【正文】 度 (℃) ： 環(huán)境溫度 三、界區(qū)公用工程蒸氣 (1) 壓力(kPaG) 最大 ：350 最小 ： 300 (2) 溫度 (℃) ：飽和 一次水 供給壓力 ：300KPaG 溫度 ：常溫 3 、電源 AC380V+5/10% 3 相 50Hz177。1%AC35KV＋5/10% 3相 50Hz177。氫氧化鈉的物理性質(zhì)： 固體燒堿呈白色，有光澤，可以做成桶堿、片堿和粒堿。純氫氧化鈉是白色易潮解的固體，能溶于水，溶化時(shí)放出高熱， NaOH水溶液有滑膩感，呈堿性，具有極強(qiáng)的腐蝕性，對(duì)皮膚侵蝕力很大?！妫?20/4℃)，沸點(diǎn)1390℃，℃(19100℃)、℃（熔融態(tài)），（320℃）、（400℃），粘度Cp （350℃）、（450℃），℃（400℃），（739℃），相對(duì)密度（水=1）。 氫氧化鈉水溶液呈堿性，能使紫色石蕊變蘭，使無(wú)色的酚酞變紅。對(duì)鎳、銀、金、鉑等無(wú)腐蝕性，在高濃度高溫時(shí)，對(duì)鋼鐵有嚴(yán)重的腐蝕作用，濃度越高，腐蝕越強(qiáng)。：氫氧化鈉對(duì)含有二氧化硅的玻璃、陶器、瓷器等均有腐蝕作用生成硅酸鈉：2NaOH+SiO2=Na2SiO3+H2O由此可知?dú)溲趸c溶液可浸蝕陶瓷、玻璃、石英玻璃等材料制成的容器，因此應(yīng)用鐵、不銹鋼、鎳等材料制作容器。主要成分NaOH ： 32~33 wt% NaCl ：≤ 40 wt PPmNaClO3 ： ≤ 10 wt PPm Fe2O3 ： ≤ 3 wt PPmNa2CO3 ： ≤ 400 wt PPm二、 氯氣（在界區(qū)） (1)主要成分（干基無(wú)空氣） Cl2 ： ≥ vol% O2 ： ≤ vol% H2 ： ≤ vol% (2)出界區(qū) (a) 溫度 ： 82~90 ℃ (b) 壓力 ： 約0 mmAq （在電解槽處）三、 氫氣（在界區(qū)） (1)主要成分（干基無(wú)空氣） H2 ： ≥ vol% 濕度 ： 飽和(2)出界區(qū) (a) 溫度 ： 82~90℃ (b) 壓力 ： 在電解槽處約為350mmH2O四、 回收鹽水 脫氯后淡鹽水 (1)主要成分 NaCl ： 200177。經(jīng)管道混合器充分混合均勻，經(jīng)在線PH分析檢測(cè)為9后進(jìn)入過(guò)濾精鹽水槽(V1402)，液位控制在～40％以上，然后通過(guò)過(guò)濾精鹽水泵（P1402A/B）輸送至過(guò)濾鹽水換熱器(E1401)將過(guò)濾鹽水加熱到大約60℃，根據(jù)鹽水中游離氯的含量，適量加入Na2SO3溶液，控制游離氯的含量為0，然后輸送至螯合樹(shù)脂吸附工序。過(guò)濾精鹽水泵（P1402A/B）在過(guò)濾精鹽水槽(V1402)液位出現(xiàn)低低報(bào)（～13％）時(shí)自動(dòng)停止運(yùn)轉(zhuǎn)。2酸泵（P1409）將鹽酸輸送至再生酸貯槽(V1504)中，用于樹(shù)脂再生。150工序螯合樹(shù)脂吸附在螯合樹(shù)脂吸附工序中，過(guò)濾鹽水經(jīng)過(guò)樹(shù)脂層，鹽水中的微量雜質(zhì)如鈣、鎂被吸附在樹(shù)脂上，鹽水得到精制，鹽水流量通過(guò)FICA1508控制，調(diào)節(jié)閥FV1508和超純鹽水槽(V1501)液位實(shí)行串極調(diào)節(jié)，來(lái)自螯合樹(shù)脂塔的超純鹽水經(jīng)樹(shù)脂捕集器（F1501）除去破碎樹(shù)脂顆粒，來(lái)自1酸泵（P1408A/B）的31%HCl（ m3/h）按比例加入脫水稀釋至15～20％后，加入到過(guò)濾精鹽水管道中調(diào)節(jié)PH至5后進(jìn)入超純鹽水槽(V1501)，PH為在線檢測(cè)。用超純鹽水泵(P1501A/B)將超純鹽水送至電解槽，流量根據(jù)電解槽的反饋信號(hào)，通過(guò)FICA20021~4控制。螯合樹(shù)脂再生廢水的處理：來(lái)自樹(shù)脂再生的廢水含有很強(qiáng)的酸性或堿性，通常流入再生廢水地坑(V1502)中，與來(lái)自酸霧吸收器(V1505)的廢水混合后用再生廢水泵（P1502）輸送至廢水處理工序，通過(guò)液位開(kāi)關(guān)LS1504控制廢水泵的運(yùn)行（手動(dòng)或自動(dòng)），從而控制地坑的液位在8～84％。淡鹽水脫氯和氯酸鹽分解 淡鹽水脫氯為了去除游離氯，在進(jìn)入脫氯和除氯酸鹽系統(tǒng)前，加入稀鹽酸酸化來(lái)自電解槽（R2001A/C）的淡鹽水，調(diào)節(jié)淡鹽水PH值在2以下后，進(jìn)入淡鹽水槽（V2001）中，控制液位在60％。淡鹽水一部分去氯酸鹽分解槽(V1603)除去淡鹽水中的ClO3后進(jìn)入氯水槽（V1605），一部分去脫氯塔(T1601)去除淡鹽水中的游離氯。脫氯工序的反應(yīng)原理見(jiàn)如下化學(xué)反應(yīng)方程式。在脫氯塔(T1601)中，通過(guò)真空泵(P1601A/B)控制真空度為270 torr，并與真空調(diào)節(jié)閥PV1601實(shí)行串極調(diào)節(jié)，從淡鹽水中分解游離氯與氯氣的分壓相平衡。經(jīng)過(guò)真空脫氯后的淡鹽水需進(jìn)行化學(xué)脫氯，在送出界區(qū)的脫氯淡鹽水泵（P1602A/B）進(jìn)口管道中加入32% NaOH和10% 亞硫酸鈉 (Na2SO3)溶液，除去余氯后出界區(qū)。脫氯塔(T1601)的液位通過(guò)液位控制系統(tǒng)LICA1603控制，保持其液位在60％。加入10％ Na2SO3溶液后，用ORP計(jì)AIA1604可以監(jiān)測(cè)鹽水中的游離氯。在NaClO3 分解槽 (V1603)通入蒸汽和裝置空氣使淡鹽水充分鼓動(dòng)，然后靠重力作用，分解后的淡鹽水進(jìn)入氯水槽(V1605)中。電解工序（1）陽(yáng)極系統(tǒng)來(lái)自超純鹽水槽(V1501)的超純鹽水加酸后輸送到各電解槽中，然后分布到各陽(yáng)極室分解成氯氣和鈉離子。從每個(gè)陽(yáng)極室出來(lái)的淡鹽水和濕氯氣兩相，進(jìn)入安裝在每個(gè)電解槽上的集液分離裝置，在此實(shí)現(xiàn)淡鹽水和氯氣分離。在來(lái)自電解槽的淡鹽水中加入鹽酸，加入量經(jīng)一個(gè)HCl流量控制器(FICA2005)調(diào)節(jié)到淡鹽水的PH為2。來(lái)自陽(yáng)極液收集系統(tǒng)的部分淡鹽水經(jīng)淡鹽水泵（P2001A/B）被輸送到脫氯和氯酸鹽分解工序，淡鹽水槽（V2001）液位通過(guò)液位控制器(LICA2003)控制，另一部分返回到電解，與新鮮的超純鹽水混合后進(jìn)入電解槽。（V2003B）液封高度為120mmH2O，當(dāng)氯氣負(fù)壓過(guò)高時(shí)（大于120mmH2O），外部空氣進(jìn)入維持壓力在正常水平。開(kāi)車(chē)時(shí)，按離子膜要求調(diào)節(jié)陽(yáng)極液濃度。一部分直接送至片堿工序，余下部分作為成品堿經(jīng)成品堿冷卻器（E2002）冷卻到～45℃后送出界區(qū)。從分離器出來(lái)的堿液通過(guò)支管和總管，靠靜壓力進(jìn)入陰極液循環(huán)槽（V2002）中，同時(shí)氫氣通過(guò)支管和總管被送至H2處理工序。開(kāi)車(chē)時(shí)換熱器對(duì)電解槽的電解液進(jìn)行加熱，使其在電壓不過(guò)高的前提下達(dá)到最大電流負(fù)荷。為平衡氫氣壓力和開(kāi)停車(chē)充氮?dú)猓跉錃饪偣苌显O(shè)置了氫氣防空槽（V2004），液封高度為500mm。流量顯示若超純鹽水的供給意外打亂，繼續(xù)電解后的電解液氯化鈉濃度會(huì)降低，最后低于離子膜所允許的極限條件，將導(dǎo)致離子膜的損壞。管道接地在每臺(tái)槽原料鹽水管道上設(shè)置Ti+DSA制 (MA2001A/D犧牲電極)的接地，防止金屬材料的電腐蝕，避免因?yàn)殡娢徊钜痣s散電流，使鹽水流量控制系統(tǒng)出現(xiàn)顯示錯(cuò)誤。(以及在電槽維護(hù)時(shí)，稀釋陽(yáng)極液)二、循環(huán)鹽水流量控制返回鹽水設(shè)置了一個(gè)帶顯示的流量控制系統(tǒng)(FICA2015)，并提供低報(bào)警。為了防止流體回流和排放時(shí)損壞止回閥，在P2001 A/B 都停止運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，DCS將聯(lián)鎖流量控制閥(FV2015)故障關(guān)閉。三、單槽原料堿液流量控制在單槽原料堿液管道上設(shè)置一個(gè)帶高報(bào)和低報(bào)的流量控制系統(tǒng)(FICA2008 1/4)，保持堿液流量為恒定。為了避免離子膜損壞，流量顯示器在流量低低報(bào)時(shí)給出一個(gè)報(bào)警，DCS聯(lián)鎖開(kāi)關(guān)在流量低低報(bào)時(shí)關(guān)閉整流器。成品堿流量用一個(gè)流量集成器(FRQ2012)進(jìn)行監(jiān)控和累計(jì)。管道接地在每臺(tái)電解槽原料燒堿液管道和返回?zé)龎A液總管上設(shè)置了鎳制的管道接地裝置(MA2002A/D, 2004A/D犧牲電極)，保護(hù)金屬材料免受電化學(xué)腐蝕，避免因?yàn)殡娢徊钜痣娏髌疲箚尾墼蠠龎A液流量控制系統(tǒng)出現(xiàn)顯示錯(cuò)誤。通過(guò)溫度控制系統(tǒng)(TICA2007)，TV2007進(jìn)行加熱或冷卻操作。當(dāng)所有的整流器停止或原料燒堿液流量為低低時(shí)，DCS聯(lián)鎖關(guān)閉TV2007。燒堿液濃度控制加入到返回堿液的脫鹽水流量用流量控制系統(tǒng)(FICA2006)控制，確保電解槽出口的堿液濃度大約為32 wt%。如果所有整流器停止運(yùn)行，DCS聯(lián)鎖關(guān)閉流量控制閥(FV2006)。LICA2010在低低位時(shí)，DCS聯(lián)鎖將停止燒堿液循環(huán)泵(P2002A/B)，保護(hù)機(jī)泵不受機(jī)械損傷。燒堿液循環(huán)泵對(duì)于燒堿液的循環(huán)，配備一臺(tái)備用泵，一旦主機(jī)故障，手動(dòng)啟動(dòng)備機(jī)。燒堿液密度用帶高低報(bào)警的密度計(jì)(AIA2006)，檢測(cè)成品堿液濃度，用于監(jiān)測(cè)異常運(yùn)行條件。為了防止流體回流和排放時(shí)損壞止回閥，在P2002 A/B 都停止運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，DCS將聯(lián)鎖流量控制閥FV20081/4故障關(guān)閉。當(dāng)LS2003高高報(bào)時(shí)，DCS將關(guān)閉流量控制閥(FV20021/4)，防止陽(yáng)極液循環(huán)槽液位在高高時(shí)溢流。在LICA2003液位低低報(bào)時(shí)，DCS聯(lián)鎖將停止淡鹽水泵(P2001A/B)，防止機(jī)泵的機(jī)械損傷。淡鹽水PH值在HC1添加管道上，設(shè)置一個(gè)帶高低報(bào)警的流量控制系統(tǒng)(FICA2005)，維持HC1流量為恒定值。用帶高低報(bào)警的PH檢測(cè)儀測(cè)定淡鹽水PH，監(jiān)測(cè)異常運(yùn)行狀態(tài)。五、氯氣和氫氣調(diào)節(jié)C12 和H2的壓力，可以防止離子膜的機(jī)械損傷，延長(zhǎng)離子膜的使用壽命，提高離子膜性能。避免壓力過(guò)高。0mmWC和+350mmWC。如果在Cl2總管上設(shè)定的Cl2壓力值出現(xiàn)高高報(bào)警，DCS聯(lián)鎖停止所有的整流器。如果壓差達(dá)到設(shè)定值的高高報(bào)警或低低報(bào)警，DCS聯(lián)鎖停止所有的整流器，因?yàn)閴翰町惓？赡軙?huì)造成離子膜的機(jī)械損傷，或性能衰減。設(shè)置一個(gè)帶壓力高低報(bào)警的壓力顯示器(PIA2001B)，監(jiān)控H2總管的壓力。氯氣負(fù)壓波動(dòng)設(shè)置的2氯氣密封槽(V2003B)用于消除氣相出現(xiàn)的過(guò)高負(fù)壓，密封水深度維持在120 mmH2O。開(kāi)車(chē)期間，手動(dòng)打開(kāi)閥門(mén)用于防止氫氣燃燒而加入的氮?dú)?，通過(guò)氫氣排放槽排放至大氣中。六、流出物電解工序的流出物連接至地坑，并用泵輸送至廢水處理裝置。當(dāng)電解槽電壓出現(xiàn)高高報(bào)警時(shí)，DCS聯(lián)鎖停止整流器。5℃1/班（陽(yáng)極液）1)成分NaCl在P2001A/B190~210g/l*1210g/l*1180g/l*11/8小時(shí)NaClO3在P2001A/B3g/l*15gpl*11/8小時(shí)pH在P2001A/B2pHAVCl2在P2001A/B~3g/l3g/l1/8小時(shí)Ni在P2001A/B在開(kāi)車(chē)時(shí)2)液位LICA2003LG20011)成分NaCl在分歧管190~210 g/l*1210 g/l*1180g/l*11/天NaClO3在分歧管3g/l*15 g/l*11/天pH在分歧管4177。%%%1/8小時(shí)NaOH濃度在LV201032177。%%%1/天NaCl/NaOH在分歧管40 ppm40 ppm1/天NaClO3/NaOH在分歧管10 ppm10 ppm1/天Fe/NaOH在分歧管 ppm1 ppm1/周溢流在陰極液出口等量分布，均勻溢流1/小時(shí)溫度TIA20901/0481~88℃90℃80℃1/班6. 氯氣1)壓力PIA2001A10 mm WC100mm WC50mm WC1/4小時(shí)2)成分Cl2樣品管口98~99vol%1/班O2/Cl2樣品管口 vol%1/班H2/Cl2樣品管口 vol%%1/班N2/Cl2樣品管口1/班CO2/Cl2樣品管口1/班 每臺(tái)電解槽1)壓力在分歧管0 mm WC100mm WC50mm WC1/4小時(shí)2)成份Cl2在分歧管98~99vol%1/天O2/Cl2在分歧管 vol%1/天H2/Cl2在分歧管%%1/天1)壓力PIA2001B350mm WC500mm WC200mm WC1/4小時(shí)2)成分O2/H2樣品管口%1/周N2/H2樣品管口%1/周 每臺(tái)電解槽1)壓力350mm WC500mm WC200mm WC1/4小時(shí)PH2PCl2PdIA2002A/B350mmWC500mmWC100mmWC1/4小時(shí)1)流量FICA2006( kA)1/4小時(shí)2)電導(dǎo)率在FICA2006≥1105Ωcm1105Ωcm1/天Fe (以Fe計(jì))≤ wt ppmSiO2 (以Si