淺述蘭煉5萬(wàn)標(biāo)米制氫裝置psa吸附時(shí)間的設(shè)定-文庫(kù)吧資料
2025-05-07 05:06本頁(yè)面
【正文】 1D / E2D T 2 0 1 D A A E1D / E2D PP D P P P E2R E1R /FR FR A A T 2 0 1 E E1R /FR FR A A A A E1D / E2D PP D P P P E2R T 2 0 1 F P P P E2R E1R /FR FR A A A A E1D / E2D PP D T 2 0 1 G E1D / E2D PP D P P P E2R E1R /FR FR A A A A “ 722”程序時(shí)間說(shuō)明 吸附時(shí)間： A = （ T1+T2 ） 2 一均時(shí)間： E1D/E1R = T 3 二均時(shí)間： E2D/E2R = T 2 三均時(shí)間： E3D/E3R = T 1 順?lè)艜r(shí)間： PP = T1 ，順?lè)胚€受順?lè)艍毫刂啤? （ 2 ） T1 T1 須≥ T3 ，且保證三均能均等。 逆放時(shí)間： D = T2 后段 +T1 沖洗時(shí)間： P = T2+T1+T 2 終升時(shí)間： FR = （ T1 T3 ） +T 2 “ 823”程序時(shí)間設(shè)定原則 當(dāng)（ T1+T2 ）確定以后，吸附時(shí)間 A 確定，主要探討如何分配 T1 、T2 、 T3 。 （ 4 ） 終升時(shí)間 FR 終升時(shí)間 FR 由兩部分組成，終升時(shí)間越長(zhǎng)，則終升過(guò)程越平穩(wěn)，實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中應(yīng)滿足終升時(shí)間足夠。 T3 過(guò)小，一均降不能降到位，減少氫氣回收率； T3 過(guò)長(zhǎng)，產(chǎn)品氫會(huì)回充一均降塔，也減少氫氣收率。 （ 1 ） T1 設(shè)定 T1 為三均時(shí)間， T1 的最小值必須保證三均均等，同時(shí) T1 還必須保證一均時(shí)間足夠（即 T1 須≥ T3 ）。 “ 923”程序步序 步序 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 T 201A A A A A E1 D / E2 D E3 D PP D D P P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR T 201B E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP D D P P P P T 201C P P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP D D T 201D E3 D PP D D P P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D T 201E A A E1 D / E2 D E3 D PP D D P P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A T 201F E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP D D P P P P E3 R E2 R T 201G P P E3 R E2 R E1 R/ FR FR A A A A E1 D E2 D E3 D PP D D P P T 201H D D P P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A E1 D / E2 D E3 D PP T 201I E1 D / E2 D E3 D PP D D P P P P E3 R E2 R E1 R / FR FR A A A A “ 923”程序時(shí)間說(shuō)明
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