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正文內(nèi)容

pecvd等離子的基本原理-文庫(kù)吧資料

2025-01-31 04:37本頁(yè)面
  

【正文】 統(tǒng)的金屬外殼,四進(jìn)四出并有一個(gè)主管道,可適量調(diào)節(jié)流量大小。 ? 抽風(fēng)系統(tǒng):位于晶片裝載區(qū)上方,初步的冷卻石墨舟和一定程度的過(guò)濾殘余氣體 ? SLS系統(tǒng):軟著落系統(tǒng),控制槳的上下,移動(dòng)范圍在 2— 3厘米 PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) 爐體:石英管、加熱系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng) ? 石英管:爐體內(nèi)有四根石英管,是鍍膜的作業(yè)區(qū)域,耐高溫、防反應(yīng)。作用是將石墨舟放入或取出石英管。 PECVD的原理 PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) ? 晶片裝載區(qū) ? 爐體 ? 特氣柜 ? 真空系統(tǒng) ? 控制系統(tǒng) PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖 晶片裝載區(qū):槳、 LIFT、抽風(fēng)系統(tǒng)、 SLS系統(tǒng)。 ? Si3N4的優(yōu)點(diǎn): 優(yōu)良的表面鈍化效果高效的光學(xué)減反射性能(厚度折射率匹配)低溫工藝(有效降低成本) 反應(yīng)生成的 H離子對(duì)硅片表面進(jìn)行鈍化 . PECVD的原理及作用 ? 物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì) : 結(jié)構(gòu)致密,硬度大 能抵御堿、金屬離子的侵蝕 介電強(qiáng)度高
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