電子顯微鏡修改ppt課件-在線瀏覽
2025-03-04 04:39本頁面
【正文】 的成分像（ a）和形貌像（ b）6. 掃描電子顯微鏡的主要性能分辨率 景深 l 對微區(qū)成分分析而言，它是指能分析的最小區(qū)域；對成像而言，它是指能分辨兩點之間的最小距離。 X射線的深度和廣度都遠較背反射電子的發(fā)射范圍大，所以 X射線圖像的分辨率遠低于二次電子像和背反射電子像。 l 掃描電鏡的景深為 比一般光學(xué)顯微鏡景深大 100500倍，比透射電鏡的景深大 10 倍。l 對于非導(dǎo)電樣品如塑料、礦物等，在電子束作用下會產(chǎn)生電荷堆積，影響入射電子束斑和樣品發(fā)射的二次電子運動軌跡，使圖像質(zhì)量下降。 8. 掃描電鏡應(yīng)用實例l 斷口形貌分析l 納米材料形貌分析l 在微電子工業(yè)方面的應(yīng)用 1018號鋼在不同溫度下的斷口形貌 斷口形貌分析ZnO納米線的二次電子圖像 多孔氧化鋁模板制備的金納米線的形貌（ a）低倍像（ b）高倍像（ a）芯片導(dǎo)線的表面形貌圖， （ b） CCD相機的光電二極管剖面圖。1. 電子光學(xué)系統(tǒng)作用 ：獲得掃描電子束。 主要包括：用于形成光柵狀掃描的 掃描系統(tǒng) ，以及使樣品上的電子束間斷性消隱或截斷的 偏轉(zhuǎn)系統(tǒng) 。電子束在樣品表面進行的掃描方式(a)光柵掃描 (b)角光柵掃描39 3．信號檢測放大系統(tǒng) p 作用 ：收集 (探測 )樣品在入射電子束作用下產(chǎn)生的各種物理信號，并進行放大。 p 二次電子、背散射電子和透射電子的信號都可采用 閃爍計數(shù)器 來進行檢測。具有低噪聲、寬頻帶 (10Hz~1MHz)、高增益 (106)等特點 40 3．信號檢測放大系統(tǒng) p 信號電子進入閃爍體后即引起電離，當(dāng)離子和自由電子復(fù)合后就產(chǎn)生可見光。 （ 1）． 放大倍數(shù) 熒光屏上的掃描振幅 電子束在樣品上的掃描振幅 放大倍數(shù)與掃描面積的關(guān)系： (若熒光屏畫面面積為 10 10cm2) 放大倍數(shù) 掃描面積 10 (1cm) 2 100 (1mm) 2 1,000 (100μm) 2 10,000 (10μm) 2 100,000 (1μm) 24. SEM的主要性能指標42 4. SEM的主要性能指標（ 2） 分辨率 ： 樣品上可以分辨的兩個鄰近的質(zhì)點或線條間的距離。 影響 SEM圖像分辨率的主要因素有 ： ① 掃描電子束斑直徑 ； ② 入射電子束在樣品中的擴展效應(yīng)； ③ 操作方式及其所用的調(diào)制信號； ④ 信號噪音比； ⑤ 雜散磁場； ⑥ 機械振動將引起束斑漂流等，使分辨率下降。 43 4. SEM的主要性能指標（ 2） 分辨率 ： 樣品上可以分辨的兩個鄰近的質(zhì)點或線條間 的距離。 影響 SEM圖像分辨率的主要因素有 ： ① 掃描電子束斑直徑 ； ② 入射電子束在樣品中的擴展效應(yīng)； ③ 信號噪音比； ④ 雜散磁場； ⑤ 機械振動將引起束斑漂流等，使分辨率下降。 p SEM可以用二次電子、背散射電子、吸收電子、特征 X射線（帶 EDS或 WDS）、俄歇電子（單獨的俄歇電子能譜儀）等信號成像。 p 影響二次電子產(chǎn)額的因素主要 有： (1)入射電子的能量； (2)材料的原子序數(shù)； (3)樣品傾斜角 ?。 通常所指的掃描電鏡的分辨率，就是指二次電子像的分辨率。元素像形貌像形貌與元素象的分離形貌與元素象的分離52 二次電子運動軌跡 背散射電子運動軌跡二次電子像的分辨率高、景深大，為什么？樣品制備樣品制備l 一般玻璃材料，纖維材料，高分子材料以及陶瓷材料幾乎都是非導(dǎo)電性的物質(zhì)。l 在樣品表面鍍金屬層不僅可以防止荷電現(xiàn)象，換可以減輕由電子束引起的樣品表面損傷；增加二次電子的產(chǎn)率，提高圖像的清晰度；并可
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