微納加工工藝流程-文庫(kù)吧資料
2024-08-07 16:21本頁(yè)面
【正文】 30〞3000rpmSU8 302525℃不詳(不到20%)10〞500rpm2min5min1min3min19μw∕cm178。135sec30〞2000rpmSU8 302524℃24%10〞500rpm2min8min1min5min∕cm178。170sec30〞1000rpmSU8 302524℃21%10〞500rpm2min17min1min9min∕cm178。75sec9μm30〞3500rpmSU8 301023℃46%10〞500rpm1min3min1min2min∕cm178。85sec30〞2500rpmSU8 301022℃52%10〞500rpm1min4min1min2min∕cm178。95sec30〞1500rpmSU8 301024℃20%10〞500rpm1min9min1min3min18μw∕cm178。38sec30〞4000rpm光刻標(biāo)定相關(guān)數(shù)據(jù)（SU8 3010）膠型環(huán)境溫度環(huán)境濕度涂膠轉(zhuǎn)數(shù)(兩步程序)前烘時(shí)間后烘時(shí)間光刻機(jī)光強(qiáng)曝光時(shí)間平均高度65℃95℃65℃95℃SU8 301021℃20%10〞500rpm2min10min1min4min∕cm178。50sec30〞3000rpmSU8 300523℃26%10〞500rpm1min3min1min2min20μw∕cm178。60sec30〞2000rpmSU8 300524℃20%10〞500rpm1min3min1min2min∕cm178。70sec30〞1000rpmSU8 300522℃22%10〞500rpm1min4min1min2min∕cm178。m），分辨率較高，作掩模的耐腐蝕性也很好。它們都有不同的特性，如AZ50的黏度比較大，可以用于制作厚膠模版（1060181。通常原理可用圖3表示：圖3 正光膠的有關(guān)化學(xué)反應(yīng)。該類(lèi)疊氮化物在紫外線照射下分解并重排生成乙烯酮，在潮濕氣氛下進(jìn)一步轉(zhuǎn)化成羧基酸茚。二疊氮化物經(jīng)紫外線曝光發(fā)生分解反應(yīng)，釋放出氮?dú)?，在顯影過(guò)程中無(wú)法再發(fā)生耦合反應(yīng)，而是形成容易被溶解的產(chǎn)物。上述兩種成分在偏酸性緩沖液中則不發(fā)生反應(yīng)。正光膠基于重氮鹽和二疊氮化物的兩個(gè)反應(yīng)。交聯(lián)反應(yīng)形成了致密的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)不溶于顯影液PGMEA中。只有曝光區(qū)域的光膠才含有這樣形成的強(qiáng)酸，未曝光區(qū)域則不含有。高溫下可耐pH值13的堿性溶液的侵蝕。SU8在前烘中有很好的自平整能力。m。溶劑的量決定了黏度，從而也決定了可能的涂覆厚度，不同的型號(hào)可合適做不同的厚度，最常見(jiàn)的是10181。SU8是機(jī)理和材料完全不同的一類(lèi)負(fù)光刻膠。m，所得到的圖形邊緣仍近乎垂直，深寬比可達(dá)50：1。主要特點(diǎn)如下：高機(jī)械強(qiáng)度；高化學(xué)惰
環(huán)評(píng)公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1