陣列感應(yīng)資料處理培訓(xùn)-閱讀頁(yè)
2025-01-28 13:40本頁(yè)面
【正文】 LR_up21MR_up21LR_up72MR_up15MR_up39MR_up12HR_up39LR_up12MR_up15HR_up09HR_up06HR_up 趨膚效應(yīng)影響 110100 1 10 100地層電導(dǎo)率（S/m）視電導(dǎo)率（S/m） .A6HRA9HRA12HRA15HRA12MRA15MRA21MRA27MRA39MRA21LRA27LRA39LRA72LRA72MR對(duì)同線圈距的不同頻率測(cè)量信號(hào)，頻率越高受趨膚效應(yīng)影響越大； 對(duì)相同的地層電導(dǎo)率，線圈距越長(zhǎng)受趨膚效應(yīng)影響越大； ms p f L ? 井眼信號(hào)是下面因素的函數(shù) : ? 泥漿電導(dǎo)率 Rm ? 井眼大小和形狀 ? 井中偏心距 ? 地層電導(dǎo)率 ? 解決措施：井眼校正 偏心度 dh— 井眼直徑 RF Mud RM 井眼影響 ? MIT5530測(cè)量信號(hào)會(huì)收到上下圍巖的影響。 MIT5530預(yù)處理 井眼校正 陣列感應(yīng)成像測(cè)井的測(cè)量會(huì)不同程度的受到環(huán)境井眼的影響，而且近接收子陣列與遠(yuǎn)接收子陣列受井眼影響程度不同，在描述徑向地層電阻率時(shí)，近接收子陣列受到的影響較大，所以在合成處理之前，應(yīng)當(dāng)對(duì)各接收子陣列的測(cè)量值進(jìn)行適當(dāng)校正，消除井眼環(huán)境的影響，反映出地層的真實(shí)情況 . ? 校正方法： 利用正演方法，模擬計(jì)算在不同泥漿電阻率，不同井眼半徑和地層電阻率情況下的地層響應(yīng)庫(kù)以及對(duì)應(yīng)的無(wú)井眼情況的地層響應(yīng)庫(kù)。 MIT5530的陣列感應(yīng)合成處理分兩步來(lái)完成信號(hào)合成工作。其次是分辨率匹配，實(shí)現(xiàn)不同探測(cè)深度具有同樣的分辨率的測(cè)井曲線。 MIT5530合成處理 ? 真分辨率聚焦 ? 按照理論上原始信號(hào)的貢獻(xiàn)大小，計(jì)算合適的合成濾波庫(kù)。 圖 20（正演模擬無(wú)侵地層）合格的處理效果 圖 21（正演模擬無(wú)侵地層）過(guò)校正效果圖 （正演模擬無(wú)侵地層）欠校正效果圖 （吉林紅＃井）合格的處理效果 （吉林紅＃井）過(guò)欠校正處理效果 ? 在井眼相對(duì)規(guī)則的大段泥巖段 ， 合格的井眼校正曲線經(jīng)過(guò)真分辨率聚焦 ， 其聚焦曲線關(guān)系應(yīng)與其分辨率關(guān)系相一致 。 在非滲透層即出現(xiàn)短陣列在長(zhǎng)陣列左右擺動(dòng)的現(xiàn)象 。 ? 井眼相對(duì)規(guī)則的大段泥巖段，井眼校正過(guò)校正或欠校正則在其合成曲線中會(huì)出現(xiàn)短陣列在長(zhǎng)陣列左側(cè)或右側(cè)的現(xiàn)象。 MIT5530匹配曲線關(guān)系： MIT5530匹配曲線在在典型滲透層（低阻環(huán)帶除外）情況下應(yīng)滿足： 當(dāng) Rmf Rw 時(shí)： AX10=AX20=AX30=AX60=AX90 當(dāng) Rmf Rw時(shí)： AX10=AX20=AX30=AX60=AX90 在非滲透層 MIT5530匹配曲線應(yīng)相對(duì)重合 1ft 分辨率用于下列情況 : ?較好的井眼 或較低的 Rt/Rm對(duì)比度 (100) ?地層間無(wú)大角度 ?無(wú)井洞 2ft 分辨率 ?對(duì) 一般狀況 ?缺省值 4ft 分辨率 ?井況差 ?鹽水泥漿 縱向 分辨率 適用情況 MIT5530陣列感應(yīng)模擬井處理 地層： 5歐姆米 圍巖： 20歐姆米 泥漿： 米 井徑： 8in 陣列感應(yīng)新楊井綜合解釋圖
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