傳感器的加工工藝(ppt30頁(yè))-在線瀏覽
2025-03-18 16:26本頁(yè)面
【正文】 腐蝕工藝 ? 主要有化學(xué)腐蝕（濕法）和離子刻蝕（干法）兩大類(lèi)。 ? （ 2）干法腐蝕：包括等離子刻蝕、反應(yīng)離子刻蝕 (RIE)、 離子束化學(xué)刻蝕 (CAIBE)和離子研磨等。 ? 首先，溶液里的反應(yīng)物將利用擴(kuò)散效應(yīng)來(lái)通過(guò)一層厚度相當(dāng)薄的邊界層，以達(dá)到被蝕刻薄膜的表面。這些位于薄膜表面的生成物，也將利用擴(kuò)散效應(yīng)而通過(guò)邊界層到溶液里，而后隨著溶液被排出。 ? 主要采用純化學(xué)作用的等離子腐蝕及純物理作用的離子腐蝕或具有物理、化學(xué)作用的腐蝕方法，是利用氣相刻蝕劑與被刻蝕的樣品表面接觸而實(shí)現(xiàn)的刻蝕技術(shù)。 干法腐蝕工藝 等離子刻蝕機(jī) 表面犧牲層技術(shù) ? 表面犧牲層技術(shù)就是在形成微機(jī)械結(jié)構(gòu)的空腔或可活動(dòng)的微結(jié)構(gòu)過(guò)程中，先在下層薄膜上用結(jié)構(gòu)材料淀積所需的各種特殊結(jié)構(gòu)件，再用化學(xué)刻蝕劑將此層薄膜腐蝕掉，但不損傷微結(jié)構(gòu)件，然后得到上層薄膜結(jié)構(gòu)（空腔或微結(jié)構(gòu)件）。 表面犧牲層技術(shù) 表面犧牲 層技術(shù) 薄膜工藝 ? 薄膜：一般將厚度在 稱(chēng)為薄膜。 化學(xué)氣相沉積 ? 化學(xué)氣相沉積 ( Chemical Vapor Deposition， 簡(jiǎn)稱(chēng) CVD)技術(shù)是利用氣態(tài)物質(zhì)在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng) ， 生成固態(tài)沉積物的工藝過(guò)程 。 立式 CVD裝置圖 真空蒸鍍 ? 真空蒸鍍是在高真空環(huán)境中，將蒸發(fā)材料加熱至蒸發(fā)溫度蒸發(fā)后而冷凝在要鍍膜的基體上的過(guò)程。 真空蒸鍍?cè)?示意圖 濺射成膜工藝 ? 濺射
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