【正文】 e of Modern Optics, Nankai University, Tianjin 300071, PR ChinacDefence Research and Development Canada – Valcartier, 2459 PieXI Blvd North, Qu233。nie physique et d’optique, Universit233。bergea, c, A. Azarma, . Daiglea and . China aCentre d’Optique, Photonique et Laser (COPL) and D233。[13] M. Turner, N. Brimhall, M. Ware and J. Peatross, Opt. Lett. 32 (2007), p. 2709. [14] W. Liu and . Chin, Opt. Express 13 (2005), p. 5750. [15] . Xu, J. Bernhardt, P. Mathieu, G. Roy and . Chin, J. Appl. Phys. 101 (2007), p. 033124. [16] . Marburger, Prog. Quantum Electron. 4 (1975), p. 35. [17] . Radziemski, . Loree, . Cremers and . Hoffman, Anal. Chem. 55 (1983), p. 1246. [18] V. Milosavljevi? and S. Djeniz?e, Astron. Astrophys. 393 (2002), p. 721. [19] NIST, (2007). [20] . Griem, Plasma Spectroscopy, McGraw Hill, New York (1964). Critical power for selffocussing of a femtosecond laserrer, N. Zhavoronkov and G. Steinmeyer, Phys. Rev. E 74 (2006), p. 056604. [8] A. Suda, M. Hatayama, K. Nagasaka and K. Midorikawa, Appl. Phys. Lett. 86 (2005), p. 111116. [9] M. Nurhuda, A. Suda and K. Midorikawa, J. Opt. Soc. Am. B 23 (2006), p. 1946. [10] . Painter, M. Adams, N. Brimhall, E. Christensen, G. Giraud, N. Powers, M. Turner, M. Ware and J. Peatross, Opt. Lett. 31 (2006), p. 3471. [11] . Nibbering, G. Grillon, . Franco, . Prade and A. Mysyrowicz, J. Opt. Soc. Am. B 14 (1997), p. 650. zbek, W. Liu, A. Becker and . Chin, Phys. Rev. Lett. 97 (2006), p. 023904. [6] A. Couairon, M. Franco, A. Mysyrowicz, J. Biegert and U. Keller, Opt. Lett. 30 (2005), p. 2657. [7] S. Skupin, G. Stibenz, L. Berg233。激光外文文獻翻譯+參考文獻參考文獻[1] . Hauri, W. Kornelis, . Helbing, A. Heinrich, A. Couairon, A. Mysyrowicz, J. Biegert and U. Keller, Appl. Phys. B 79 (2004), p. 673. [2] . Hauri, A. Guandalini, P. Eckle, W. Kornelis, J. Biegert and U. Keller, Opt. Express 13 (2005), p. 7541. [3] G. Steinmeyer and G. Stibenz, Appl. Phys. B 82 (2006), p. 175. [4] G. Stibenz, N. Zhavoronkov and G. Steinmeyer, Opt. Lett. 31 (2006), p. 274. [5] F. Th233。SLC感謝楊百翰大學的Justin ? Peatross的建議和鼓勵，Utah, USA通過他們的經(jīng)驗在高秩序諧波振蕩執(zhí)行臨界功率的當前測量。cois de la Recherche sur la Nature et les Technologies (FQRNT),加拿大研究協(xié)會，加拿大創(chuàng)新機構(CFI)和Canadian Institute for Photonic Innovations (CIPI)的部分幫助，感謝NSFC, NCET和中國全國主要基礎研究發(fā)展方案的幫助。D Canada – Valcartier (DRDC Valcartier), Le Fonds Qu233。臨界功率也用電子密度對于能量和壓力的變化來測量，得到的值（在誤差范圍內(nèi)）與移動焦點的方法獲得的值相同。結論總而言之，用移動焦點的方法測量的氦氣的臨界功率是 。臨界點（35mJ,250托）對應于臨界功率 （脈沖周期：42fs）。在臨界壓力約250托（箭頭所示）之上電子密度以直線的形式顯示取決于壓力。（黑色區(qū)域）數(shù)據(jù)顯示在50—760托范圍內(nèi)以壓力形式表示的電子密度。圖3。 274 GW（脈沖周期：42fs）.注意到電子密度控制在 1017 cm?3（圖2和圖3）。臨界（夾緊）強度是與壓力無關的Icrit≠Icrit(p) [26], [27], [28] 和 [25].因此，在臨界壓力之上電子密度與壓力成線性比例（公式（3））。在臨界壓力250托之上直線段取決于壓力（圖3直線段），這又一次由強度加緊所解釋（見即將出版的[25]）。圖3是在50—760托范圍以壓力形式表示的電子密度。臨界點（25mJ,320托）對應的是臨界功率 （脈沖周期：42飛秒）。電子密度一直傾斜增加到25mJ范圍的臨界能量（連續(xù)直線段）。圖中數(shù)據(jù)（黑色區(qū)域）顯示的是以在163 mJ范圍內(nèi)以能量的型式表示電子密度。圖2。 251 GW（脈沖時間：42fs）,與圖1中測量得到的數(shù)據(jù)一致。這現(xiàn)象是典型的強度夾緊，在[22], [23], [24] 和[21]中有詳細討論. 非線性折射率與壓力成正比例關系。壓力固定在320托。注意到斯塔克展寬[20]以前曾應用于在氣體媒介中的等離子（[21]和其中參考）。（1s2p3P176。這個值基本上和上面被援引的值相等[11]。代入公式。Marburger的公式[16](1)式中λ是中央波長，n0和n2是線性和非線性折射率。(圖1)對應的是 （1amt） 268GW（脈沖周期：42fs）的臨界功率。注意到在這情況下等離子的密度是非常高的，大于 （見如下）。后者的轉(zhuǎn)移歸結于高密度的等離子在線性焦點區(qū)域部分地阻攔激光脈沖的通過。 （脈沖周期：42飛秒）。壓力是固定的在1 atm。垂直軸在ICCD芯片單元映像點。 高等教育出版社1292激光外文文獻翻譯+參考文獻圖1 氦的臨界功率。 北京機床所[19]模具設計與制造 廣西工學院報[18]JCS33系統(tǒng)使用說明書 肖安定主編 華南理工大學出版社[17]LMC2000型激光加工中心 林遠艷 閆毓禾主編[16]機械設計基礎課程設計指導 上海激光研究所[15]高功率激光加工及其應用 中國標準出版社[13]機械傳動裝置設計手冊 高等教育出版社[12]機械制圖 機械工業(yè)出版社[11]機械設計 黃筱調(diào) 高等教育出版社[10]機電一體化技術基礎及應用 肖安定 馮樹強主編 王愛玲主編[9]HPL2000型激光器使用說明書 李適民主編[8]現(xiàn)代機床結構與設計 清華大學出版社[7]激光原理與設計 姚建銓主編 王昆 何小柏 汪信遠主編 廉國元主編[3]《數(shù)字控制機床》 機械工業(yè)出版社出版[2]加工中心設計與應用參 考 文 獻在圖1中可以看見峰值位置隨著功率的增加朝聚焦透鏡移得越近。 峰值位置從熒光軸距離切削映像點ICCD單位的高斯配件得到補償[14]。 結果和討論圖1是熒光信號以在345mJ范圍內(nèi)以能量的形式顯示的峰值位置線性日志。偵查窗口在激光等離子相互作用后以零延遲打開。分散的熒光用放大的CCD (ICCD，普林斯頓儀器最大Pi為512)檢波。(裂紋寬度：一條唯一的細絲被核實出現(xiàn)了。脈沖在房間里面生成了等離子體線柱。脈沖( )被聚焦進入一個充滿壓力可能從50托變化到1 atm的純凈的氦氣氣體的空氣室內(nèi)。同時，臨界功率從電子密度得到了，取決于夾緊過程的強度，像測量能量