【正文】 op Stripper Etching Flipper HP (post bake) B/F Slit Coater B/F Flipper HP (pre bake) B/F ULD World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 36 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay 黃光設(shè)備功能簡(jiǎn)介 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 37 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay Cleaner (溼式洗淨(jìng) ) Brush Area 毛刷洗淨(jìng) Jetspray 噴射灑水 (DIW1) MS 超高音波 (DIW2) Air Knife 空氣刀 基板行進(jìn)方向 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 38 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay Detergent Cleaner DETERGENT . AREA . 1 BRUSH AREA . 2 AIR KNIFE . TANK 上方噴嘴 下方噴嘴 AIR FILTER DRAIN DRAIN 廠務(wù)端 廠務(wù)給水 廠務(wù)端壓縮空氣 (CDA) 廠務(wù)給水 DETERGENT TANK UNIT DETERGENT TANK UNIT DRAIN ALKALINE 鹼性排氣 給水方向 排水方向 壓縮空氣方向 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 39 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay DIW Cleaner . WATER TANK 廠務(wù)給水 DRAIN 上方噴嘴 下方噴嘴 DRY CHAMBER . 2 . 1 . BRUSH DRAIN(2) AIR FILTER 廠務(wù)端壓縮空氣 (CDA) WET 濕氣排氣 給水方向 排水方向 壓縮空氣方向 WET 濕氣排氣 DRAIN(1) WET 濕氣排氣 (1) (1) (1) (2) BRUSH SHOWER (B) (B) (A) (C) 排水氣 BRUSH World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 40 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay Brush Area 基板可藉由刷洗的程序除去較大粒徑的異物 (?100μm) 。 Pattern Forming Glass Substrate World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 34 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay 黃光工程基本概念 Positive Type Photo Resist Resist Coating Exposure amp。O環(huán)損壞或未裝 ) ? 背板有坑洞傷痕 ? 靶材未裝好或鐵弗龍框架變形， O環(huán)不潔或受損 ? 腔室 上之 O環(huán)不潔或受損 ? 清機(jī)後東西未收拾完全 (如無塵布留在 腔室 … 等 ) ? 設(shè)備工程師保養(yǎng)不妥善 ? 背板 漏水 ? 其他 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 31 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay 黃光技術(shù)簡(jiǎn)介 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 32 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay 綱要 黃光工程基本概念 黃光製程流程簡(jiǎn)介 黃光設(shè)備功能簡(jiǎn)介 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 33 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay 黃光工程基本概念 Negative Type Photo Resist Resist Coating Exposure amp。 5 %檢查World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 19 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay ? ITO = Indium Tin Oxide ? 90 wt. % In2O310 wt.% SnO2 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 20 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay ITO 靶材製造流程 原料 (In2O3 粉末 + SnO2 粉末 ) 最終製品檢查 粘著 加工 燒結(jié) 混合造粒 成形 秤量 脫脂 真空包裝 出貨 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 21 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay ITO 靶材製程種類 ? MMF 製程法 (Mitsui Membrane Filtration Method) ? CP 製程法 (Cold Press Method) ? HP 製程法 (Hot Press Method) World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 22 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay HP (Hot Press) 製程法 ITO 粉末 (乾式 ) 加熱 加熱 垂直加壓 碳質(zhì)成型框 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 23 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay CP (Cool Press) 製程法 ITO 粉末 (乾式 ) 垂直加壓 不鏽鋼 成型框 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 24 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay MMF (Mitsui Membrane Filter) 製程法 ITO粉末 + DIW (Slurry狀 ) 真空吸引脫水 垂直加壓 過濾膜 Stainless成型框 World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicron 25 NATIONAL QUALITY AWARD 明興光電股份有限公司 UniDisplay ITO 靶材製程種類與密度特性 製程法 密度 (g/cm179。≦ 177。 項(xiàng)目 規(guī)格 項(xiàng)目 規(guī)格 項(xiàng)目 規(guī)格 進(jìn)入 /離開 腔室chamber ≦ 2E02 hPa 轉(zhuǎn)換 腔室 chamber ≦ 5E06 hPa 處理 chamber ≦ 3E06 hPa World Class Quality CONFIDENTIAL Unimicr