x射線技術及應用ppt課件-在線瀏覽
2025-06-29 01:58本頁面
【正文】 ? X射線的吸收 ? X射線的散射 ? X射線光學 ? X射線探測器 ? X射線的吸收 I=I0exp(?t) ?Line absorption coefficient ?l=log(I0/I)/t (cm1) ?Mass absorption coefficient ?m=?/? (cm2/g) ?Atom absorption coefficient ?a=?/??A/N (cm2/atom) ?Mol absorption coefficient ?mol=(?/?)A (cm2/mol 對混合物和化合物 ?m=∑wi?I (wi – mass ratios) 對連續(xù) X射線 ?m=∑wi?i (?i –different wavelength) 重要 !! ?m – photo electron + scattering + e+,e ?Photo absorption section ? = ?A/N ?/?, ? 和 Z 的關系 BraggPierce 定律 ?/? = KZ4?3 (cm1) 吸收限和跳躍比 ? X射線光學 反射光學 平晶 彎晶 多層膜 衍射光學 晶體 波帶板 光柵 吸收 吸收片 (1)X射線反射鏡 折射率： b? in ??? 1? 折射因子 b 衰減因子 反射率： 22222222222)c o s(4)c o s(4)()()( s i n4)( s i n4)(??????????????????????????????????c t gc t gIII)))( ( s i n( s i n 212222212 ?a?a?? ?????b??a22??柱面鏡 材料： Si， Ge， a Crystal 形狀 ： 平晶，彎晶，球面 柱面，環(huán)面，超環(huán)面 應用 ： 單色器，成像 （ 2）單晶 X射線光學 (3)毛細管 X射線透鏡 (4)X射線波帶板 ? X射線探測器 ? 正比計數器 ** ? NaI（ Tl）閃爍探測器 ** ? Si（ Li）探測器 ** ? Ge（ Li）探測器 ? Si PIN探測器 ** ? Ge PIN探測器 ** ? 多（單）絲室 ? X射線 CCD ? 微多道板 ? GM計數管 ? 電離室 ? 膠片，熒光屏 2) Solvent Chlorobenzene,chorobenzene/xylene MIBK (methylisobutylketone) MEK (methylethylkotone) specific gravity (MIBK) (chlorobenzene) Flash point 28OC chlorobenzene 17% MIBK Appearance colorless liquid Filtration ?m Sensitive wavelength: 200 240nm Store conditions: one year, 10 21% 2c amp。 10nm ? Defect density(100nm) 102/cm2 ? Xray transparency 50% ? Optical transparency 50% ? Absorber contrast 20 ? Radiation stability ~1ppm(10kJ/cm2) 掩膜 X射線光刻機 （ Stepper） 抗蝕劑 圖形 ?一些結果 抗蝕劑圖形 ? LIGA 技術 (Lithographie, Galvanoformung, Abformung) 制作三維立體微結構元件 X射線光刻技術 極大高寬比抗蝕劑圖形 LIGA技術使得構造任意形狀側面的微結構集成系統(tǒng) – 結構的尺度可達幾百 ?m – 總體精確度可保證在 ?m和亞 ?m量級 – 使用的材料可以是金屬，塑料，陶瓷以及它們的組合 – LIGA技術的應用范圍復蓋各種不同技術領域 范圍： 微型機械，顯微
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