近紅外光譜nir分析技術的應用(參考版)
2025-06-21 00:51本頁面
【正文】 今后，近紅外光譜檢測分析技術會擁有更廣闊的應用前景。四、結(jié)束語盡管近紅外檢測分析技術目前還有些許不足，但隨著計算機技術、光譜學和化學計量學的快速發(fā)展和相互融合，該技術預測能力及預測精度等將得到進一步提高，建模難度也將進一步下降。 模型傳遞技術尚不成熟。 分析必須要依賴模型，對模型的建立要求較高，投入較大。所以對組分的分析而言，%才適合采用近紅外光譜分析技術。表一圖三三、近紅外光譜分析技術的不足 近紅外光譜分析的靈敏度相對較低，不能用于微量分析。圖二 外部驗證校正模型建立后，除用自身最高交互驗證決定系數(shù)(1VR)和最低SECV值衡量外，還需要用外部檢驗的方法來評價模型的可靠性，以保證模型在實際使用中的效果。以最高交互驗證決定系數(shù)(1VR)和最低SECV值確定最佳校正模型。異常值判斷與剔除是影響模型預測效果的關鍵因素。 2,4,4,1，個數(shù)值依次代表導數(shù)處理階數(shù)，導數(shù)數(shù)據(jù)間隔，平滑點數(shù)及二次平滑點數(shù)。三種去散射處理包括無散射(None)，標準正態(tài)變量校正結(jié)合去除趨勢校正(SNVD)，加權多元去散射校正(WMSC)；三種導數(shù)處理包括1,2,2,1。 擴展校正模型步驟通過掃描光譜與實驗數(shù)據(jù)建立具有數(shù)
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