中用統(tǒng)一圖示圖例規(guī)定的線(xiàn)條、花紋符號(hào)表示不同的巖層及其接觸關(guān)系。在右邊相對(duì)應(yīng)的位置寫(xiě)上巖層厚度和簡(jiǎn)單文字描述，并注明有代表性的化石和礦產(chǎn)；在左邊表示地層系統(tǒng)、地層名稱(chēng)和時(shí)代符號(hào)。有物化探工作的，可在柱狀圖右側(cè)表示物化探曲線(xiàn)。八、實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面小結(jié)（總結(jié)）內(nèi)容㈠ 前言目的。剖面線(xiàn)位置、方向、座標(biāo)、測(cè)量方法。工作起止時(shí)間、工作單位、主要工作人員。完成主要工作量：剖面長(zhǎng)度、工程工作量、標(biāo)本及樣品數(shù)量。㈡ 地質(zhì)成果簡(jiǎn)述剖面測(cè)區(qū)的區(qū)域構(gòu)造部位、地層、構(gòu)造特征。依地層時(shí)代由新至老對(duì)剖面進(jìn)行分層敘述。每一時(shí)代中地層可按地層結(jié)合單位總述其組合特征，再按不巖性層分層或填圖單元詳述巖性特征、接觸關(guān)系特別是不整合接觸或斷層接觸關(guān)系。巖漿巖及巖脈。構(gòu)造（斷裂、褶皺）分別描述類(lèi)型、性質(zhì)、規(guī)模、形態(tài)、產(chǎn)狀、對(duì)地層或礦層破壞，以及控礦特征等。礦產(chǎn)及礦化線(xiàn)索作詳細(xì)敘述。新發(fā)現(xiàn)、新進(jìn)展及新認(rèn)識(shí)。㈢ 存在問(wèn)題。第二章 地質(zhì)填圖一、地質(zhì)填圖的目的任務(wù)㈠ 地質(zhì)填圖又稱(chēng)地質(zhì)測(cè)量。地質(zhì)填圖在固體礦產(chǎn)普查找礦工作中和礦床（區(qū)）評(píng)價(jià)工作中，是一項(xiàng)基本的，又是必不可少的重要工作手段。㈡ 地質(zhì)填圖礦產(chǎn)勘查全過(guò)程中，常采用的比例尺有1：25000、1：10000、1：5000、1：2000、1：1000五種。從使用的范圍和目的出發(fā)，一般在普查找礦階段。在物化探及重砂異常找礦中、在礦床（區(qū)）勘探期間的礦區(qū)外圍找礦時(shí)，常使用1：25000、1：10000比例尺地質(zhì)填圖；在礦床（區(qū)）詳查、勘探階段，常進(jìn)行1：5000～1：1000比例尺地質(zhì)填圖。在確定礦區(qū)地質(zhì)填圖比例尺時(shí)，還必須綜合考慮礦區(qū)范圍的大小、礦體形態(tài)復(fù)雜程度、礦石質(zhì)量或礦化均勻程度等因素，通常是當(dāng)?shù)V體形態(tài)較復(fù)雜、礦層厚度或礦石質(zhì)量變化較大、礦化不均勻時(shí)，地質(zhì)填圖比例尺應(yīng)適當(dāng)放大。㈢ 布置1：25000、1：10000比例尺地質(zhì)填圖的目的，在于闡明測(cè)區(qū)地質(zhì)構(gòu)造和成礦地質(zhì)條件，用以找礦和擴(kuò)大礦床（區(qū)）遠(yuǎn)景。測(cè)區(qū)范圍一般應(yīng)包括：與已知礦床有地質(zhì)聯(lián)系的礦（化）點(diǎn)；找礦標(biāo)志明顯地段；各種找礦手段（包括地質(zhì)、物化探、重砂等）的綜合異常地段。㈣ 1：5000－1：1000地質(zhì)填圖是在礦床（區(qū)）普詳查或勘探階段進(jìn)行，主要任務(wù)是：全面而詳細(xì)研究礦床（區(qū)）地層、巖石、構(gòu)造、礦體形態(tài)、規(guī)模、產(chǎn)狀、礦石質(zhì)量、礦石類(lèi)型及其空間分布；研究礦體與圍巖的關(guān)系及圍巖蝕變等。為探礦工程布置、儲(chǔ)量計(jì)算，為礦山設(shè)計(jì)和建設(shè)提供地表地質(zhì)資料。測(cè)區(qū)范圍通常局限于礦體和近礦圍巖分布地段，但應(yīng)包括探礦工程布置范圍。二、地質(zhì)填圖準(zhǔn)備工作㈠ 資料收集：收集工作區(qū)內(nèi)或大一些范圍內(nèi)有關(guān)前人工作成果資料。測(cè)區(qū)內(nèi)沉積巖、巖漿巖、變質(zhì)巖方面的資料，如地層、巖石類(lèi)型特征等。如果有包括測(cè)區(qū)的小比例尺地質(zhì)圖（1：10萬(wàn) 或 1：20萬(wàn)等）也應(yīng)收集。測(cè)區(qū)內(nèi)發(fā)現(xiàn)的礦產(chǎn)種類(lèi)、賦存層位、礦體規(guī)模、礦物成分、礦石類(lèi)型、品位等。測(cè)區(qū)內(nèi)褶皺、斷裂的分布、形態(tài)特征、規(guī)模、性質(zhì)、產(chǎn)狀以及對(duì)巖（礦）層的破壞和影響程度。收集測(cè)區(qū)地形圖（應(yīng)與填圖比例尺相同或更大的比例尺），收集測(cè)區(qū)內(nèi)測(cè)量控制點(diǎn)等資料。收集測(cè)區(qū)內(nèi)物化探、重砂、航片等資料。資料收集后，礦區(qū)技術(shù)負(fù)責(zé)應(yīng)組織有關(guān)人員對(duì)資料進(jìn)行認(rèn)真研究，分析，擬定工作重點(diǎn)和需要解決的問(wèn)題。㈡ 地質(zhì)踏勘針對(duì)擬定的工作重點(diǎn)和需要解決的問(wèn)題，選擇路線(xiàn)對(duì) 測(cè)區(qū)進(jìn)行踏勘調(diào)查。地質(zhì)踏勘工作由礦區(qū)技術(shù)負(fù)責(zé)（主任工程師）組織地質(zhì)、水文、物化探、測(cè)量等工種的主要人員參加，一般選擇1－2條路線(xiàn)，若礦區(qū)地質(zhì)構(gòu)造復(fù)雜時(shí)可增加1條踏勘路線(xiàn)。踏勘路線(xiàn)選擇盡可能通過(guò)測(cè)區(qū)主要地層、主要構(gòu)造（褶皺、斷層）、巖體、礦體（層）。踏勘過(guò)程中要勤敲打、勤觀察，并作好記錄和路線(xiàn)地質(zhì)剖面圖。踏勘結(jié)束后，組織認(rèn)真分析討論，寫(xiě)出路線(xiàn)踏勘小結(jié)。應(yīng)強(qiáng)調(diào)要做到四個(gè)統(tǒng)一，即統(tǒng)一地層劃分和巖性分層、統(tǒng)一野外巖石命名、統(tǒng)一填圖方法和要求、統(tǒng)一圖式圖例。㈢ 實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面正式填圖前必須實(shí)測(cè)礦區(qū)完整地質(zhì)剖面1－3條，目的是查明礦區(qū)內(nèi)地層層序、接觸關(guān)系、巖石類(lèi)型、厚度、巖性、化石、礦產(chǎn)、標(biāo)志層、變質(zhì)作用、侵入體等。實(shí)測(cè)剖面完成后，應(yīng)編制代表填圖范圍內(nèi)的綜合地層柱狀圖，同時(shí)明確填圖單元，作為填圖區(qū)統(tǒng)一的分層和對(duì)比依據(jù)。實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面比例尺的選定，應(yīng)根據(jù)礦區(qū)地質(zhì)、構(gòu)造等因素的復(fù)雜程度來(lái)確定，一般有1：2000－1：100幾種。關(guān)于實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面操作細(xì)則及要求，在固體礦產(chǎn)勘查地質(zhì)剖面規(guī)定實(shí)施細(xì)則中有詳細(xì)敘述。三、地質(zhì)填圖程序和方法㈠ 填圖所需的工具、用品及人員組織工具、用品；填圖一般應(yīng)配備的工具及用品有：觀察點(diǎn)路線(xiàn)記錄表或野外記錄本、手圖（與填圖比例尺相同或更大的地形圖）、標(biāo)本簽、樣品簽、地質(zhì)包、文件夾、釘錘、羅盤(pán)、放大鏡、照相機(jī)、文具盒、鉛筆、三角板、量角器、鋼卷尺、木樁或竹樁、三角形小紅旗、紅油漆、白色膠布卷、棉紙、標(biāo)本袋等。填圖人員一般根據(jù)填圖面積、精度要求、時(shí)間、定額等因素，確定填圖小組個(gè)數(shù)。通常是一個(gè)填圖小組由二名地質(zhì)人員和一名地質(zhì)工組成。㈡ 填圖方法根據(jù)礦區(qū)確定的填圖單元，采用穿越法、追索法或者二者相結(jié)合的方法填圖。要求用地質(zhì)觀察點(diǎn)和觀察線(xiàn)相結(jié)合的形式編錄，必要時(shí)輔以少量探礦工程（如剝土、槽探、圓井等）揭露，將地質(zhì)界線(xiàn)等要素填繪在填圖手圖（地形圖）上。填圖所用的地形底圖（手圖）的精度應(yīng)符合礦區(qū)設(shè)計(jì)要求，比例尺應(yīng)大于或等于填圖比例尺，還要防止野外手圖和清圖的圖紙?jiān)诠ぷ鬟^(guò)程中伸縮變形而影響精度。觀察路線(xiàn)布置填圖工作應(yīng)貫徹從已知到未知的原則。實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面是一條已知的觀察路線(xiàn)，因此，填圖工作應(yīng)從實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面兩側(cè)逐漸展開(kāi)。1）實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面展繪在手圖上，展繪方法：將剖面起點(diǎn)確定在手圖上，再根據(jù)剖面的每一條基線(xiàn)的方位角、平距逐條繪出，最后形成一條折線(xiàn)，這條折線(xiàn)就是實(shí)測(cè)剖面導(dǎo)線(xiàn)(基線(xiàn))在手圖上的水平投影線(xiàn)。然后將剖面上確定的填圖單元界線(xiàn)，斷層線(xiàn)、侵入體界線(xiàn)、礦層頂?shù)装褰缇€(xiàn)、產(chǎn)狀等的位置，繪到手圖上。2）穿越法：穿越路線(xiàn)布置，以手圖上實(shí)測(cè)剖面線(xiàn)為起點(diǎn)，按照填圖精度要求的觀察線(xiàn)距離，垂直巖層走向或大致垂直巖層走向布置觀察線(xiàn)。在布置觀察線(xiàn)時(shí)應(yīng)著重強(qiáng)調(diào)的是，不僅僅是考慮觀察線(xiàn)之間的距離，還要考慮基巖出露的良好地段，若出現(xiàn)布置的兩條觀察線(xiàn)距大于規(guī)定的線(xiàn)距，則可在其間布置短觀察線(xiàn)彌補(bǔ)。見(jiàn)下圖（2－1）：3）追索法選擇標(biāo)志層、含礦層或礦體、蝕變帶，主要斷裂帶等采用沿走向追索填圖。觀察路線(xiàn)一般采用“之”字形布置，以便控制其頂?shù)捉缇€(xiàn)和了解變化情況。如圖2－2。地質(zhì)觀察點(diǎn)布置1）觀察點(diǎn)布置要求觀察點(diǎn)布置一般要求布置在觀察線(xiàn)上，是地質(zhì)填圖貫徹點(diǎn)、線(xiàn)結(jié)合觀察地質(zhì)現(xiàn)象的一項(xiàng)重要原則。2）地質(zhì)觀察點(diǎn)分類(lèi)：根據(jù)觀察點(diǎn)所具有的地質(zhì)意義，分為三類(lèi)。① 一類(lèi)：基本觀察點(diǎn)：是控制測(cè)區(qū)地質(zhì)界線(xiàn)和基本構(gòu)造形態(tài)而布置的觀察點(diǎn)。應(yīng)布置在測(cè)區(qū)填圖單元的界線(xiàn)、含礦層或礦體界線(xiàn)、蝕變帶界線(xiàn)、巖體界線(xiàn)、斷層面及折皺軸等位置上。該類(lèi)觀察點(diǎn)要求作詳細(xì)的文字記錄，必要時(shí)加作放大素描（剖面或平面圖等）。② 二類(lèi)：加密觀察點(diǎn)：為進(jìn)一步控制地質(zhì)界線(xiàn)和構(gòu)造形態(tài)的變化，同時(shí)滿(mǎn)足觀察點(diǎn)密度要求，在基本觀察點(diǎn)之間沿地質(zhì)界線(xiàn)加密布置的觀察點(diǎn)。該類(lèi)觀察點(diǎn)要求只作簡(jiǎn)要的文字記錄。③ 三類(lèi)：巖性或產(chǎn)狀觀察點(diǎn)：為控制和了解地質(zhì)界線(xiàn)之間巖層產(chǎn)狀變化及巖性特征、滿(mǎn)足觀察密度和數(shù)量而布置的觀察點(diǎn)。對(duì)該類(lèi)觀察點(diǎn)只要求記錄巖層產(chǎn)狀和巖性特征。3）觀察點(diǎn)密度及數(shù)量① 觀察點(diǎn)布置的密度及數(shù)量是根據(jù)填圖比例尺大小、構(gòu)造復(fù)雜程度、基巖出露情況、自然地理?xiàng)l件等因素確定。觀察點(diǎn)密度及數(shù)量一般要求見(jiàn)下表。填 圖比例尺地質(zhì)界線(xiàn)上的點(diǎn)距（米）每平方公里觀察點(diǎn)數(shù)（個(gè)）構(gòu)造簡(jiǎn)單構(gòu)造中等構(gòu)造復(fù)雜1：10000100－2005060801：500050－100100120150② 三類(lèi)觀察點(diǎn)數(shù)量要求：保證填圖精度，提高觀察點(diǎn)對(duì)各類(lèi)地質(zhì)體控制程度，要求基本觀察點(diǎn)與加密觀察點(diǎn)數(shù)之和，應(yīng)大于觀察點(diǎn)總數(shù)的70％。在具體工作過(guò)程中，觀察點(diǎn)布置應(yīng)在含礦巖層或礦層頂板和構(gòu)造（褶皺、斷層等）附近密集些，反之在非礦層附近和構(gòu)造簡(jiǎn)單地段可放稀的原則。切忌機(jī)械地等距離布置觀察點(diǎn)。地質(zhì)觀察點(diǎn)定位1）觀察點(diǎn)標(biāo)記① 野外標(biāo)記：用寫(xiě)有地質(zhì)觀察點(diǎn)編號(hào)的木樁（竹樁）打入觀察點(diǎn)處的基巖裂縫中，或者用紅油漆在基巖上劃一小圓中心一點(diǎn)“”以示點(diǎn)位，并在小園旁邊寫(xiě)點(diǎn)號(hào)。若需要儀器測(cè)定點(diǎn)位時(shí)，還應(yīng)在觀察點(diǎn)附近掛上小紅旗以便找點(diǎn)方便。② 手圖上標(biāo)記：手圖上地質(zhì)點(diǎn)用2mm直徑的實(shí)心小園（）和空心小園（○）分別表示實(shí)測(cè)和推測(cè)的地質(zhì)點(diǎn)。2）觀察點(diǎn)定位：① 定位方法：a. 儀器法：觀察點(diǎn)定位用經(jīng)緯儀視距法測(cè)量，提交觀察點(diǎn)的X、Y座標(biāo)數(shù)據(jù)的精度最高，一般適用于重要或勘查程度高的礦區(qū)；用GPS全球衛(wèi)星定位儀測(cè)量精度也較高，適用于預(yù)查－普查礦區(qū)。：利用羅盤(pán)、皮尺采用交匯法定位。精度一般。c. 地物地貌定位：利用地形圖（手圖）和實(shí)地能對(duì)應(yīng)的房屋、道路、獨(dú)立樹(shù)，斷崖、沖溝等地物地貌特征定位方法。精度一