【摘要】半導(dǎo)體器件可靠性與失效分析2023-2023-1教材:付桂翠,陳穎等,北京航空航天大學(xué)出版社,2023年7月第一版.(普通高?!笆晃濉币?guī)劃教材)參考書:1.孔學(xué)東,恩云飛,,國防工業(yè)出版社,2023年9
2025-01-05 06:13
【摘要】現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝天津工業(yè)大學(xué)光電器件1光電器件現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝PhysicsandTechnologyofModernSemiconductorDevices現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝天津工業(yè)大學(xué)光電器件2本章內(nèi)容?輻射躍遷與光的吸收?發(fā)光二極管?半導(dǎo)體激光?光
2025-01-23 10:23
【摘要】第三章雙極結(jié)型晶體管●雙極結(jié)型晶體管的結(jié)構(gòu)●基本工作原理●理想雙極結(jié)型晶體管中的電流傳輸●愛伯斯-莫爾方程●緩變基區(qū)晶體管●基區(qū)擴(kuò)展電阻和電流密聚●基區(qū)寬度調(diào)變效應(yīng)●晶體管的頻率響應(yīng)●混接型等效電路●晶體管的開關(guān)特性●擊穿電壓●P-N-P-N結(jié)構(gòu)●異質(zhì)結(jié)雙極晶體管
2025-05-15 12:47
【摘要】第七章雙極型晶體管?基本結(jié)構(gòu)?載流子流動(dòng)情況及工作原理?理想晶體管的直流輸入輸出特性?二級(jí)效應(yīng)?擊穿特性?高頻特性?開關(guān)特性?晶體管模型雙極型晶體管的結(jié)構(gòu)n+pnEBC發(fā)射區(qū)基區(qū)集電區(qū)p+npEBC發(fā)射區(qū)基區(qū)集電區(qū)
2025-05-08 05:33
【摘要】第五章結(jié)?平衡態(tài)PN結(jié);?PN結(jié)的伏安特性;?PN結(jié)的電容;?PN結(jié)的擊穿特性;?PN結(jié)二極管的開關(guān)特性;?金-半肖特基接觸和歐姆接觸;?異質(zhì)結(jié):半導(dǎo)體器件的基本結(jié)構(gòu)-PN結(jié)、金半結(jié)和異質(zhì)結(jié)PN結(jié)空間電荷區(qū)?由于PN結(jié)兩邊載流子濃度不同造成載流子擴(kuò)散運(yùn)動(dòng),載
2025-05-08 05:53
【摘要】海南風(fēng)光第14講,P型硅,N型硅PN結(jié)及半導(dǎo)體二極管穩(wěn)壓二極管半導(dǎo)體三極管第10章半導(dǎo)體器件本征半導(dǎo)體現(xiàn)代電子學(xué)中,用的最多的半導(dǎo)體是硅和鍺,它們的最外層電子(價(jià)電子)都是四個(gè)。Si硅原子Ge鍺原子§半導(dǎo)體的基本知識(shí)通過一定的
2025-03-16 23:13
【摘要】第三章晶閘管§普通晶閘管Thyristor硅可控整流器,可控硅,SCR。一、結(jié)構(gòu):四層PNPN結(jié)構(gòu),三端器件符號(hào)正向阻斷:A—K接正電壓,J2反偏,漏電流很小。反向阻斷:A—K接負(fù)電壓,J1,J3反偏,漏電流很小。等效電路:由PN
2025-05-09 01:43
【摘要】第六章可關(guān)斷晶閘管(GTO)特點(diǎn):是SCR的一種派生器件;具有SCR的全部?jī)?yōu)點(diǎn),耐壓高、電流大、耐浪涌能力強(qiáng),造價(jià)便宜;為全控型器件,工作頻率高,控制功率小,線路簡(jiǎn)單,使用方便?!霨TO結(jié)構(gòu)及工作原理GateTurn-offThyristor——GTO一、結(jié)構(gòu):四層PNPN結(jié)構(gòu),三端器件;特點(diǎn):①
2025-05-10 06:14
【摘要】第四章電力晶體管§GTR結(jié)構(gòu)雙極型大功率、高反壓晶體管——GTR(巨型晶體管)GiantTransistor三層半導(dǎo)體材料,兩個(gè)PN結(jié)(NPN型、PNP型)。一、工藝特點(diǎn)三重?cái)U(kuò)散;叉指型基極和發(fā)射極;特點(diǎn):發(fā)射區(qū)高濃度摻雜基區(qū)很薄(幾u(yù)m—幾十um)N-摻雜
【摘要】第八章MOSFET?MOSFET的類型?閾值電壓?直流輸出特性?跨導(dǎo)?擊穿?高頻特性?開關(guān)特性?倒相器?二級(jí)效應(yīng)MOSFET結(jié)構(gòu)示意圖()pn或耗盡型增強(qiáng)型增強(qiáng)型:柵極不加電壓時(shí)表面沒有溝道,源和漏之間不導(dǎo)通。柵極加
2025-05-21 23:29
【摘要】現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長(zhǎng)和外延1晶體生長(zhǎng)和外延現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝PhysicsandTechnologyofModernSemiconductorDevices2023,7,30現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長(zhǎng)和外延2晶體生長(zhǎng)與外延對(duì)分立器件而言,最重要的半導(dǎo)
2025-01-29 03:14
【摘要】?復(fù)旦大學(xué)微電子研究院?包宗明?集半導(dǎo)體物理、器件和工藝導(dǎo)論(第一部分)半導(dǎo)體物理和半導(dǎo)體器件物理第一章重點(diǎn)內(nèi)容?晶體中的一個(gè)電子受到晶體內(nèi)部的原子和其他許多電子的作用,所以在外力作用下的運(yùn)動(dòng)規(guī)律和自由電子不同。量子力學(xué)計(jì)算表明引入電子有效質(zhì)量就可以用經(jīng)典力學(xué)的方法來處理單晶中電子行為。?半導(dǎo)體單晶中原子
2025-02-24 00:20
【摘要】半導(dǎo)體器件原理與工藝半導(dǎo)體器件原理與工藝?概述?半導(dǎo)體襯底?熱氧化?擴(kuò)散?離子注入?光刻?刻蝕?薄膜淀積?CMOS半導(dǎo)體器件原理與工藝摻雜摻雜擴(kuò)散離子注入擴(kuò)散的基本原理擴(kuò)散方法擴(kuò)散層的主要參數(shù)及檢測(cè)離子注
2025-03-02 15:11
【摘要】RuHuang,ime,PKU1半導(dǎo)體器件與工藝2022年8月RuHuang,ime,PKU2?半導(dǎo)體器件?IC的基礎(chǔ)?數(shù)字集成電路建庫等?模擬集成電路、射頻集成電路設(shè)計(jì)?側(cè)重工作原理、特性分析、模型RuHuang,ime,PKU3半導(dǎo)體器件方面的課程內(nèi)容
2025-05-15 12:44
【摘要】雙極型晶體管哈爾濱工程大學(xué)微電子學(xué)半導(dǎo)體器件與工藝雙極型晶體管?晶體管的基本結(jié)構(gòu)和分類雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?均勻基
2025-01-21 09:19